集尘装置和等离子体设备的制作方法

技术特征：
1.集尘装置，其特征在于，包括：进气通道、沿预定路径延伸的灰尘沉降通道、环绕在所述沉降通道外侧的气流旋转通道、出气通道，以及收集腔；所述气流旋转通道的内侧端与所述灰尘沉降通道连通，所述气流旋转通道的外侧端与所述出气通道连通；所述灰尘沉降通道的上游端与所述进气通道连通，所述灰尘沉降通道的下游端与所述收集腔连通；在所述预定路径的延伸方向上，所述灰尘沉降通道的高度逐渐降低。2.如权利要求1所述的集尘装置，其特征在于，在所述预定路径上，所述灰尘沉降通道的横截面逐渐收窄。3.如权利要求2所述的集尘装置，其特征在于，所述灰尘沉降通道的内表面为锥形表面。4.如权利要求1所述的集尘装置，其特征在于，所述灰尘沉降通道的横截面的边缘为弧线，所述弧线未封闭处对应于所述气流旋转通道的内侧端。5.如权利要求4所述的集尘装置，其特征在于，所述弧线凹向所述灰尘沉降通道内侧。6.如权利要求1所述的集尘装置，其特征在于，所述气流旋转通道呈螺旋状并逐渐向所述灰尘沉降通道外侧延伸。7.如权利要求6所述的集尘装置，其特征在于，还包括螺旋板；所述螺旋板螺旋式环绕在所述灰尘沉降通道外侧，以形成所述气流旋转通道。8.如权利要求7所述的集尘装置，其特征在于，所述预定路径在竖直方向延伸。9.如权利要求8所述的集尘装置，其特征在于，在经过所述预定路径的纵截面内，所述气流旋转通道的纵截面的形状为具有预定宽度并相对竖直方向倾斜设置的多个直条状气缝。10.如权利要求9所述的集尘装置，其特征在于，各所述气缝的下端靠近所述灰尘沉降通道，各所述气缝的上端远离所述灰尘沉降通道。11.如权利要求9所述的集尘装置，其特征在于，各所述气缝的下端分别与所述收集腔连通。12.如权利要求1至10任一项所述的集尘装置，其特征在于，还包括气流引导通道；所述气流引导通道的一端与排气通道连通，所述气流引导通道的另一端与所述气流旋转通道连通；所述气流引导通道内的气流方向与所述气流旋转通道出口的气流方向之间夹角大于零。13.如权利要求1至10任一项所述的集尘装置，其特征在于，还包括：具有收纳腔的盒体；所述收纳腔位于所述收集腔的正下方，且所述收集腔与所述收纳腔之间设置有阀门。14.如权利要求1至10任一项所述的集尘装置，其特征在于，还包括：用于观察所述收集腔内灰尘堆积状态的观察镜。15.如权利要求1至10任一项所述的集尘装置，其特征在于，还包括用于向灰尘沉降通道的入口内喷射氮气的喷气口。16.等离子体设备，其特征在于，包括：工艺腔室、真空泵，以及如权利要求1至15任一项所述的集尘装置；所述工艺腔室与所述进气通道连通，所述出气通道与所述真空泵连通。

技术总结
本发明涉及半导体制造设备的技术领域，提供了一种集尘装置，包括：进气通道、沿预定路径延伸的灰尘沉降通道、环绕在所述沉降通道外侧的气流旋转通道、出气通道，以及收集腔；所述气流旋转通道的一端与所述灰尘沉降通道连通，所述气流旋转通道的另一端与所述出气通道连通；所述灰尘沉降通道的上游端与所述进气通道连通，所述灰尘沉降通道的下游端与所述收集腔连通；在所述预定路径的延伸方向上，所述灰尘沉降通道的高度逐渐降低。使得气流旋转通道内的灰尘在沿气流旋转通道流动时候能够在离心力的作用下便于灰尘的沉降；气流旋转通道的另一端与出气通道连通以排出气体。端与出气通道连通以排出气体。端与出气通道连通以排出气体。


技术研发人员：王怀庆
受保护的技术使用者：长鑫存储技术有限公司
技术研发日：2021.08.04
技术公布日：2021/10/18