用于制造电光转换器构件的间隔晶片、间隔件、用于制造间隔晶片的方法以及包括间隔件的电光转换器构件与流程

技术特征：
1.一种间隔晶片(1)，所述间隔晶片(1)用于通过从间隔晶片(1)分离区段(4)来制造用于容纳电光转换器(3)的框架形间隔件(2)，其中，所述间隔晶片(1)包括透明玻璃板(10)，所述透明玻璃板(10)具有呈网格分布设置的、相互隔开的多个开口(5)，从而沿着所述开口(5)之间的分隔线(7)通过分离所述玻璃板(10)的区段(4)来获得单独的间隔件(2)，其中，所述开口(5)具有侧壁(50)，所述侧壁(50)具有带有粗糙度的微结构(9)，其中，在测量段为500μm的情况下，粗糙度的平均粗糙度值r
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小于0.5μm。2.根据前述权利要求所述的间隔晶片(1)，其特征在于，所述开口(5)的侧壁(50)分别具有至少一个平坦区段(52)。3.根据前述权利要求中任一项所述的间隔晶片(1)，其特征在于，所述开口(5)的侧壁(50)各自具有至少一个倾斜边缘表面(520)，其中，所述倾斜边缘表面(520)与所述间隔晶片(1)的底面形成α≠90
°
的角度。4.根据前述权利要求所述的间隔晶片(1)，其中，所述至少一个倾斜边缘表面(520)至少在部分区域中具有涂层或光学结构。5.根据前述权利要求中任一项所述的间隔晶片(1)，其中，侧壁(50)的至少一个区段至少在部分区域中在500μm的测量段的情况下具有小于50nm、优选地至多40nm、特别优选小于40nm的平均粗糙度值r
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，或者在50μm的测量段的情况下具有优选小于20nm、优选小于10nm的平均粗糙度值r
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。6.根据前述权利要求中任一项所述的间隔晶片(1)，其特征在于，在500μm的测量段的情况下，所述微结构(9)具有至少50nm、优选至少100nm的平均粗糙度值r
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。7.根据前述权利要求中任一项所述的间隔晶片(1)，其特征在于，所述微结构(9)具有多个圆顶形凹深部。8.根据前述权利要求中任一项所述的间隔晶片(1)，其特征在于以下特征中的至少一个：-在350μm的测量段的情况下，所述开口(5)的侧壁(50)的微结构(9)的平均粗糙度值r
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小于0.4μm，-在170μm的测量段的情况下，所述开口(5)的侧壁(50)的微结构(9)的平均粗糙度值r
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小于0.25μm，-微结构是不规则的，因此特别是不存在严格布置在规则网格中的结构元素，-所述开口(5)的侧壁(50)具有四个平坦区段(52)，特别是其中，分别两个平坦区段(52)彼此相对，-所述开口(5)的侧壁(50)具有至少一个平坦区段(52)，优选三个平坦区段(52)和具有倾斜边缘(520)的区段，-微结构(9)的具有凸形弯曲表面的面积份额与具有凹形弯曲表面的面积份额的比例最大为0.25，-开口的侧壁50被涂覆。9.根据前述权利要求中任一项所述的间隔晶片(1)，其特征在于以下特征中的至少一个：-所述透明玻璃板(10)的厚度在100μm至3.5mm的范围内、优选在200μm至3.0mm的范围内，
‑
所述透明玻璃板(10)的厚度变化小于5μm、优选小于2μm、特别优选小于1μm。10.一种间隔件(2)，所述间隔件(2)能够通过从根据前述权利要求中任一项所述的间隔晶片(1)分离区段(4)来制造，其中，所述间隔件(2)是具有开口(5)的框架形元件，其侧壁(50)设置有微结构(9)，其中，在500μm的测量段的情况下，所述微结构(9)具有小于0.5μm的平均粗糙度值r
