镭射文本防伪薄膜的制作方法

技术特征：
1.一种镭射文本防伪薄膜，其特征在于，所述镭射文本防伪薄膜包括：载体基膜；离型层，所述离型层通过涂布设于所述载体基膜的一侧；镭射图案层，所述镭射图案层设于所述离型层远离所述载体基膜的一侧；文本图案层，所述文本图案层设于所述镭射图案层远离所述离型层的一侧，所述文本图案层包括油膜区和图案区，所述图案区有多个且分散于所述油膜区，所述油膜区通过带有油膜的图案辊转印形成，所述图案区通过金属真空蒸镀以形成，胶粘层，所述胶粘层设于所述文本图案层远离所述镭射图案层的一侧。2.如权利要求1所述的镭射文本防伪薄膜，其特征在于，所述镭射文本防伪薄膜还包括铝层，所述铝层设于所述镭射图案层和所述文本图案层之间，所述铝层通过金属铝真空蒸镀以形成。3.如权利要求2所述的镭射文本防伪薄膜，其特征在于，所述铝层的厚度为20nm～50nm。4.如权利要求1所述的镭射文本防伪薄膜，其特征在于，所述图案区为锌铝合金层。5.如权利要求1所述的镭射文本防伪薄膜，其特征在于，所述油膜区为氟油层。6.如权利要求1至5任一项所述的镭射文本防伪薄膜，其特征在于，所述载体基膜为pet薄膜，所述载体基膜的厚度为10μm～15μm。7.如权利要求1至5任一项所述的镭射文本防伪薄膜，其特征在于，所述离型层由有机硅树脂制成，所述离型层的厚度为1μm～2μm。8.如权利要求1至5任一项所述的镭射文本防伪薄膜，其特征在于，所述镭射图案层通过激光镭射模压形成，所述镭射图案层的厚度为2μm～5μm。9.如权利要求1至5任一项所述的镭射文本防伪薄膜，其特征在于，所述文本图案层的厚度为20nm～50nm。10.如权利要求1至5任一项所述的镭射文本防伪薄膜，其特征在于，所述胶粘层由热熔性塑胶或者树脂制成，所述胶粘层的厚度为5μm～10μm。

技术总结
本实用新型公开一种镭射文本防伪薄膜，涉及镭射防伪标签技术领域，所述镭射文本防伪薄膜包括：载体基膜；离型层，所述离型层通过涂布设于所述载体基膜的一侧；镭射图案层，所述镭射图案层设于所述离型层远离所述载体基膜的一侧；文本图案层，所述文本图案层设于所述镭射图案层远离所述离型层的一侧，所述文本图案层包括油膜区和图案区，所述图案区有多个且分散于所述油膜区，所述油膜区通过带有油膜的图案辊转印形成，所述图案区通过金属真空蒸镀以形成，胶黏层，所述胶黏层设于所述文本图案层远离所述镭射图案层的一侧。该镭射文本防伪薄膜加工方便且不会造成环境污染的。膜加工方便且不会造成环境污染的。膜加工方便且不会造成环境污染的。


技术研发人员：黄伟东
受保护的技术使用者：广东顺德凯普司特电子材料有限公司
技术研发日：2022.04.14
技术公布日：2022/7/26