一种高质量INP加工设备的制作方法

一种高质量inp加工设备
技术领域
1.本发明涉及inp加工技术领域，更具体地说，本发明涉及一种高质量inp加工设备。


背景技术：

2.磷化铟(inp)晶体是重要的半导体材料，与砷化镓(gaas)材料相比，它具有电子极限漂移速度高、耐辐射性能好、热导率高、击穿电场高等特点，因此，inp材料在微波、毫米波电路及高速数字集成电路的制备中是首选的衬底材料，磷化铟晶片在加工的时候会用到一种超精密的研磨抛光设备，将晶片放置在工作台的表面然后利用抛光装置对其表面进行转动抛光，此外还配有相应的出水机构对其进行清理冷却处理，使得整体加工的过程更为精准与完善。
3.现有的研磨抛光设备大部分的工作台单次只能对一个晶体进行抛光研磨，因此使得整体加工装置的实用性降低，浪费了抛光装置另外半面的转动空间，降低了空间利用率，其次晶片放置的过程中往往都需要专业的工作人员对其进行相关定位，这种定位过程需要工作人员的操作熟练度，因此使得整体设备对人的依赖性较高，降低了本身设备的自动化程度，提高了相应的使用门槛。
4.于是，发明人有鉴于此，秉持多年该相关行业丰富的设计开发及实际制作的经验，针对现有的结构及缺失予以研究改良，提供高质量inp加工设备，以期达到更具有实用性以及高自动化程度的目的。


