基站及清洁系统的制作方法

本申请涉及清洁设备，具体涉及一种基站及清洁系统。

背景技术：

1、清洁设备在进行清洁任务的过程中，清洁设备上的驱动轮、万向轮、清洁拖布等待清洁部件难免会与待清洁面或环境中散落的灰尘、毛发、碎屑等待清洁物接触，这些待清洁物会在待清洁部件上不断积累。

2、当清洁设备移动至已清洁过的区域时，待清洁部件上黏附的待清洁物会散落到该区域上，造成二次污染，而现有的基站缺乏对待清洁部件进行清洁的机制，因此，如何提供一种能够对待清洁部件进行清洁的基站是目前本领域亟待解决的技术问题。

技术实现思路

1、鉴于上述问题，本申请提供一种基站及清洁系统，能够对清洁设备的待清洁部件进行清洁，从而能够改善因待清洁物黏附在待清洁部件上而造成待清洁面二次污染等问题。

2、为解决上述技术问题，本申请采用的技术方案的构思如下：

3、第一方面，本申请提供了一种基站，至少用于对清洁设备的待清洁部件进行清洁，基站包括：基站主体；清洁机构，包括调节组件及连接调节组件的清洁本体，调节组件可转动式设于基站主体；调节组件配置为在待清洁部件移动至目标位置时，使清洁本体与待清洁部件接触，并对待清洁部件进行清洁。

4、其中，清洁机构位于目标位置处，调节组件配置为在待清洁部件移动至目标位置且与待清洁部件接触时，相对于基站主体转动，并带动清洁本体远离待清洁部件，以使清洁本体与待清洁部件间隔设置。

5、其中，待清洁部件通过抬升机构沿高度方向可升降设置；调节组件还配置为在待清洁部件抬升时反转，并带动清洁本体靠近待清洁部件，以使清洁本体与待清洁部件接触。

6、其中，调节组件还配置为在待清洁部件抬升后，与待清洁部件间隔设置。

7、其中，基站主体设有容置槽，调节组件设于容置槽内；调节组件包括支架，支架包括相对设置的第一端和第二端，第一端可转动式设于容置槽的内壁，第二端连接清洁本体；支架用于在待清洁部件移动至调节组件处，并支撑于第一端上时，朝向远离清洁设备的一侧转动，以使清洁本体远离待清洁部件；支架还用于在待清洁部件抬升时，朝向靠近清洁设备的一侧转动，以使清洁本体与待清洁部件接触。

8、其中，基站主体设有供清洁设备进出的进出口，第一端相对于第二端靠近进出口设置。

9、其中，支架包括由第一端至第二端的方向依次连接设置的：支撑部，可转动式设于容置槽的内壁，用于支撑待清洁部件；衔接部，连接于支撑部靠近容置槽的底壁的一端；安装部，连接于衔接部远离支撑部的一端，且与支撑部间隔设置，清洁本体设于安装部。

10、其中，支撑部沿高度方向的尺寸大于安装部沿高度方向的尺寸；其中，高度方向平行于基站与清洁设备的排布方向。

11、其中，调节组件还包括复位件，复位件设于支架与容置槽的内壁之间，用于为支架提供靠近清洁设备的复位力。

12、其中，复位件包括扭簧。

13、其中，清洁设备还包括机身，待清洁部件设于机身；基站主体上设有定位柱，定位柱用于在待清洁部件移动至调节组件处时，与机身对接，以用于在待清洁部件抬升时，支撑机身。

14、其中，基站还包括检测组件，检测组件用于检测清洁设备的位置，并引导清洁设备进入基站。

15、第二方面，本申请提供了一种清洁系统，清洁系统包括：清洁设备，包括待清洁部件；基站，包括基站主体及清洁机构，清洁机构包括调节组件及连接调节组件的清洁本体，调节组件可转动式设于基站主体；调节组件配置为在待清洁部件移动至目标位置时，使清洁本体与待清洁部件接触，并对待清洁部件进行清洁。

