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MgTiO3基复合微波介质陶瓷及其制备方法、应用与流程

2022-11-16 16:50:18 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种mgtio3基复合微波介质陶瓷,其特征在于,包括主料和添加剂;所述主料包括mgti
1-x
(zn
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ta
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)
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o3和(na
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)tio3;其中,x为0.09~0.12;所述添加剂包括mgf2。2.根据权利要求1所述的mgtio3基复合微波介质陶瓷,其特征在于,所述mgti
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o3占主料的质量百分比为86.9%~89.4%,所述(na
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)tio3占主料的质量百分比为10.6%~13.1%。3.根据权利要求1所述的mgtio3基复合微波介质陶瓷,其特征在于,所述添加剂占主料的质量百分比为1.5%~2.0%。4.根据权利要求1-3任一项所述的mgtio3基复合微波介质陶瓷,其特征在于,所述mgtio3基复合微波介质陶瓷的介电常数为19.88~21.79,品质因数在170000ghz以上,谐振频率温度系数为-10~10ppm/℃,抗热震温差在160℃以上。5.一种权利要求1-4任一项所述的mgtio3基复合微波介质陶瓷的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:将各化学成分按比例配料,预烧,得到所述mgti
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(zn
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o3和所述(na
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)tio3,再与所述添加剂混合,之后进行造粒、压制成型以及烧结成瓷,得到所述mgtio3基复合微波介质陶瓷。6.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述mgti
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(zn
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o3的制备方法包括以下步骤:mgo、tio2、zno以及ta2o5按比例配料,经第一球磨后再进行第一预烧,得到所述mgti
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(zn
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o3;优选地,所述第一球磨的时间为5~7h,转速为300~400rpm;优选地,所述第一预烧的温度为1080~1120℃,时间为4~5h。7.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述(na
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)tio3的制备方法包括以下步骤:naco3、tio2以及la2o3按比例配料,经第二球磨后再进行第二预烧,得到所述(na
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)tio3;优选地,所述第二球磨的时间为5~7h,转速为300~400rpm;优选地,所述第二预烧的温度为930~970℃,时间为2~3h。8.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述造粒之前还包括研磨步骤:优选地,所述研磨包括球磨;优选地,所述造粒后得到的粉体过80目筛后再进行所述压制成型;优选地,所述压制成型包括干压成型;优选地,所述干压成型的压力为80~110mpa。9.根据权利要求5所述的制备方法,其特征在于,所述烧结成瓷的烧结程序包括:先在550~600℃下保温1.5~2h进行排胶,随后升温至1200~1250℃下保温4~5h,之后冷却至室温,得到所述mgtio3基复合微波介质陶瓷;优选地,所述烧结成瓷的过程中的升温速率为2~4℃/min,优选为3℃/min。10.一种权利要求1-4任一项所述的mgtio3基复合微波介质陶瓷在通讯中的应用。

技术总结
本发明提供了一种MgTiO3基复合微波介质陶瓷及其制备方法、应用,涉及陶瓷材料的技术领域,本发明的MgTiO3基复合微波介质陶瓷包括主料和添加剂;主料包括MgTi


技术研发人员:孙轲 王秀红
受保护的技术使用者:无锡市高宇晟新材料科技有限公司
技术研发日:2022.08.16
技术公布日:2022/11/15
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