药液再生系统的制作方法

1.本实用新型涉及药液再生领域，尤其涉及一种药液再生系统。


背景技术：

2.在化学沉铜工艺中，除胶渣工艺包括等离子体(电浆)除胶渣、高锰酸盐除胶渣、浓硫酸除胶渣和铬酸除胶渣等工艺，其中高锰酸盐能够对基材表面进行氧化反应，可咬蚀出较均匀的表面，同时锰离子可由再生器进行氧化再生从而可以循环使用(反应后的 6价锰离子由再生器进行氧化再生还原为 7价锰离子从而可以循环使用)，因此被广泛利用。
3.目前的高锰酸盐再生系统药液难以完全回流至再生槽内，导致反复应用的高锰酸盐浓度降低，影响除胶渣效果。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种药液再生系统，药液能够充分回流到再生槽内，实现再生。
5.为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：
6.药液再生系统，包括药液池、再生池、第一导向板和液位调节管路，所述药液池内设置有浸泡槽，所述浸泡槽底部开设有出液口；所述再生池连接于所述药液池一侧，所述再生池包括再生槽和水箱，所述再生槽内设置有再生器，所述再生槽内的药液能够溢流至所述水箱，所述再生槽与所述浸泡槽之间开设有回流孔；所述液位调节管路的第一端连通所述浸泡槽，第二端连通所述再生槽；所述第一导流板设置于所述浸泡槽下方，被配置为使所述出液口流出的药液具有自所述回流孔流入所述再生槽的趋势。
7.可选地，所述第一导流板包括第一导流部和第二导流部，所述第一导流部沿第二方向自上而下倾斜，所述第二导流部设置于所述第一导流部靠近所述再生槽一侧，所述第二导流部沿第一方向从两端向所述再生槽所在方向自上而下倾斜。
8.可选地，所述浸泡槽的出液口处设置有导流管，所述导流管位于所述浸泡槽与所述第一导流板之间。
9.可选地，所述浸泡槽的出液口处设置有盖板，所述盖板能够调节所述浸泡槽的出液口的大小。
10.可选地，所述液位调节管路包括调节阀，用于调节所述液位调节管路中的流量。
11.可选地，所述液位调节管路的第一端高度高于第二端高度。
12.可选地，所述再生槽内设置有第二导流板，所述第二导流板的底部与所述再生槽底部存在间隙，所述第二导流板上开设有通孔，所述通孔的高度低于所述回流孔的高度，所述第二导流板被配置为使流入所述再生槽内的药液自上而下运动。
13.可选地，所述液位调节管路的第二端对应所述第二导流板且高于所述通孔设置。
14.可选地，还包括搅拌机构，所述搅拌机构被配置为对所述再生槽内的药液进行搅拌。
15.可选地，所述搅拌机构为循环管路，所述循环管路的进口连接储液箱，所述循环管路的出口连接所述再生槽，所述循环管路的出口位于所述第二导流板的下方。
16.本实用新型的有益效果为：本实用新型提出的药液再生系统，浸泡槽内的药液回流至再生槽包括两种方式，一种是通过两端分别与浸泡槽和再生槽连通的液位调节管路回流至再生槽，另一种是通过浸泡槽下方设置的第一导流板导流回再生槽，上述两种方式能够使药液完全由浸泡槽回流至再生槽，提高浸泡槽内药液的浓度，保证除胶渣的效果。
附图说明
17.图1是本实用新型实施例中提出的药液再生系统的立体结构图(隐藏再生器)；
18.图2是本实用新型实施例中提出的药液再生系统的侧视图；
19.图3是图2中沿a-a向的剖视图；
20.图4是本实用新型实施例中提出的药液再生系统的后视图；
21.图5是图4中沿b-b向的剖视图；
22.图6是本实用新型实施例中提出的第一导流板的结构示意图。
23.图中：1、药液池；11、浸泡槽；11a、出液口；11b、盖板；12、第一导流板；12a、第一导流部；12b、第二导流部；13、回流孔；14、导流管；15、支撑杆；2、再生池；21、再生槽；21a、第二导流板；22、水箱；3、液位调节管路；31、调节阀；4、循环管路。
具体实施方式
24.下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型，而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。
25.在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
26.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
27.在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“左”“右”等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。
28.本实施例提出一种药液再生系统，能够对一些药液进行回收再生处理，从而循环利用。本实施例中以用于除胶渣的高锰酸钾溶液为例进行说明。
29.可以理解的是，本实用新型应用的药液并不局限于此。作为本实用新型能够应用的其他药液的例子，还可以是应用于半导体或者液晶显示器制造工艺中的显影液、蚀刻液等。这些药液可以存在一种或多种药品种类。
