一种带定位的蒸发源坩埚装配环的制作方法

1.本实用新型涉及一种带定位的蒸发源坩埚装配环，属于真空蒸镀技术领域。


背景技术：

2.当前的坩埚在蒸发源蒸镀时，坩埚装入蒸发源后如图1所示，坩埚沿直接搭在蒸发源1上沿与之贴合，且坩埚沿厚度只有0.8-1mm，根本搭不上手，使用完毕后坩埚2难以取出。
3.并且，现有技术中，由于没有定位装置，坩埚在放入蒸发源时会存在一定的偏心，一方面会导致坩埚环向受热不均匀，影响蒸镀的精度和稳定性，另一方面每次装配都存在不同的偏心差，从而影响蒸镀的重复性或一致性。


技术实现要素：

4.针对现有技术的不足，本实用新型提供一种带定位的蒸发源坩埚装配环，可以方便取放，且带有定位装置，使坩埚受热均匀，且保证了多次蒸镀的一致性。
5.本实用新型采用以下技术方案：
6.一种带定位的蒸发源坩埚装配环，包括一环形本体，所述环形本体的底部垂直设置有定位环a，用于与蒸发源配合，所述环形本体上部垂直设置有定位环b，用于与坩埚沿配合，环形本体、定位环a和定位环b同心设置，定位环a的直径大于定位环b的直径。
7.优选的，所述定位环a固定于环形本体中部或者端部。
8.在装配时，首先将装配环与坩埚装配，将坩埚定位在定位环b内，即先对坩埚居中定位，然后再放入蒸发源，放入时，定位环a可以卡在蒸发源反射筒外侧或冷却筒外侧，实现定位，可以保证坩埚放入蒸发源后两者始终保持同心，蒸镀精度和稳定性较高，同时保证了多次蒸镀的一致性。
9.当定位环a固定于环形本体中部时，则环形本体外端会有部分凸出形成水平沿，取放坩埚时，可以手拿着水平沿连同坩埚一起取放；
10.当定位环a固定于环形本体端部时，取放坩埚时，可以手拿着定位环b进行取放。
11.优选的，所述环形本体的厚度为0.5-1mm，对蒸发效果几乎无影响。
12.优选的，所述定位环a与蒸发源之间，以及定位环b与坩埚之间均具有0.1-0.2mm的装配间隙，以方便装配。
13.优选的，所述环形本体、定位环a和定位环b的材质均为钽、钨或钼其中的一种，钽、钨、钼材料这三种材料耐高温，饱和蒸汽压低，易加工。
14.本实用新型中未详尽之处，均可采用现有技术进行。
15.本实用新型的有益效果为：
16.1)本实用新型可对坩埚进行定位，保证蒸镀时坩埚居中和多次装配的一致性，受热均匀，提高了蒸镀精度、稳定性和一致性。
17.2)本实用新型取放方便，解决了坩埚难取放问题。
附图说明
18.图1为现有技术的结构示意图；
19.图2为本实用新型的带定位的蒸发源坩埚装配环某一实施例的结构示意图；
20.图3为本实用新型的带定位的蒸发源坩埚装配环另一实施例的结构示意图；
21.其中，1-蒸发源，2-坩埚，3-环形本体，4-定位环a，5-定位环b。
具体实施方式：
22.为使本实用新型要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述，但不仅限于此，本实用新型未详尽说明的，均按本领域常规技术。
23.实施例1：
24.一种带定位的蒸发源坩埚装配环，如图2-3所示，包括一环形本体3，环形本体3的底部垂直设置有定位环a 4，用于与蒸发源配合，环形本体3上部垂直设置有定位环b 5，用于与坩埚沿配合，环形本体、定位环a和定位环b之间可以一体成型或采用其他固定方式连接，环形本体3、定位环a 4和定位环b 5同心设置，定位环a 4的直径大于定位环b 5的直径，即装配后，定位环a位于定位环b之外。
25.在装配时，首先将装配环与坩埚装配，将坩埚定位在定位环b 5内，即先对坩埚居中定位，然后再放入蒸发源，放入时，定位环a 4可以卡在蒸发源反射筒外侧或冷却筒外侧，实现定位，可以保证坩埚放入蒸发源后两者始终保持同心，蒸镀精度和稳定性较高，同时保证了多次蒸镀的一致性。
26.环形本体3的厚度为0.5-1mm，定位环a与蒸发源之间，以及定位环b与坩埚之间均具有0.1-0.2mm的装配间隙，以方便装配。
27.环形本体3、定位环a 4和定位环b 5的材质均为钽，耐高温，饱和蒸汽压低，易加工。
28.实施例2：
29.一种带定位的蒸发源坩埚装配环，结构如实施例1所示，所不同的是，如图2所示，定位环a 4固定于环形本体中部，环形本体3外端会有部分凸出形成水平沿，取放坩埚时，可以手拿着水平沿连同坩埚一起取放。
30.实施例3：
31.一种带定位的蒸发源坩埚装配环，结构如实施例1所示，所不同的是，如图3所示，定位环a 4固定于环形本体端部，取放坩埚时，可以手拿着定位环b进行取放，定位环b即起到定位作用，又方便取放。
32.以上所述是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。


技术特征：
1.一种带定位的蒸发源坩埚装配环，其特征在于，包括一环形本体，所述环形本体的底部垂直设置有定位环a，用于与蒸发源配合，所述环形本体上部垂直设置有定位环b，用于与坩埚沿配合，环形本体、定位环a和定位环b同心设置，定位环a的直径大于定位环b的直径。2.根据权利要求1所述的带定位的蒸发源坩埚装配环，其特征在于，所述定位环a固定于环形本体中部或者端部。3.根据权利要求2所述的带定位的蒸发源坩埚装配环，其特征在于，所述环形本体的厚度为0.5-1mm。4.根据权利要求3所述的带定位的蒸发源坩埚装配环，其特征在于，所述定位环a与蒸发源之间，以及定位环b与坩埚之间均具有0.1-0.2mm的装配间隙。5.根据权利要求4所述的带定位的蒸发源坩埚装配环，其特征在于，所述环形本体、定位环a和定位环b的材质均为钽、钨或钼。

技术总结
本实用新型涉及一种带定位的蒸发源坩埚装配环，属于真空蒸镀技术领域，包括一环形本体，所述环形本体的底部垂直设置有定位环A，用于与蒸发源配合，所述环形本体上部垂直设置有定位环B，用于与坩埚沿配合，环形本体、定位环A和定位环B同心设置，定位环A的直径大于定位环B的直径。本实用新型可以方便取放，且带有定位装置，使坩埚受热均匀，且保证了多次蒸镀的一致性。致性。致性。


技术研发人员：刘汝强 王殿春 王之腾 丁友谊 刘庆毅
受保护的技术使用者：山东国晶新材料有限公司
技术研发日：2022.04.25
技术公布日：2022/11/10