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。11.一种方法，其用于制造根据前述权利要求中任一项所述的间隔晶片(1)或间隔件(2)，其中：-将超短脉冲激光器(30)的激光束(27)引导到透明玻璃板(10)的侧表面(102、103)之一上，并通过聚焦光学器件(23)将其聚集到透明玻璃板(10)中的细长焦点，其中，所述激光束(27)的辐射能量在所述透明玻璃板(10)的体积内产生丝状损伤(32)，其纵向方向横向于侧表面(102、103)，特别是垂直于侧表面(102、103)，并且超短脉冲激光器(30)照射具有至少两个彼此连续的激光脉冲的脉冲或脉冲包以产生丝状损伤，并且其中-将所述激光束(27)在所述透明玻璃板(1)上的撞击点(73)沿着预定的闭合路径引导，并且因此-插入在路径上彼此并排的大量丝状损伤(32)，其中-在插入丝状损伤之后(32)，-将所述透明玻璃板(10)暴露于蚀刻介质(33)，并且因此-将丝状损伤(32)扩大以形成通道(105)，其中通过蚀刻增加所述通道(105)的直径，直到所述通道(105)之间的玻璃被去除并且所述通道(105)结合并形成了开口(5)，其中通过蚀刻产生微结构(9)，在500μm的测量段的情况下，所述微结构具有平均粗糙度值r
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小于0.5μm的粗糙度。12.根据前述权利要求所述的方法，其特征在于以下特征中的至少一个：-将所述透明玻璃板(10)的玻璃以小于每小时5μm的去除率去除，-蚀刻时间至少为12小时，-所述激光束(27)在所述透明玻璃板(10)上的两个撞击点(73)之间的空间距离最多为6μm、优选最多为4.5μm，-用于引入丝状损伤(32)的脉冲串中的脉冲数最多为2或至少为7，-当所述激光束(27)在所述透明玻璃板(10)上的两个撞击点(73)之间的空间距离为1μm到15μm时，激光的脉冲持续时间在0.5ps到2ps的范围内，-在蚀刻过程之后，至少对所述开口(5)的部分区域进行激光抛光。13.一种具有根据权利要求7所述的间隔件(2)的电光转换器构件(3)，所述电光转换器构件(3)包括载体(11)，在所述载体上布置有一个或多个电光转换器元件(13)，其中，在具有电光转换器元件(13)一侧上所述间隔件(2)被紧固到所述载体(11)上，使得所述电光转换元件(13)设置在所述开口(5)中，并且其中，在间隔件(2)上设置有盖元件(16)，使得在所述载体(11)与所述盖元件(16)之间形成由所述间隔件(2)的开口(5)的侧壁(50)横向封闭的空腔(18)，所述空腔(18)包围所述电光转换器元件(13)，特别是使得由所述电光转换器元件(13)发射或接收的光穿过所述空腔(18)。14.根据前述权利要求所述的电光转换器构件(3)，其特征在于，所述间隔件(2)是透明
的，并且所述转换器元件(13)被设计为，通过所述间隔件(2)的开口(5)的内侧(50)在所述盖元件(16)与所述载体(11)之间横向发送或接收光。15.根据权利要求14所述的电光转换器构件(3)，其中，所述间隔件包括偏转元件，并且所述转换器元件(13)被设计成，穿过所述盖元件(16)发送或接收光。16.根据前述三项权利要求中任一项所述的电光转换器构件(3)，其中，所述电光转换器元件(13)是以下元件之一：-发光二极管，-激光二极管，特别是-vcsel或-eel，-相机传感器或发射器芯片。

技术总结
本发明提供了一种间隔晶片(1)，所述间隔晶片用于通过从间隔晶片(1)分离区段(4)来制造用于容纳电光转换器(3)的间隔件(2)。间隔晶片(1)包括透明玻璃板(10)，所述透明玻璃板(10)具有呈网格分布设置的、相互隔开的多个开口(5)，从而沿着所述开口(5)之间的分隔线(7)通过分离所述玻璃板(10)的区段(4)获得单独的间隔件(2)，其中，所述开口(5)具有侧壁(50)，所述侧壁(50)具有带有粗糙度的微结构(9)，其中，粗糙度的平均粗糙值R


技术研发人员：U
受保护的技术使用者：肖特股份有限公司
技术研发日：2021.04.29
技术公布日：2022/12/8