一种触摸玻璃蚀刻方法与流程

本发明涉及玻璃加工，具体地说是一种触摸玻璃蚀刻方法。

背景技术：

1、触摸玻璃作为现代电子设备、汽车仪表系统、航空显示装置及医疗诊断仪器的核心组件，其表面质量直接影响用户体验与功能性能。为优化视觉效果，触摸玻璃常需进行防眩光处理，该处理通过化学蚀刻在玻璃表层构建微观粗糙结构，有效分散环境光线，消除镜面反射干扰，形成均匀的哑光质感，从而提升强光环境下的可读性与操作舒适度。然而，在现有工业生产中，ag玻璃蚀刻工艺面临显著效率瓶颈。蚀刻设备在单批次作业结束后，必须中断连续生产流程，操作人员需手动或借助简易机械装置将玻璃制品从含氟化氢钠的蚀刻溶液中逐一取出，此过程不仅耗时冗长，且因溶液具有强腐蚀性而需格外谨慎，导致设备停机时间占比过高。上下料环节的低效操作严重拖累整体生产节奏，造成产能利用率低下，同时频繁的人工干预易引入表面污染或物理损伤风险，进一步影响产品良率与生产稳定性。此外，传统蚀刻流程缺乏自动化衔接机制，使得批次间转换成为制约规模化生产的突出障碍。

技术实现思路

1、本申请的目的在于提供一种触摸玻璃蚀刻方法，具有显著提高蚀刻效率、有效减少生产停机时间、提升产能利用率并降低产品污染风险的优点。

2、本申请提供了一种触摸玻璃蚀刻方法，技术方案如下：

3、包括以下步骤：

4、s1，对待蚀刻的玻璃原片进行预处理使其表面清洁；

5、s2，配置蚀刻液，包括如下重量份数的原料：氟化盐20-40份、有机酸5-10份、酸性物质15-20份、表面活性剂1-5份、羧甲基纤维素1-3份、多元醇1-5份、三乙醇胺1-1.5份和水80-100份；其中，氟化物为质量比为1:1:(0.4-0.7)的氟化钾、氟化钠和氟硅酸铵的混合物。

6、s3，将待蚀刻的玻璃原片放入蚀刻治具上然后将治具转移到蚀刻槽中并使玻璃原片完全没入蚀刻液中进行蚀刻减薄，时间15-25分钟；

7、s4，将蚀刻后的玻璃转移到清水槽中进行清洗。

8、进一步地，本申请还提出了，有机酸为质量比为1:(1.5-3)的酒石酸和草酸。

9、进一步地，本申请还提出了，步骤s1中对玻璃原片进行预处理的过程为采用质量百分比为20%-25％的氢氧化钠和80%-85％水构成的前处理液进行浸泡，时间11-13min。

10、进一步地，本申请还提出了，步骤s3中玻璃原片放入蚀刻液的速度为10-20mm/s。

11、进一步地，本申请还提出了，玻璃蚀刻过程中，蚀刻槽内的温度保持在25-45℃。

12、进一步地，本申请还提出了，玻璃原片为2.5d盖板玻璃，3d盖板玻璃、平面玻璃和打孔玻璃中的任一种。

13、进一步地，本申请还提出了，酸性物质选自氢氟酸、硫酸和硝酸中的一种或多种。

14、进一步地，本申请还提出了，表面活性剂为非离子型表面活性剂。

15、本发明具有以下有益的技术效果：

16、通过优化蚀刻液并结合蚀刻治具的自动化转移机制，有效缩短蚀刻周期并减少人工干预环节，具有显著提高蚀刻效率、有效减少生产停机时间、提升产能利用率并降低产品污染风险的优点。

1.一种触摸玻璃蚀刻方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的触摸玻璃蚀刻方法，其特征在于，所述有机酸为质量比为1:(1.5-3)的酒石酸和草酸。

3.根据权利要求1所述的触摸玻璃蚀刻方法，其特征在于，所述步骤s1中对玻璃原片进行预处理的过程为采用质量百分比为20%-25％的氢氧化钠和80%-85％水构成的前处理液进行浸泡，时间11-13min。

4.根据权利要求1所述的触摸玻璃蚀刻方法，其特征在于，所述步骤s3中玻璃原片放入蚀刻液的速度为10-20mm/s。

5.根据权利要求1所述的触摸玻璃蚀刻方法，其特征在于，所述玻璃蚀刻过程中，蚀刻槽内的温度保持在25-45℃。

6.根据权利要求1所述的触摸玻璃蚀刻方法，其特征在于，所述玻璃原片为2.5d盖板玻璃，3d盖板玻璃、平面玻璃和打孔玻璃中的任一种。

7.根据权利要求1所述的触摸玻璃蚀刻方法，其特征在于，所述酸性物质选自氢氟酸、硫酸和硝酸中的一种或多种。

8.根据权利要求1所述的触摸玻璃蚀刻方法，其特征在于，所述表面活性剂为非离子型表面活性剂。