一种绝缘基膜预处理装置的制作方法

1.本实用新型属于金属化薄膜加工设备技术领域，特别涉及一种绝缘基膜预处理装置。


背景技术：

2.薄膜电容器是指以电工级电子基膜为电介质，以金属箔为电极，将电极与塑料基膜层叠后卷绕而成的电容器；基膜在使用前需要进行预处理，即将基膜送到预处理设备内进行还原、清洗和烘干；
3.现有的预处理设备，将需要处理的基膜人工卷绕穿过预处理设备内，进行还原、清洗和烘干处理；为了提高还原、清洗和烘干效率，一般在还原槽和清洗槽内安装震荡设备。
4.但是增设震荡设备不但增加了成本，同时人工使需要加工的基膜绕卷穿过预处理设备，操作较为复杂，效率较低。


技术实现要素：

5.本实用新型针对现有技术存在的不足，提供了一种绝缘基膜预处理装置，具体技术方案如下：
6.一种绝缘基膜预处理装置，包括预处理箱，所述预处理箱的内部隔开依次形成还原槽、清洗槽和烘干槽，所述还原槽、清洗槽和烘干槽的内部均设有扰流件，所述扰流件的顶端连接有升降件，所述升降件用于带动所述扰流件升降；
7.所述扰流件包括支撑杆、滚轮、电机、连接杆和转轴，所述支撑杆的顶端连接升降件，所述支撑杆的底端连接转轴；所述转轴的端部连接电机，且所述转轴的两端外侧呈环形阵列等距分布有多个连接杆；所述连接杆转动连接所述滚轮。
8.进一步的，所述升降件包括安装板、液压杆和安装架，所述安装板的底端两侧固定有液压杆，且所述液压杆的底端安装有安装架；所述安装架的底端安装支撑杆。
9.进一步的，所述还原槽、清洗槽和烘干槽的顶端两侧设有输送件，所述输送件用于输送基膜。
10.进一步的，所述输送件包括第一输送轮和第二输送轮，所述第一输送轮、第二输送轮分别转动连接于所述预处理箱的顶端。
11.进一步的，还包括去水件，所述去水件包括横杆、第一刮板和第二刮板，所述清洗槽的内壁转动连接有第一刮板，且所述清洗槽的内壁侧部固定有横杆，且所述横杆的端部转动连接有第二刮板。
12.进一步的，所述去水件还包括海绵块，所述第一刮板、所述第二刮板的侧部粘合有海绵块。
13.本实用新型的有益效果是：通过在还原槽、清洗槽以及烘干槽内添加扰流件，利用扰流件可将需要处理的基膜压入到还原槽、清洗槽以及烘干槽内，无需人工在预处理设备内绕卷布置基膜，减少劳动力，同时利用扰流件可对基膜进行拍打、对还原剂以及清洗剂进
行扰流，加速还原、清洗以及烘干的效率。
附图说明
14.图1示出了本实用新型的一种绝缘基膜预处理装置的结构示意图；
15.图2示出了本实用新型的整体内部结构示意图；
16.图3示出了图2的a处放大结构示意图；
17.图中所示：1、安装板；2、液压杆；3、安装架；4、扰流件；41、支撑杆；42、滚轮；43、电机；44、连接杆；45、转轴；5、输送件；51、第一输送轮；52、第二输送轮；6、预处理箱；61、还原槽；62、清洗槽；63、烘干槽；7、去水件；71、横杆；72、第一刮板；73、海绵块；74、第二刮板。
具体实施方式
18.为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
19.实施例
20.如图1和2所示，一种绝缘基膜预处理装置，包括预处理箱6，所述预处理箱6的内部隔开依次形成还原槽61、清洗槽62和烘干槽63，所述还原槽61、清洗槽62和烘干槽63的内部均设有扰流件4，所述扰流件4的顶端连接有升降件，所述升降件用于带动所述扰流件4升降；
21.所述扰流件4包括支撑杆41、滚轮42、电机43、连接杆44和转轴45，所述支撑杆41的顶端连接升降件，所述支撑杆41的底端连接转轴45；所述转轴45的端部连接电机43，且所述转轴45的两端外侧呈环形阵列等距分布有多个连接杆44；所述连接杆44转动连接所述滚轮42。