技术实现要素：

5.为了克服现有技术的上述缺陷，本发明的实施例提供一种高质量inp加工设备，利用磨平装置对两个inp晶片进行加工处理可以进一步的提高整体装置实用性的效果，提高了整体设备的加工效率；设置排除组件可以有效的将冷却组件与预留组件进行联动，使得其可以配合预留组件完成预备安置动作，配合冷却组件可以推动废液的集中回收进程，因此进一步的达到了提升整体装置环保性和实用性的效果；利用预留组件可以预先安排好inp晶片的安置动作，因此可以有效的节约整体的工作时间，因此达到了提高加工效率的效果，以解决上述背景技术中提出的问题。
6.为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种高质量inp加工设备，包括工作台，所述工作台的背面活动安装有磨平装置，所述工作台的左右两侧均活动安装有冷却组件，所述工作台的正面活动安装有排除组件，所述排除组件的顶端活动安装有预留组件；
7.所述工作台的侧面固定连通有进水管，所述工作台的顶面固定安装有安置台，所述工作台的顶面开设有排水槽，所述工作台的正面固定安装有导轨，所述工作台的底部固定安装有接收盒，所述接收盒的侧面开设有引流槽，所述接收盒的底面与工作台的内部均开设有斜方槽，所述工作台的侧面固定安装有废水收集盒，所述废水收集盒的底端固定连通有导出管。
8.在一个优选地实施方式中，所述排水槽的形状与安置台的形状相适配，所述排水
槽和引流槽相互连通，所述进水管的一端固定连通有输水装置。
9.在一个优选地实施方式中，所述冷却组件包括冷却管，所述冷却管的表面固定安装有安装环，所述安装环的侧面固定安装有直杆，所述直杆的底端固定安装有固定板，所述固定板的内部活动套接有传动板，所述传动板的右端固定安装有清理垫，所述固定板的底端螺纹安装有螺杆。
10.在一个优选地实施方式中，所述清理垫的材质设置为吸水海绵材料，所述螺杆的右端转动安装在工作台的内部，所述螺杆的左端固定套接有驱动装置，所述冷却管的底端固定连通在工作台的侧面，且与进水管相互连通。
11.在一个优选地实施方式中，所述排除组件包括安装管，所述安装管的表面开设有滑动槽，所述安装管的内侧固定安装有t形连接轴，所述t形连接轴的底端固定安装有限位柱，所述限位柱的底端固定安装有直板，所述直板的底端一体形成有推板。
12.在一个优选地实施方式中，所述限位柱的左右两端均滑动安装在导轨的内部，所述推板的左右两侧均贴合在接收盒内壁的左右两侧，所述滑动槽的数量为四个，所述安装管的数量为两个，两个所述安装管的大小和安置台的大小相适配。
13.在一个优选地实施方式中，所述预留组件包括垫环，所述垫环的侧面固定安装有u形管，所述u形管的一端一体形成有连接盘，所述连接盘的内壁固定连接有弹簧，所述连接盘的侧面固定安装有螺纹环，所述螺纹环的内部螺纹安装有双纹螺杆，所述u形管的表面活动套接有安装盒，所述安装盒的侧面固定安装有连接柱，所述预留组件的数量为两个。
14.在一个优选地实施方式中，所述垫环的大小和滑动槽的大小相适配，所述连接柱的一端固定安装在安装管的正面，所述安装盒的左侧表面开设有方槽，所述方槽的形状和弹簧的形状相适配。
15.本发明的技术效果和优点：
16.1、本发明在当将两个inp晶片加工结束后，通过驱动装置带动螺杆进行旋转，带动清理垫对inp的表面进行清理，废液经过排水槽通过引流槽进入到接收盒的内部，配合排除组件的推动，将废液从斜方槽的底端流入到废水收集盒的内部，因此可以进一步的达到了提高整体装置环保性的效果，利用磨平装置对两个inp晶片进行加工处理可以进一步的提高整体装置实用性的效果，提高了整体设备的加工效率。
17.2、本发明通过设置排除组件可以有效的将冷却组件与预留组件进行联动，使得其可以配合预留组件完成预备安置动作，配合冷却组件可以推动废液的集中回收进程，因此进一步的达到了提升整体装置环保性和实用性的效果。
18.3、本发明当磨平装置对安置台内部的inp进行加工的时候，此时将下一组的inp放置在垫环的顶面，最后完成安置，安置好后将双纹螺杆转动至初始位置，然后将后两片inp安置在垫环的顶面进行下一次的加工预备动作，利用预留组件可以预先安排好inp晶片的安置动作，因此可以有效的节约整体的工作时间，因此达到了提高加工效率的效果。
附图说明
19.图1为本发明的整体结构示意图。
20.图2为本发明的立体装配结构示意图。
21.图3为本发明的安装盒连接结构示意图。
22.图4为本发明的安装盒结构示意图。
23.图5为本发明的缓震组件结构示意图。
24.图6为本发明的卡扣组件结构示意图。
25.图7为本发明的封隔组件结构示意图。
26.附图标记为：1、工作台；2、磨平装置；3、冷却组件；4、排除组件；5、预留组件；11、进水管；12、安置台；13、排水槽；14、导轨；15、接收盒；16、引流槽；17、斜方槽；18、废水收集盒；31、冷却管；32、安装环；33、固定板；34、传动板；35、清理垫；36、螺杆；41、安装管；42、滑动槽；43、t形连接轴；44、限位柱；45、直板；46、推板；51、垫环；52、u形管；53、连接盘；54、弹簧；55、螺纹环；56、双纹螺杆；57、安装盒；58、连接柱。
具体实施方式
27.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
28.如附图1-7所示的一种高质量inp加工设备，包括工作台1，所述工作台1的背面活动安装有磨平装置2，所述工作台1的左右两侧均活动安装有冷却组件3，所述工作台1的正面活动安装有排除组件4，所述排除组件4的顶端活动安装有预留组件5；
29.所述工作台1的侧面固定连通有进水管11，所述工作台1的顶面固定安装有安置台12，所述工作台1的顶面开设有排水槽13，所述工作台1的正面固定安装有导轨14，所述工作台1的底部固定安装有接收盒15，所述接收盒15的侧面开设有引流槽16，所述接收盒15的底面与工作台1的内部均开设有斜方槽17，所述工作台1的侧面固定安装有废水收集盒18，所述废水收集盒18的底端固定连通有导出管。
