一种基于超声喷涂法的DAF膜及其制备方法、应用与流程
本发明涉及半导体,具体而言,涉及一种基于超声喷涂法的daf膜及其制备方法、应用。
背景技术:
1、芯片粘接薄膜(daf膜)是半导体封装过程中的关键连接材料,用于实现芯片与基板、引线框架之间的高性能粘接,其性能直接决定半导体器件的机械强度、导热能力与长期工作可靠性。随着半导体器件向小型化、超薄化、高密度集成方向发展,以及fan-out(扇出型封装)、3d ic等先进封装技术的普及,对daf膜的厚度均匀性、粘接强度、导热性能及表面质量提出了更高要求。
2、目前,daf膜的主流制备工艺为狭缝挤出涂布法,但该工艺存在设备投入大、对胶液黏度要求苛刻、难以适配异形基材或局部喷涂需求等缺陷。喷涂法作为一种灵活高效的薄膜制备工艺,具有设备简单、操作便捷、适配性强、可实现局部精准喷涂等优势,已被尝试应用于daf膜的制备中,且在半导体封装的薄膜沉积环节,喷涂与旋涂、印刷等工艺并列成为主流选择之一。
3、但现有喷涂法制备daf膜仍存在诸多技术缺陷,严重限制其产业化应用:一是胶液雾化不均匀,普通喷涂的液滴粒径差异大,导致涂层厚度偏差大、表面粗糙度高,易出现针孔、流挂等缺陷;二是喷涂过程中,胶液溶剂挥发速度难以控制,易产生气泡,且后续干燥固化不充分,导致溶剂残留超标(通常>1%),后续封装时易出现分层、空洞等问题,尤其在大尺寸芯片贴装时,气泡问题更为突出;三是功能填料(如导热填料)在胶液中易团聚,喷涂后胶层性能不均,导热、粘接性能稳定性差;四是喷涂时基材易发生溶胀、起皱,导致涂层平整度下降,影响后续芯片贴装精度,这是由于喷涂时溶剂冲击局部集中,易引发膜面应力集中所致。
4、现有技术中,部分专利(如us20220028819a1、us2011319513a1)尝试改进喷涂工艺以优化daf膜性能,但多聚焦于单一参数的调整,未能从雾化效果、填料分散、基材固定、固化工艺等多维度协同解决上述缺陷。例如,仅优化喷涂速度与距离,未能解决胶液雾化不均与填料团聚问题;通过增加干燥时间控制溶剂残留,却导致生产效率降低、胶层易脆裂。
5、此外,现有喷涂工艺多采用普通空气喷涂,雾化液滴较粗,且缺乏有效的基材固定措施,进一步加剧了涂层均匀性差、膜面起皱等问题。因此,开发一种能解决上述技术缺陷、实现多性能协同提升,且工艺简单、可规模化的超声喷涂法daf膜制备工艺,成为当前半导体封装材料领域的迫切需求。
6、有鉴于此,特提出本发明。
技术实现思路
1、本发明目的是针对现有喷涂法制备daf膜时存在的胶液雾化不均、涂层厚度偏差大、溶剂残留超标、气泡与针孔缺陷多、填料团聚、基材易溶胀起皱等技术问题,提供一种基于超声喷涂法的daf膜及其制备方法、应用,通过多维度工艺优化,实现daf膜综合性能的显著提升,简化工艺流程、降低生产成本,适配先进封装需求,推动喷涂法在daf膜制备中的产业化应用。
2、为了实现本发明的上述目的,特采用以下技术方案:
3、一种基于超声波喷涂法的daf膜,包括如下重量份组分:改性功能填料20~40份,环氧树脂60~70份,聚酰亚胺树脂30~40份,潜伏型固化剂4~8份,第一偶联剂1.5~2.5份;
4、所述改性功能填料包括导热填料、第二偶联剂和分散剂,三者质量比100:3~5:0.3~0.8;
5、所述改性功能填料的粒径d90<4μm。
6、进一步地,所述导热填料为六方氮化硼、氮化铝、碳化硅、氮化硅中的至少一种。
7、进一步地,所述第二偶联剂为γ-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷中的至少一种。
8、进一步地,所述分散剂为聚羧酸钠、聚羧酸铵、聚甲基丙烯酸-丙烯酸乙酯共聚物钠盐、马来酸-丙烯酸共聚物钠盐中的至少一种。
9、进一步地,所述环氧树脂为双酚a型环氧树脂e-51、双酚a型环氧树脂e-44、双酚f型环氧树脂npef-170、脂环族环氧树脂erl-4221中的至少一种。
10、进一步地,所述聚酰亚胺树脂为均苯型聚酰亚胺树脂、双酚a型聚酰亚胺树脂、聚醚酰亚胺树脂中的至少一种。
11、进一步地,所述潜伏型固化剂为2-乙基-4-甲基咪唑、1-苄基-2-甲基咪唑、2-苯基-4,5-二羟基咪唑、甲基四氢邻苯二甲酸酐中的至少一种。
12、进一步地,所述第一偶联剂为γ-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷、γ-氨丙基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷中的至少一种。
13、进一步地,所述环氧树脂与聚酰亚胺树脂共100份。
14、进一步地,该基于超声波喷涂法的daf膜还包括如下重量份组分:消泡剂0.1~0.2份,流平剂0.2~0.4份,增韧剂0.3~0.6份。
15、上述基于超声波喷涂法的daf膜的制备方法,包括如下步骤:
16、步骤1、制备改性功能填料;
17、步骤2、配制喷涂胶液;
18、步骤3、固定、预热保护膜;
19、步骤4、超声-静电协同喷涂;
20、步骤5、梯度温控干燥与高温固化。
