一种硅片扩散炉持续供气系统的制作方法

1.本实用新型涉及扩散炉技术领域，尤其涉及一种硅片扩散炉持续供气系统。


背景技术：

2.扩散炉是半导体生产设备之一，常用于大规模集成电路、分立器件和光电器件等的扩散、氧化、退火及烧结，比如硅片的扩散。
3.在扩散炉的使用过程中，常需要用到高温气体，进行保护、扩散或者氧化。现有技术中，高温气体的供气比较集中，待气体温度和气压上升到一定范围后才能进行集中供气，而且往往只有一套供气系统，供气的持续性差，影响扩散的持续性和效率。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种硅片扩散炉持续供气系统，实现气流的加热和连续输出，提升硅片扩散炉的工作效率。
5.为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：
6.一种硅片扩散炉持续供气系统，包括：加热棒、密封筒、导气管、固定阀板和旋转阀板，所述加热棒同心设置密封筒中，所述导气管环形阵列设置在密封筒中并沿密封筒的长度方向延伸，所述固定阀板固定设置密封筒中并位于导气管的前端，所述固定阀板上设置有与导气管一一对应的连接孔，所述旋转阀板活动设置在固定阀板的正面，所述旋转阀板上设置有一个与连接孔对应的阀孔，所述密封筒前端设置有盖板，所述旋转阀板背面设置有延伸至盖板外侧的驱动轴，所述盖板上设置有出气管接头，所述密封筒外圆上设置有进气管接头。
7.其中，所述驱动轴上设置有驱动轮。
8.其中，所述进气管接头位于密封筒外圆前端。
9.其中，所述加热棒采用电加热棒，所述加热棒上间隔设置有翅片。
10.其中，所述密封筒中间隔设置有支架，所述支架上设置有与加热棒及导气管对应的通孔。
11.其中，所述密封筒外壁设置有保温层。
12.本实用新型的有益效果：一种硅片扩散炉持续供气系统，特别设计了多根导气管，通过固定阀板和旋转阀板的配合，依次通过导气管进行高温气体的输出，确保气体输出的温度均匀性和持续性，满足了硅片扩散炉的连续工作，提升了生产效率。
附图说明
13.图1是本实用新型的结构示意图；
14.图2是图1中固定阀板的左视图；
15.图3是图1中旋转阀板的左视图。
具体实施方式
16.下面结合图1至图3并通过具体实施例来进一步说明本实用新型的技术方案。
17.如图1所示的硅片扩散炉持续供气系统，包括：加热棒12、密封筒1、导气管3、固定阀板10和旋转阀板9，所述加热棒12同心设置密封筒1中，在本实施例中，所述加热棒12采用电加热棒，通电进行加热，所述加热棒12上间隔设置有翅片11，提升对密封筒1中气体的加热效率。此外，所述密封筒1外壁设置有保温层2，通过保温材料进行隔热保温。
18.所述导气管3环形阵列设置在密封筒1中并沿密封筒1的长度方向延伸，所述密封筒1中间隔设置有支架4，所述支架4上设置有与加热棒12及导气管3对应的通孔，进行加热棒12及导气管3的支撑，支架4上还可以加工气槽，不影响密封筒1中气体的流动。
19.在本实施例中，所述固定阀板10焊接固定在密封筒1中并位于导气管3的前端，所述固定阀板10上设置有与导气管3一一对应的连接孔，如图2所示，导气管3的前端与连接孔焊接固定，利用导气管3的长度进行一定量气体的加热和暂存。
20.所述密封筒1外圆上设置有进气管接头5，进气管接头5与储气罐相连接，待加热的气体通过进气管接头5进入密封筒1。在本实施例中，所述进气管接头5位于密封筒1外圆前端，延长气体进入导气管3尾部之前的路径，利用翅片11沿途加热，确保气体加热的效果。
21.所述旋转阀板9活动设置在固定阀板10的正面，所述旋转阀板9上设置有一个与连接孔对应的阀孔13，如图3所示，通过阀孔13与对应的连接孔连通，实现导气管3中高温气体的导出，通过旋转阀板9的间歇性旋转，实现导气管3的切换和高温气体的连续导出。
22.为了实现旋转阀板9的驱动，所述旋转阀板9背面设置有延伸至盖板外侧的驱动轴7，所述驱动轴7上设置有驱动轮，通过电机和链条进行驱动轮的旋转驱动，实现驱动轴7和旋转阀板9的间歇性旋转。
23.在本实施例中，所述密封筒1前端设置有盖板6，通过螺丝固定，拆装便利。所述盖板6上设置有出气管接头8，出气管接头8与扩散炉的扩散炉管相连接，将高温气体导入扩散炉管，进行硅片的扩散。
24.以上内容仅为本实用新型的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本实用新型的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本实用新型的限制。


技术特征：
1.一种硅片扩散炉持续供气系统，其特征在于，包括：加热棒、密封筒、导气管、固定阀板和旋转阀板，所述加热棒同心设置密封筒中，所述导气管环形阵列设置在密封筒中并沿密封筒的长度方向延伸，所述固定阀板固定设置密封筒中并位于导气管的前端，所述固定阀板上设置有与导气管一一对应的连接孔，所述旋转阀板活动设置在固定阀板的正面，所述旋转阀板上设置有一个与连接孔对应的阀孔，所述密封筒前端设置有盖板，所述旋转阀板背面设置有延伸至盖板外侧的驱动轴，所述盖板上设置有出气管接头，所述密封筒外圆上设置有进气管接头。2.根据权利要求1所述的硅片扩散炉持续供气系统，其特征在于，所述驱动轴上设置有驱动轮。3.根据权利要求1所述的硅片扩散炉持续供气系统，其特征在于，所述进气管接头位于密封筒外圆前端。4.根据权利要求1所述的硅片扩散炉持续供气系统，其特征在于，所述加热棒采用电加热棒，所述加热棒上间隔设置有翅片。5.根据权利要求1所述的硅片扩散炉持续供气系统，其特征在于，所述密封筒中间隔设置有支架，所述支架上设置有与加热棒及导气管对应的通孔。6.根据权利要求1所述的硅片扩散炉持续供气系统，其特征在于，所述密封筒外壁设置有保温层。

技术总结
本实用新型公开了一种硅片扩散炉持续供气系统，其包括：加热棒、密封筒、导气管、固定阀板和旋转阀板，所述导气管环形阵列设置在密封筒中并沿密封筒的长度方向延伸，所述固定阀板固定设置密封筒中并位于导气管的前端，所述固定阀板上设置有与导气管一一对应的连接孔，所述旋转阀板活动设置在固定阀板的正面，所述旋转阀板上设置有一个与连接孔对应的阀孔，所述密封筒前端设置有盖板，所述旋转阀板背面设置有延伸至盖板外侧的驱动轴，所述盖板上设置有出气管接头。本实用新型所述的硅片扩散炉持续供气系统，依次通过导气管进行高温气体的输出，确保了气体输出的温度均匀性和持续性，满足了硅片扩散炉的连续工作。足了硅片扩散炉的连续工作。足了硅片扩散炉的连续工作。


技术研发人员：章士龙 周炳
受保护的技术使用者：德兴市意发功率半导体有限公司
技术研发日：2022.03.21
技术公布日：2022/8/23