氟树脂膜的制作方法

技术特征：
1.一种氟树脂膜，其为包含氟树脂的氟树脂膜，其特征在于，包含聚合单元的组成比不同的两种氟树脂作为所述氟树脂，至少一个表面的十点平均粗糙度为0.100μm～1.200μm且算术平均粗糙度为0.010μm～0.050μm，绝缘击穿强度为400v/μm以上。2.如权利要求1所述的氟树脂膜，其中，氟树脂为偏二氟乙烯/四氟乙烯共聚物。3.如权利要求2所述的氟树脂膜，其中，氟树脂进一步包含基于烯键式不饱和单体的共聚物单元，其中，该烯键式不饱和单体不包括四氟乙烯和偏二氟乙烯。4.如权利要求1、2或3所述的氟树脂膜，其中，该氟树脂膜进一步包含无机颗粒。5.如权利要求4所述的氟树脂膜，其中，无机颗粒的含量相对于氟树脂100质量份为0.01质量份～5质量份。6.如权利要求1、2或3所述的氟树脂膜，其中，该氟树脂膜进行了压纹加工。7.如权利要求1、2或3所述的氟树脂膜，其中，该氟树脂膜进行了表面涂布。8.如权利要求1、2或3所述的氟树脂膜，其中，所述两种氟树脂中，一种是偏二氟乙烯单元/四氟乙烯单元以摩尔比计为95.0/5.0～39.0/61.0的偏二氟乙烯/四氟乙烯共聚物，另一种是偏二氟乙烯单元/四氟乙烯单元以摩尔比计为38.9/61.1～5.0/95.0的偏二氟乙烯/四氟乙烯共聚物。9.如权利要求1、2或3所述的氟树脂膜，其中，该氟树脂膜为双轴拉伸膜。10.如权利要求1、2或3所述的氟树脂膜，其中，该氟树脂膜的厚度为1μm～100μm。11.一种膜电容器用膜，其在权利要求1、2、3、4、5、6、7、8、9或10所述的氟树脂膜的至少单面具备电极层。12.一种膜电容器，其具备权利要求11所述的膜电容器用膜。

技术总结
提供一种具有低静摩擦系数和高绝缘击穿强度的氟树脂膜。一种氟树脂膜，其为包含氟树脂的氟树脂膜，其特征在于，至少一个表面的十点平均粗糙度为0.100μm～1.200μm，并且算术平均粗糙度为0.010μm～0.050μm，绝缘击穿强度为400V/μm以上。度为400V/μm以上。


技术研发人员：横谷幸治 小松信之 硲武史 立道麻有子 桧垣章夫 樋口达也 山
受保护的技术使用者：大金工业株式会社
技术研发日：2018.01.17
技术公布日：2022/8/22