16、其中，清洁设备还包括：机身，待清洁部件设于机身，待清洁部件配置为在其与清洁本体接触后，相对于清洁本体转动；抬升机构，相对于机身沿高度方向可升降设置，抬升机构配置为在清洁设备移动至调节组件处，且调节组件带动清洁本体远离待清洁部件后，抬升机身。

17、其中，抬升机构包括：第一驱动组件，设于机身；辅助轮，连接第一驱动组件，且通过第一驱动组件相对于机身沿高度方向可升降设置。

18、其中，待清洁部件包括：驱动轮本体，可转动式设于机身；第二驱动组件，设于机身，且连接驱动轮本体，第二驱动组件配置为在机身抬升后，驱动驱动轮本体靠近机身摆动，以使驱动轮本体抬升。

19、区别于现有技术，本申请实施方式的有益效果是：本申请提供了一种基站及清洁系统，基站至少用于对清洁设备的待清洁部件进行清洁，基站包括基站主体及清洁机构，清洁机构包括调节组件及连接调节组件的清洁本体，调节组件可转动式设于基站主体；调节组件配置为在待清洁部件移动至目标位置时，使清洁本体与待清洁部件接触，并对待清洁部件进行清洁。通过将连接有清洁本体的调节组件可转动式设于基站主体，以使得在待清洁部件移动至目标位置时，调节组件能够带动清洁本体与待清洁部件接触，便于清洁本体对待清洁部件进行清洁，从而能够改善因待清洁物黏附在待清洁部件上而造成待清洁面二次污染等问题。

1.一种基站，至少用于对清洁设备的待清洁部件进行清洁，其特征在于，所述基站包括：

2.根据权利要求1所述的基站，其特征在于，所述清洁机构位于所述目标位置处，所述调节组件配置为在所述待清洁部件移动至所述目标位置且与所述待清洁部件接触时，相对于所述基站主体转动，并带动所述清洁本体远离所述待清洁部件，以使所述清洁本体与所述待清洁部件间隔设置。

3.根据权利要求2所述的基站，其特征在于，所述待清洁部件通过抬升机构沿高度方向可升降设置；所述调节组件还配置为在所述待清洁部件抬升时反转，并带动所述清洁本体靠近所述待清洁部件，以使所述清洁本体与所述待清洁部件接触。

4.根据权利要求2所述的基站，其特征在于，所述调节组件还配置为在所述待清洁部件抬升后，与所述待清洁部件间隔设置。

5.根据权利要求1至4任一项所述的基站，其特征在于，所述基站主体设有容置槽，所述调节组件设于所述容置槽内；所述调节组件包括支架，所述支架包括相对设置的第一端和第二端，所述第一端可转动式设于所述容置槽的内壁，所述第二端连接所述清洁本体；

6.根据权利要求5所述的基站，其特征在于，所述基站主体设有供所述清洁设备进出的进出口，所述第一端相对于所述第二端靠近所述进出口设置。

7.根据权利要求5所述的基站，其特征在于，所述支架包括由所述第一端至所述第二端的方向依次连接设置的：

8.根据权利要求7所述的基站，其特征在于，所述支撑部沿高度方向的尺寸大于所述安装部沿所述高度方向的尺寸；其中，所述高度方向平行于所述基站与所述清洁设备的排布方向。

9.根据权利要求5所述的基站，其特征在于，所述调节组件还包括复位件，所述复位件设于所述支架与所述容置槽的内壁之间，用于为所述支架提供靠近所述清洁设备的复位力。

10.根据权利要求9所述的基站，其特征在于，所述复位件包括扭簧。

11.根据权利要求1所述的基站，其特征在于，所述清洁设备还包括机身，所述待清洁部件设于所述机身；

12.根据权利要求1所述的基站，其特征在于，所述基站还包括检测组件，所述检测组件用于检测所述清洁设备的位置，并引导所述清洁设备进入所述基站。

13.一种清洁系统，其特征在于，所述清洁系统包括：

14.根据权利要求13所述的清洁系统，其特征在于，所述清洁设备还包括：

15.根据权利要求14所述的清洁系统，其特征在于，所述抬升机构包括：

16.根据权利要求14所述的清洁系统，其特征在于，所述待清洁部件包括：