21、进一步地,步骤1制备改性功能填料的方法包括:
22、步骤1.1、按比例将导热填料与第二偶联剂混合,使第二偶联剂均匀包覆在导热填料表面;
23、步骤1.2、按比例加入分散剂,并采用高速分散与超声震荡结合的方式进行混合处理。
24、进一步地,步骤2配制喷涂胶液的方法包括:
25、步骤2.1、按比例混合环氧树脂、聚酰亚胺树脂作为主体树脂,按比例加入剩余组分以及溶剂,充分混合,使各组分完全溶解;
26、步骤2.2、真空脱泡、过滤;
27、步骤2.3、静置熟化,得到喷涂胶液。
28、进一步地,步骤3固定、预热保护膜的方法包括:将所述保护膜平铺于真空吸附加热板上,开启真空吸附装置,同时将加热板预热。
29、进一步地,步骤1.1中混合过程为恒温70~90℃搅拌1.5~2.5h。
30、进一步地,步骤1.1中混合过程通入保护气体,所述保护气体包括氮气、氦气、氖气、氩气中的至少一种。
31、进一步地,步骤1.2中高速分散的转速为2500~3500rpm,分散时间为25~35min。
32、进一步地,步骤1.2中超声震荡的震荡频率为40~60khz,震荡时间为25~35min。
33、进一步地,步骤2.1中混合用的所述溶剂为丁酮、环己酮、丙二醇甲醚醋酸酯中的至少一种。
34、进一步地,步骤2.1中混合过程为室温下搅拌30~60min。
35、进一步地,步骤2.2中真空脱泡的压力为-0.09~-0.095mpa。
36、进一步地,步骤2.2中过滤采用的过滤膜孔径为4~6μm。
37、进一步地,步骤2.3中静置熟化时间为1.5~3h。
38、进一步地,步骤2.3中得到的喷涂胶液固含量为30~40wt%,黏度为500~1500mpa·s。
39、进一步地,步骤3中真空吸附的压力为0.06~0.08mpa。
40、进一步地,步骤3中加热板预热温度为50~60℃。
41、进一步地,步骤4超声-静电协同喷涂方法包括:采用超声喷涂设备,并外加电场施加静电,将喷涂胶液送入超声雾化器,将喷涂胶液破碎成的微小液滴进行喷涂。
42、进一步地,步骤4超声-静电协同喷涂过程采用多层薄喷-交叉喷涂方式。
43、进一步地,步骤4中超声雾化频率为80~120khz。
44、进一步地,步骤4中所述微小液滴直径d为5~10μm。
45、进一步地,步骤4中施加静电的电压为8~25kv。
46、进一步地,步骤4中喷涂气压为0.1mpa~0.2mpa,喷涂距离为15~25cm,喷涂速度为5-12m/min。
47、进一步地,步骤4超声-静电协同喷涂过程中喷枪始终垂直于保护膜膜面。
48、进一步地,步骤4中多层薄喷的单层喷涂湿膜厚度为8~15μm,累计喷涂至湿膜总厚度为40~180μm。
49、进一步地,步骤4中相邻两层喷涂中交叉喷涂角度为45°~90°。
50、进一步地,步骤4中单层喷涂过程中相邻两道喷涂的轨迹重叠率为30%~50%。
51、进一步地,步骤5中梯度温控干燥与高温固化方法包括:将喷涂后的湿膜连同真空吸附加热板一同送入多区梯度烘箱,依次在温度梯度递增的各个温区停留,得到daf膜。
52、进一步地,所述多区梯度烘箱包括4个温区,4个温区的温度梯度依次为65~75℃、90~100℃、110~120℃、125~135℃。
53、进一步地,各个温区停留间1~2min,4个温区总停留时间5~8min。
54、上述基于超声喷涂法的daf膜、上述制备方法制备的daf膜在8-12英寸晶圆与芯片封装中的应用。
55、与现有技术相比,本发明的有益效果为:
56、1、本发明基于超声波喷涂法的daf膜及其制备方法,可显著提高涂层均匀性与表面质量:通过超声雾化与静电吸附协同喷涂,结合多层交叉喷涂方式,制备的daf膜厚度精度提升至±0.8μm,表面无针孔、气泡、流挂等缺陷,表面粗糙度ra<0.3μm,适配大尺寸晶圆与超薄芯片的封装需求。
57、2、本发明基于超声波喷涂法的daf膜及其制备方法,可实现综合性能协同优化:通过改性功能填料分散优化,导热填料均匀分散,制备的daf膜的导热系数提升至≥1.1w/(m·k),粘接强度>9mpa,同时具备优异的柔韧性与耐高温性能;梯度温控固化工艺使溶剂残留<0.8%,凝胶率稳定在22-38%,避免后续封装时出现分层、空洞等问题,提升封装可靠性,解决了现有daf膜贴装时气泡多、导热不均的技术缺陷。
58、3、本发明基于超声波喷涂法的daf膜制备方法,工艺灵活、可规模化:超声喷涂设备投入成本低于狭缝挤出涂布设备,操作便捷,可实现局部精准喷涂,适配异形基材与不同尺寸晶圆;同时,本发明制备工艺无需复杂的设备改造,可直接适配现有生产线,生产效率高,降低生产成本,便于大规模产业化生产。
59、4、本发明基于超声波喷涂法的daf膜制备方法,喷涂基材保护膜稳定性好,适配性强:通过真空吸附固定保护膜,有效解决了喷涂时基材溶胀、起皱的问题,确保涂层平整度,同时提升胶层与基材的附着力,减少脱层风险,可适配8-12英寸不同尺寸的晶圆,拓宽了喷涂法daf膜的应用范围。
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