一种基片台及真空镀膜设备的制作方法

本申请涉及半导体生产设备，特别涉及一种基片台及真空镀膜设备。

背景技术：

1、随着薄膜材料的应用和真空镀膜设备的发展，溅射镀膜系统作为一种新型的镀膜设备，具备广泛的应用，可用来制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，甚至还用来制备一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方氮化物膜等。经过不同的靶基材处理，从而使靶材料由固态到汽态升华，靶基材因溢出的原子向基底运动，在基片表层形成沉积状态，从而形成薄膜表层。是半导体生产中的重要组成部分。

2、在相关现有技术中，半导体镀膜设备中，基片在安装于基片台的时候，只能单一地进行固定安装或者转动安装，功能性不足。

技术实现思路

1、本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，第一方面，本申请提出一种基片台，能够兼容基片的固定安装和转动安装，解决传统结构的不足。

2、第二方面，本申请提出一种应用上述基片台的真空镀膜设备。

3、根据本申请第一方面实施例的基片台，包括：

4、基片台主体，所述基片台主体沿第一方向的第一端可拆卸设置第一基片托；

5、旋转支架，所述旋转支架转动设置于所述基片台主体的外周侧，所述旋转支架与所述基片台主体同轴设置，并且所述旋转支架沿所述第一方向的第一端可拆卸设置第二基片托；

6、驱动机构，所述驱动机构传动连接于所述旋转支架，被配置为用于驱动所述旋转支架转动；

7、其中，所述基片台能够通过所述第一基片托安装基片，使得所述基片与所述基片台主体保持相对固定，或通过所述第二基片托安装基片，使得所述基片能够相对于所述基片台主体转动。

8、根据本申请实施例的基片台，至少具有如下有益效果：

9、本申请中的基片台，在基片台主体的外周侧设置有旋转支架，并在基片台主体上配置第一基片托，在旋转支架上配置第二基片托，在生产应用中，当基片需要固定安装在基片台上的时候，可以通过第一基片托将基片安装到基片台主体上，当基片需要旋转安装在基片台上的时候，可以通过第二基片托将基片安装到旋转支架上，从而同时兼容固定安装和转动安装的需求，解决传统结构的不足。

10、需要说明的是，第一基片托、第二基片托可以根据实际安装情况进行拆卸，比如在采用第一基片托安装基片的情况下，若第二基片托会妨碍基片，则可以拆卸第二基片托，若不妨碍，则可以保留第二基片托，反之亦然。

11、根据本申请的一些实施例，所述驱动机构包括：

12、一级传动齿轮组，所述一级传动齿轮组包括垂直分布的第一传动轴和第二传动轴、及分别设置于所述第一传动轴和所述第二传动轴的第一锥齿轮、第二锥齿轮，所述第一锥齿轮啮合所述第二锥齿轮，所述第二传动轴平行于所述基片台主体的轴心；

13、二级传动齿轮组，所述二级传动齿轮组包括第一传动齿、第二传动齿、第三传动齿和第三传动轴，所述第三传动轴设置于所述第二传动轴与所述旋转支架之间，所述第一传动齿固定连接于所述第二传动轴，所述第二传动齿固定连接于所述第三传动轴且啮合所述第一传动齿，所述第三传动齿固定连接于所述旋转支架且啮合所述第二传动齿。

14、根据本申请的一些实施例，所述第一传动轴背离所述旋转支架的一侧设置磁耦合联轴器。

15、根据本申请的一些实施例，所述基片台还包括外壳，所述外壳固定连接于所述基片台主体的外周侧，所述外壳与所述基片台主体之间限定出环形空间，所述旋转支架位于所述环形空间内。

16、根据本申请的一些实施例，沿所述基片台主体的径向，所述旋转支架到所述基片台主体的距离小于所述旋转支架到所述外壳的距离，并且所述旋转支架与所述外壳之间设置轴承组件。

17、根据本申请的一些实施例，所述外壳与所述旋转支架之间设置第二防污板，所述第二防污板被配置为遮盖所述轴承组件。

18、根据本申请的一些实施例，所述基片台还包括第一防污板，所述第一防污板设置于所述外壳和所述基片台主体之间，所述第一防污板被配置为遮盖所述环形空间。

19、根据本申请的一些实施例，所述第一防污板靠近所述基片台主体的轴心的一侧贴近于所述第一基片托或所述第二基片托。

20、根据本申请的一些实施例，沿所述第一方向，所述旋转支架相对于所述基片台主体内凹于所述环形空间内，所述第二基片托自所述旋转支架的端部向所述基片台主体的端部倾斜延伸。

21、根据本申请第一方面实施例的真空镀膜设备，包括上述任一结构的基片台。

22、根据本申请实施例的真空镀膜设备，至少具有如下有益效果：

23、本申请中的真空镀膜设备通过应用上述基片台，当基片需要固定安装在基片台上的时候，可以通过第一基片托将基片安装到基片台主体上，当基片需要旋转安装在基片台上的时候，可以通过第二基片托将基片安装到旋转支架上，从而同时兼容固定安装和转动安装的需求，解决传统结构的不足。

24、本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分附加方面和优点将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

1.一种基片台，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的基片台，其特征在于，所述驱动机构包括：

3.根据权利要求2所述的基片台，其特征在于，所述第一传动轴背离所述旋转支架的一侧设置磁耦合联轴器。

4.根据权利要求1所述的基片台，其特征在于，所述基片台还包括外壳，所述外壳固定连接于所述基片台主体的外周侧，所述外壳与所述基片台主体之间限定出环形空间，所述旋转支架位于所述环形空间内。

5.根据权利要求4所述的基片台，其特征在于，沿所述基片台主体的径向，所述旋转支架到所述基片台主体的距离小于所述旋转支架到所述外壳的距离，并且所述旋转支架与所述外壳之间设置轴承组件。

6.根据权利要求5所述的基片台，其特征在于，所述外壳与所述旋转支架之间设置第二防污板，所述第二防污板被配置为遮盖所述轴承组件。

7.根据权利要求4所述的基片台，其特征在于，所述基片台还包括第一防污板，所述第一防污板设置于所述外壳和所述基片台主体之间，所述第一防污板被配置为遮盖所述环形空间。

8.根据权利要求7所述的基片台，其特征在于，所述第一防污板靠近所述基片台主体的轴心的一侧贴近于所述第一基片托或所述第二基片托。

9.根据权利要求4所述的基片台，其特征在于，沿所述第一方向，所述旋转支架相对于所述基片台主体内凹于所述环形空间内，所述第二基片托自所述旋转支架的端部向所述基片台主体的端部倾斜延伸。

10.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的基片台。