有噪声经图案化特征的检验的制作方法

技术特征：
1.一种经配置以检测样品上的缺陷的系统，其包括：检验子系统，其经配置以产生样品的图像；及一或多个计算机子系统，其经配置以用于检测所述样品上的缺陷候选者，其中检测所述缺陷候选者包括：识别所述样品的所述所产生图像中所包含的测试图像中的经图案化特征；针对所述测试图像中位于所述经图案化特征内的至少一个像素，确定所述至少一个像素的特性与所述测试图像中位于所述至少一个像素的预定窗内的其它像素的所述特性之间的差；及基于所述所确定差而检测所述至少一个像素处的缺陷候选者。2.根据权利要求1所述的系统，其中所述经图案化特征包括位于重布层上的线。3.根据权利要求1所述的系统，其中所述经图案化特征由金属形成。4.根据权利要求1所述的系统，其中在不具有参考图像的情况下执行所述确定步骤及所述检测步骤。5.根据权利要求1所述的系统，其中所述识别包括将掩模施加到所述测试图像，所述掩模将所述测试图像中在所述经图案化特征内的像素与所述测试图像中的所有其它像素分离。6.根据权利要求5所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于根据所述样品的设计而产生所述掩模。7.根据权利要求5所述的系统，其中所述掩模将所述经图案化特征的具有不同定向的部分内的像素分离到不同区域中，且其中针对所述不同区域而单独地执行所述确定步骤及所述检测步骤。8.根据权利要求7所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于独立地确定用于针对所述不同区域而单独地执行的所述确定步骤的所述预定窗的一或多个特性。9.根据权利要求1所述的系统，其中确定所述差包括确定所述至少一个像素及所述预定窗内的所述其它像素的所述特性的范围，其中所述范围是所述至少一个像素及所述预定窗内的所述其它像素的所述特性的最大值与最小值之间的差，且其中检测所述缺陷候选者包括将阈值应用于所述范围。10.根据权利要求9所述的系统，其中所述缺陷候选者包括所述经图案化特征中的完整开口。11.根据权利要求9所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于基于所述缺陷候选者的一或多个特性而确定所述缺陷候选者是否是缺陷。12.根据权利要求1所述的系统，其中确定所述差包括确定所述至少一个像素的所述特性与所述至少一个像素及所述预定窗内的所述其它像素的所述特性的平均值之间的差。13.根据权利要求12所述的系统，其中所述预定窗囊括所述测试图像中的所述经图案化特征的整体。14.根据权利要求12所述的系统，其中所述预定窗囊括所述测试图像中的所述经图案化特征的整体及所述测试图像中的一或多个其它整个经图案化特征，且其中所述一或多个其它整个经图案化特征具有与所述经图案化特征相同的类型及定向。15.根据权利要求12所述的系统，其中检测所述缺陷候选者包括确定与所述至少一个
像素及所述预定窗内的所述其它像素的所述平均值及所述特性的标准偏差、通过将所述差除以所述标准偏差而确定信号强度，及将阈值应用于所述信号强度。16.根据权利要求15所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于从针对所述测试图像而产生的中值参考图像确定所述平均值及所述标准偏差。17.根据权利要求15所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于从所述测试图像确定所述平均值及所述标准偏差。18.根据权利要求12所述的系统，其中所述识别包括：将掩模施加到所述测试图像，所述掩模将所述测试图像中在所述经图案化特征内的像素与所述测试图像中的所有其它像素分离；及预处理施加所述掩模的结果以识别超出所述经图案化特征的一或多个边缘的一或多个像素并从所述经图案化特征内的所述像素移除所识别的所述一或多个像素。19.根据权利要求12所述的系统，其中所述识别包括：将掩模施加到所述测试图像，所述掩模将所述测试图像中在所述经图案化特征内的像素与所述测试图像中的所有其它像素分离；及后处理施加所述掩模的结果以识别超出所述经图案化特征的一或多个边缘的一或多个像素并从所述经图案化特征内的所述像素移除所识别的所述一或多个像素。20.根据权利要求12所述的系统，其中所述缺陷候选者包括所述经图案化特征中的完整或部分开口。21.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于通过对所述检测的结果执行形态学运算而确定所述缺陷候选者是否是缺陷。22.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于通过基于所述测试图像对所述缺陷候选者进行分级而确定所述缺陷候选者是否是缺陷。23.根据权利要求1所述的系统，其中所述一或多个计算机子系统进一步经配置以用于通过将基于深度学习的分类器应用于所述测试图像而确定所述缺陷候选者是否是缺陷。24.根据权利要求1所述的系统，其中所述检验子系统进一步经配置以用于宏观检验。25.根据权利要求1所述的系统，其中所述检验子系统进一步被配置为电子束子系统。26.根据权利要求1所述的系统，其中所述检验子系统进一步被配置为光学子系统。27.根据权利要求1所述的系统，其中所述样品是晶片。28.一种非暂时性计算机可读媒体，其存储能够在一或多个计算机系统上执行以执行用于检测样品上的缺陷的计算机实施方法的程序指令，其中所述计算机实施方法包括：通过检验子系统而识别样品的所产生图像中所包含的测试图像中的经图案化特征；针对所述测试图像中位于所述经图案化特征内的至少一个像素，确定所述至少一个像素的特性与所述测试图像中位于所述至少一个像素的预定窗内的其它像素的所述特性之间的差；及基于所述所确定差而检测所述至少一个像素处的缺陷候选者。29.一种用于检测样品上的缺陷的计算机实施方法，其包括：通过检验子系统而识别样品的所产生图像中所包含的测试图像中的经图案化特征；针对所述测试图像中位于所述经图案化特征内的至少一个像素，确定所述至少一个像素的特性与所述测试图像中位于所述至少一个像素的预定窗内的其它像素的所述特性之间的差；及基于所述所确定差而检测所述至少一个像素处的缺陷候选者，其中所述识别、所述确
定及所述检测由耦合到所述检验子系统的一或多个计算机子系统执行。

技术总结
本发明提供用于检测样品上的缺陷的方法及系统。一种系统包含：检验子系统，其经配置以产生样品的图像；及一或多个计算机子系统，其经配置以用于检测所述样品上的缺陷候选者。检测所述缺陷候选者包含识别所述样品的所述所产生图像中所包含的测试图像中的经图案化特征。检测所述缺陷候选者还包含：针对所述测试图像中位于所述经图案化特征内的至少一个像素，确定所述至少一个像素的特性与所述测试图像中位于所述至少一个像素的预定窗内的其它像素的所述特性之间的差。另外，检测所述缺陷候选者包含：基于所述所确定差而检测所述至少一个像素处的缺陷候选者。一个像素处的缺陷候选者。一个像素处的缺陷候选者。


技术研发人员：涛
受保护的技术使用者：科磊股份有限公司
技术研发日：2021.07.21
技术公布日：2023/2/3