30.参考图1-6所示，本实施例中的药液再生系统包括药液池1、再生池2、第一导流板12和液位调节管路3，再生池2连接于药液池1一侧，例如药液池1外的任一侧或周围处等并与药液池1共用一个侧壁，再生池2由位于其内的挡板将其分隔成再生槽21和水箱22，再生槽21内设置有再生器，挡板的高度低于再生池2的侧壁高度，再生槽21内的药液能够从挡板上方溢流入水箱22内，药液池1内设置有浸泡槽11，浸泡槽11用于容纳高锰酸钾溶液，第一导流板12设置于再生槽21下方，被配置为使药液具有经回流孔13流入再生槽21的趋势，第一导流板12自远离回流孔13的方向向靠近回流孔13的方向倾斜向下，本实施例中，第一导流板12同时作为药液池1的池底板存在，能够减少药液池1所占空间和制造成本。药液池1与再生槽21之间对应第一导流板12最低处的位置设置有回流孔13，浸泡槽11底部开设有出液口11a，浸泡槽11内的药液能够经出液口11a流向第一导流板12再经第一导流板12汇聚后自回流孔13回流入再生槽21内，液位调节管路3的第一端贯穿第一导流板12连通浸泡槽11，第二端连通再生槽21。
31.再生器属于现有技术，其可以通过电解锰酸钾副产物的方式将锰酸钾副产物重新转化为高锰酸钾。在其他一些实施例中，再生器可以根据需要的再生药液的种类进行更换，再生手段也不局限于电解，在这里不再作进一步的说明。
32.本实施例中的药液再生系统能够通过两种方式回流到再生槽21内，其中一种方式是，浸泡槽11内的药液经液位调节管路3流入再生槽21内，同时液位调节管路3还能起到调节浸泡槽11内的药液液面高度的作用；另一种方式是，浸泡槽11内的药液经出液口11a流到第一导流板12上，在第一导流板12的导向作用下，药液汇聚并流入再生槽21内，此种方式是为了使残留在药液池1底部的药液顺利流入再生槽21。两种方式相加使得药液完全由浸泡槽11回流至再生槽21内进行再生，提高了浸泡槽11内药液的浓度，保证了除胶渣的效果。
33.参考图2所示，浸泡槽11通过支撑杆15固定在药液池1内，支撑杆15的长度两侧分别与药液池1的相对侧壁连接，支撑杆15的数量为多根，沿第一方向间隔设置，以保证浸泡槽11的稳定性。
34.更具体的，为保证浸泡槽11内的药液能够顺利流到第一导流板12上，浸泡槽11出液口11a处设置有导流管14，导流管14位于浸泡槽11底部与第一导流板12之间，能够将浸泡槽11内的药液引向第一导流板12，导流管14的数量为多个，沿第一方向间隔设置，同时导流管14可以设置多排，沿第二方向间隔设置。本实施例中，第一方向指药液池1的长度方向(图中表示为x向)，第二方向指药液池1的宽度方向(图中表示为y向)。
35.参考图1所示，浸泡槽11出液口11a处设置有盖板11b，盖板11b与浸泡槽11具体可以采用铰接的方式连接，通过调节盖板11b的位置调节出液口11a的大小，可以实现对导流管14流量的粗调，当然，盖板11b所在位置在开机前已根据设定调好，开机后由于药品特性或温度等，不易进行调节。
36.类似的，参考图2和图5所示，液位调节管路3中包括调节阀31，具体可以是球阀，用于实现对液位调节管路3流量的微调，从而精确控制浸泡槽11内的工作液位。
37.可选地，再生池2设置于药液池1长度方向一侧(图1中的左侧或右侧)，水箱22的数
量为两个，沿第一方向设置于再生槽21的相对两侧，两个水箱22之间相互连通，经再生器处理的药液能够溢流至水箱22内，再供应给浸泡槽11，实现重复利用。
38.此时，第一导流板12包括第一导流部12a和第二导流部12b，其中第一导流部12a沿第二方向自上而下倾斜，第二导流部12b设置于第一导流部12a靠近再生槽21一侧，其沿第一方向从两端向回流孔13所在方向自上而下倾斜，也即第二导流部12b呈v型，第二导流部12b的最高处不高于第一导流部12a的最低处。第一导流部12a与第二导流部12b既可以一体成型，也可以焊接成型。
39.参考图1-2所示，为了使浸泡槽11内的药液顺利流入再生槽21内，药液池1的底面高度高于再生槽21及水箱22的底面高度，且液位调节管路3的第一端高度高于第二端高度，使药液无需借助水泵等增压装置即可从药液池1内流向再生槽21。
40.参考图3和图5所示，为了避免经第一导流板12流入再生槽21的药液与经过再生器处理的药液混合，影响溢流入水箱22内的药液的品质，再生槽21内还设置有竖直设置的第二导流板21a，第二导流板21a的下端与再生槽21底部存在一定的间隙，以供药液流动，第二导流板21a上开设有通孔，通孔的高度低于回流孔13的高度。具体的，第二导流板21a呈u形，与再生槽21和药液池1共用的侧壁连接，且对应回流孔13所在位置，第一导流板12上的药液经回流孔13流入再生槽21内，在第二导流板21a的导流作用下，自上向下运动，避免了从浸泡槽11内流出的药液与再生器处理的药液直接混合。通孔可以设置有多个，沿药液池1的长度方向阵列分布，以使药液与再生器快速接触，提高再生效率；同时回流孔13设置为条形孔，以使药液快速进入再生槽内。
41.可以理解的是，液位调节管路3的第二端出口也对应第二导流板21a且高于通孔设置，以起到导流作用。
42.参考图3和图5所示，本实施例中的药液再生系统还包括搅拌机构，搅拌机构能够对再生槽21内的药液进行搅拌，以实现充分的再生还原。在一些实施例中，搅拌机构可以是带有动力件的搅拌杆，搅拌杆位于再生槽内21。本实施例中，搅拌机构为循环管路4，循环管路4的进口连接储液箱(图中未示出)，循环管路4的出口连接再生槽21，储液箱内存储的是从水箱22内流出的药液。具体的，循环管路4的出口位于第二导流板21a的下方，其流出的药液能够对经第二导流板21a导流的药液进行冲击，使从浸泡槽11回流的药液循环流动加强，与再生器充分接触，从而大大的提高再生效率。
43.显然，本实用新型的上述实施例仅仅是为了清楚说明本实用新型所作的举例，而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。