密集图案的光学临近修正方法及装置、电子设备与流程

技术特征：
1.一种密集图案的光学临近修正方法，其特征在于，包括如下步骤：建立掩膜板图案的中心间距规则，其中，所述中心间距规则为光学临近修正后的掩膜板图案的图案中心间距大于或等于第一预设阈值；基于预设规则对光学临近修正的目标图案的边缘进行分段；对所划分的边缘段进行移动，并对移动后的所有所述边缘段进行掩膜规则验证，获取光学临近修正后的第一掩膜板图案；对所获取的第一掩膜板图案的所有边缘段进行所述中心间距规则验证，找出违反所述中心间距规则的所有边缘段；对所找出的每一所述边缘段进行移动修正、并再次进行所述掩膜规则验证以及所述中心间距规则验证，以获取第二掩膜板图案；以及利用光学临近修正模型对所获取的第二掩膜板图案进行仿真以及边缘位置误差检查，以获取光学临近修正后的最终掩膜板图案。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一预设阈值小于光学临近修正的目标图案的最小中心间距，且大于会造成热点或缺陷的掩模版图案的图案中心间距临界值。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的建立掩膜板图案的中心间距规则的步骤进一步包括：建立水平方向的掩膜板图案的中心间距规则；或建立竖直方向的掩膜板图案的中心间距规则；或同时建立水平方向和竖直方向的掩膜板图案的中心间距规则。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的对移动后的所有所述边缘段进行掩膜规则验证的步骤进一步包括：对于违反所述掩膜规则的边缘段，撤回其最近一次移动操作并再次进行所述掩膜规则验证，直至所有边缘段均通过所述掩膜规则验证。5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的找出违反所述中心间距规则的所有边缘段的步骤进一步包括：找出待计算图案中心间距的边缘段的所有相关的关联边缘单元；根据该边缘段与相应关联边缘单元的距离，计算出该边缘段的相应图案中心间距；若所计算出的相应图案中心间距小于所述第一预设阈值，则该边缘段以及相应关联边缘单元所在的边缘段均为违反所述中心间距规则的边缘段。6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的找出违反所述中心间距规则的所有边缘段的步骤进一步包括：找出与边缘段a1在同一多边形里并与其相对的所有第一关联边缘单元b1，b2，
…
，bm；找出与边缘段a1相邻的多边形里分别与边缘段a1以及每一第一关联边缘单元bi相对应的所有第二关联边缘单元ci1，ci2，
…
，cin；找出与第二关联边缘单元cij在同一多边形里并与其相对的所有第三关联边缘单元dij1，dij2，
…
，dijp；采用以下公式计算出边缘段a1的相应图案中心间距pijk： pijk= w(a1，bi) /2 w(a1，cij) w(cij，dijk) /2，其中，i=1、2、
…
、m；j=1、2、
…
、n；k=1、2、
…
、p；w(a1，bi)为边缘段a1与第一关联边缘单元bi之间的距离，w(a1，cij) 为边缘段a1与第二关联边缘单元cij之间的距离，w(cij，dijk) 为第二关联边缘单元cij与第三关联边缘单元dijk之间的距离；若所计算出的相应图案中心间距pijk小于所述第一预设阈值，则边缘段a1以及第一关联边缘单元bi、第二关联边缘单元cij、第三关联边缘单元dijk所在的边缘段均为违反所述中心间距规则的边缘段。7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的对所找出的每一所述边缘段进行移动修正的步骤进一步包括：对所找出的每一所述边缘段，判断最近一次移动操作是否会减少相关的图案中心间距；如果是，则撤回相应边缘段的该次移动操作；如果否，则保留相应边缘段的该次移动操作。8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的对所找出的每一所述边缘段进行移
动修正、并再次进行所述掩膜规则验证以及所述中心间距规则验证的步骤进一步包括：在对所有所述边缘段的移动修正处理结束后，再次进行所述掩膜规则验证以及所述中心间距规则验证。9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的利用光学临近修正模型对所获取的第二掩膜板图案进行仿真以及边缘位置误差检查，以获取光学临近修正后的最终掩膜板图案的步骤进一步包括：将对所获取的第二掩膜板图案进行仿真得到的仿真轮廓对应光学临近修正的目标图案进行边缘位置误差检查；若边缘位置误差小于第二预设阈值，则将当前的第二掩膜板图案作为光学临近修正后的最终掩膜板图案，否则根据边缘位置误差计算各个边缘段所需的移动量，进行下一轮的边缘段移动、掩膜规则验证、中心间距规则验证、仿真以及边缘位置误差检查操作。10.一种光学临近修正装置，其特征在于，包括：建立模块，用于建立掩膜板图案的中心间距规则，其中，所述中心间距规则为光学临近修正后的掩膜板图案的图案中心间距大于或等于第一预设阈值；分段模块，用于基于预设规则对光学临近修正的目标图案的边缘进行分段；第一验证模块，用于对所划分的边缘段进行移动，并对移动后的所有所述边缘段进行掩膜规则验证，获取光学临近修正后的第一掩膜板图案；第二验证模块，用于对所获取的第一掩膜板图案的所有边缘段进行所述中心间距规则验证，找出违反所述中心间距规则的所有边缘段；修正模块，用于对所找出的每一所述边缘段进行移动修正、并再次进行所述掩膜规则验证以及所述中心间距规则验证，以获取第二掩膜板图案；以及仿真模块，用于利用光学临近修正模型对所获取的第二掩膜板图案进行仿真以及边缘位置误差检查，以获取光学临近修正后的最终掩膜板图案。11.一种电子设备，包括存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的计算机可执行程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机可执行程序时实现如权利要求1~9任一项所述的光学临近修正方法的步骤。

技术总结
本发明公开了一种密集图案的光学临近修正方法及装置、电子设备。本发明通过预设掩膜板图案的中心间距规则，在对密集图案进行光学临近修正的流程中，加入水平方向、竖直方向或水平竖直两个方向的图案中心间距的约束；在边缘段的每一次移动之后，都对当前掩膜板图案进行中心间距规则检查，找到违反规则的所有边缘段；对于某一违反规则的边缘段，如果其最近一次移动操作会减少相关的图案中心间距则撤回该边缘段的该次移动，保证了最终得到的掩膜板图案的图案中心间距不会小于预设的最小值，有效的避免了因为掩膜板图案的图案中心间距过小造成的热点和缺陷，提高了晶片生产的良率。提高了晶片生产的良率。提高了晶片生产的良率。


技术研发人员：ꢀ(74)专利代理机构
受保护的技术使用者：华芯程（杭州）科技有限公司
技术研发日：2022.11.09
技术公布日：2022/12/6