22.本实用新型实施案例中还原槽61内主要持续通入氢硫酸溶液进行还原，其中的氢硫酸的温度为95～100℃；清洗槽62内部主要持续通入去离子水，烘干槽63内的温度在85～90℃；烘干槽63内还配置风机进行鼓风烘干。
23.本实用新型通过在还原槽61、清洗槽62以及烘干槽63内添加扰流件4，利用扰流件4可将需要处理的基膜压入到还原槽61、清洗槽62以及烘干槽63内，无需人工在预处理设备内绕卷布置基膜，减少劳动力，同时利用扰流件4可对基膜进行拍打、对还原剂以及清洗剂进行扰流，加速还原、清洗以及烘干的效率。
24.为了便于实现将需要处理的基膜压入到预处理设备中，所述升降件包括安装板1、液压杆2和安装架3，所述安装板1的底端两侧固定有液压杆2，且所述液压杆2的底端安装有安装架3；所述安装架3的底端安装支撑杆41；通过安装板1与外部设备的固定，进行安装板1、液压杆2、安装架3以及扰流件4的固定，利用液压杆2实现将扰流件4伸入到所述预处理箱6内，或者将所述扰流件4取出所述预处理箱6。
25.为了将基膜输入到预处理箱6内，并将基膜及时的输出；所述还原槽61、清洗槽62和烘干槽63的顶端两侧设有输送件5，所述输送件5用于输送基膜；具体的，所述输送件5包
括第一输送轮51和第二输送轮52，所述第一输送轮51、第二输送轮52分别转动连接于所述预处理箱6的顶端；基膜穿过所述第一输送轮51、第二输送轮52之间，第一输送轮51、第二输送轮52旋转即可实现输送基膜。
26.为了进一步加强清洗后基膜的烘干效果，还包括去水件7，如图3所示，所述去水件7包括横杆71、第一刮板72和第二刮板74，所述清洗槽62的内壁转动连接有第一刮板72，所述清洗槽62与所述第一挂板之间存在摩擦力，摩擦力可对旋转后的第一刮板72进行一定程度的限位；且所述清洗槽62的内壁侧部固定有横杆71，且所述横杆71的端部转动连接有第二刮板74，所述横杆71与所述第二刮板74之间存在摩擦力，摩擦力可使旋转后的第二刮板74进行一定程度的限位；利用基膜穿过第一刮板72和第二刮板74之间，第一刮板72和第二刮板74可对基膜表面的水渍进行刮除。
27.为了进一步加强去水效果，所述去水件7还包括海绵块73，所述第一刮板72、所述第二刮板74的侧部粘合有海绵块73，利用海绵块73吸收基膜表面的水渍，提高除水效果。
28.本实用新型在实施时：
29.本实用新型在实施前，将还原槽61内主要持续通入氢硫酸溶液，将清洗槽62内部持续通入去离子水，并使烘干槽63内的温度达到85～90℃并开启内部的鼓风设备，而后使需要加工的基膜置于预处理箱6的顶端并穿过输送件5，利用液压杆2将扰流件4送入到预处理箱6内，使处理的基膜匀速向右移动，并打开电机43使滚轮42绕着转轴45选择送；
30.在还原槽61内滚轮42对基膜进行敲打，对还原剂进行搅拌，使得还原剂混合的更加均匀，与基膜接触的更加充分；
31.在清洗槽62内对基膜进行敲打，使得基膜表面的还原剂等能够快速的掉落，加速清洗；
32.在烘干槽63内对基膜拍打，使基膜表面的水渍被拍落，加速干燥效率。
33.需要说明的是，在本文中，如若存在第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个
……”
限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
34.以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。