30.如附图3和附图4，所述排水槽13的形状与安置台12的形状相适配，所述排水槽13和引流槽16相互连通，所述进水管11的一端固定连通有输水装置，所述冷却组件3包括冷却管31，所述冷却管31的表面固定安装有安装环32，所述安装环32的侧面固定安装有直杆，所述直杆的底端固定安装有固定板33，所述固定板33的内部活动套接有传动板34，所述传动板34的右端固定安装有清理垫35，所述固定板33的底端螺纹安装有螺杆36，所述清理垫35的材质设置为吸水海绵材料，所述螺杆36的右端转动安装在工作台1的内部，所述螺杆36的左端固定套接有驱动装置，所述冷却管31的底端固定连通在工作台1的侧面，且与进水管11相互连通。
31.具体的，通过将工作台1设置成图示结构，拥有两个安置台12，使得磨平装置2在进行打磨的时候，可以同时对两个inp晶片进行加工，摒弃了以往工作台1的工作局限性，加工的过程中，冷却管31的上端会喷出液体来进行冷凝以及清理，当将两个inp晶片加工结束后，通过驱动装置带动螺杆36进行旋转，带动清理垫35对inp的表面进行清理，废液经过排水槽13通过引流槽16进入到接收盒15的内部，配合排除组件4的推动，将废液从斜方槽17的底端流入到废水收集盒18的内部，因此可以进一步的达到了提高整体装置环保性的效果，利用磨平装置2对两个inp晶片进行加工处理可以进一步的提高整体装置实用性的效果，提高了整体设备的加工效率。
32.如附图5至附图6，所述排除组件4包括安装管41，所述安装管41的表面开设有滑动槽42，所述安装管41的内侧固定安装有t形连接轴43，所述t形连接轴43的底端固定安装有限位柱44，所述限位柱44的底端固定安装有直板45，所述直板45的底端一体形成有推板46，所述限位柱44的左右两端均滑动安装在导轨14的内部，所述推板46的左右两侧均贴合在接收盒15内壁的左右两侧，所述滑动槽42的数量为四个，所述安装管41的数量为两个，两个所述安装管41的大小和安置台12的大小相适配。
33.具体的，将inp通过预留组件5进行放置在安装管41的内部时，当前面两个inp晶片加工结束后，也配合冷却组件3进行清理过后，将安置台12内部的两个inp晶片取出，然后推动直板45，使得限位柱44进入到导轨14的底端，此时安装管41对准在安置台12的顶端，操作预留组件5即可将两个预留的inp直接从安装管41的内部放置到安置台12的内部，此外在直板45推动的过程中，推板46对接收盒15内部的废液进行推压，使其进入到斜方槽17的内部，从而推动废液回收进程的发展，当安置台12内部安置好后，将直板45拉出至原位即可，利用排除组件4可以有效的将冷却组件3与预留组件5进行联动，使得其可以配合预留组件5完成预备安置动作，配合冷却组件3可以推动废液的集中回收进程，因此进一步的达到了提升整体装置环保性和实用性的效果。
34.如附图7，所述预留组件5包括垫环51，所述垫环51的侧面固定安装有u形管52，所述u形管52的一端一体形成有连接盘53，所述连接盘53的内壁固定连接有弹簧54，所述连接盘53的侧面固定安装有螺纹环55，所述螺纹环55的内部螺纹安装有双纹螺杆56，所述u形管52的表面活动套接有安装盒57，所述安装盒57的侧面固定安装有连接柱58，所述预留组件5的数量为两个，所述垫环51的大小和滑动槽42的大小相适配，所述连接柱58的一端固定安装在安装管41的正面，所述安装盒57的左侧表面开设有方槽，所述方槽的形状和弹簧54的形状相适配。
35.具体的，当磨平装置2对安置台12内部的inp进行加工的时候，此时将下一组的inp放置在垫环51的顶面，在安装管41的内部进行安置，当安装管41对准安置台12后，转动双纹螺杆56带动两个螺纹环55同时向外移动，移动的过程中通过u形管52带动两个垫环51同时向外移动，从滑动槽42的内部滑出，此时inp沿着安装管41的内壁落至在安置台12的表面，最后完成安置，安置好后将双纹螺杆56转动至初始位置，然后将后两片inp安置在垫环51的顶面进行下一次的加工预备动作，利用预留组件5可以预先安排好inp晶片的安置动作，因此可以有效的节约整体的工作时间，因此达到了提高加工效率的效果。
36.本发明工作原理：在当将两个inp晶片加工结束后，通过驱动装置带动螺杆36进行旋转，带动清理垫35对inp的表面进行清理，废液经过排水槽13通过引流槽16进入到接收盒15的内部，配合排除组件4的推动，将废液从斜方槽17的底端流入到废水收集盒18的内部，因此可以进一步的达到了提高整体装置环保性的效果，利用磨平装置2对两个inp晶片进行加工处理可以进一步的提高整体装置实用性的效果，提高了整体设备的加工效率；
37.设置排除组件4可以有效的将冷却组件3与预留组件5进行联动，使得其可以配合预留组件5完成预备安置动作，配合冷却组件3可以推动废液的集中回收进程，因此进一步的达到了提升整体装置环保性和实用性的效果；
38.当磨平装置2对安置台12内部的inp进行加工的时候，此时将下一组的inp放置在垫环51的顶面，最后完成安置，安置好后将双纹螺杆56转动至初始位置，然后将后两片inp
安置在垫环51的顶面进行下一次的加工预备动作，利用预留组件5可以预先安排好inp晶片的安置动作，因此可以有效的节约整体的工作时间，因此达到了提高加工效率的效果。
39.最后应说明的几点是：首先，在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，可以是机械连接或电连接，也可以是两个元件内部的连通，可以是直接相连，“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变，则相对位置关系可能发生改变；
40.其次：本发明公开实施例附图中，只涉及到与本公开实施例涉及到的结构，其他结构可参考通常设计，在不冲突情况下，本发明同一实施例及不同实施例可以相互组合；
41.最后：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。