一种真空镀膜设备的制作方法

技术特征：
1.一种真空镀膜设备，包括真空腔体，其特征在于，还包括设置到所述真空腔体内的薄膜输送装置，所述薄膜输送装置包括放卷辊和收卷辊，所述放卷辊和收卷辊分别用于对薄膜进行放卷、收卷，在所述放卷辊和收卷辊之间的薄膜输送路径上依次设置有磁控溅射装置和蒸发装置，所述磁控溅射装置和蒸发装置分别用于对薄膜的表面进行镀膜。2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述薄膜输送装置还包括展平辊、第一转向辊和第二转向辊，所述展平辊位于所述放卷辊的正上方，所述放卷辊、展平辊分别靠近真空腔体的第一内壁，所述第一转向辊靠近真空腔体的第二内壁并位于展平辊的上方，所述第二转向辊位于第一转向辊的正上方，所述收卷辊与第二转向辊呈平行设置且收卷辊位于展平辊和第二转向辊之间。3.根据权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述薄膜输送装置还包括第一冷却辊和第二冷却辊，所述第二冷却辊位于所述第一转向辊的正下方，第二冷却辊与第一转向辊之间具有供薄膜穿过的间隙，所述第一冷却辊位于所述展平辊和第二冷却辊之间，第一冷却辊位于展平辊的上方且与第二冷却辊呈平行设置。4.根据权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述磁控溅射装置至少为两个，两个磁控溅射装置分别为下磁控溅射装置和上磁控溅射装置，所述下磁控溅射装置和上磁控溅射装置分别位于所述展平辊和第一冷却辊之间，下磁控溅射装置和上磁控溅射装置分别用于对薄膜的a面、b面进行镀膜。5.根据权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述蒸发装置至少为两个，两个蒸发装置分别为下蒸发装置和上蒸发装置，所述下蒸发装置位于所述第一冷却辊和第二冷却辊之间用于对薄膜的a面进行镀膜，所述上蒸发装置位于所述第二转向辊和收卷辊之间用于对薄膜的b面进行镀膜。6.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述蒸发装置为一蒸发舟。7.根据权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一转向辊的外径小于第二冷却辊的外径。8.根据权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述放卷辊、展平辊、第一冷却辊、第二冷却辊、第一转向辊、第二转向辊、收卷辊的两端分别设置到所述真空腔体的第三内壁、第四内壁。

技术总结
本实用新型公开了一种真空镀膜设备，包括真空腔体，还包括设置到所述真空腔体内的薄膜输送装置，所述薄膜输送装置包括放卷辊和收卷辊，所述放卷辊和收卷辊分别用于对薄膜进行放卷、收卷，在所述放卷辊和收卷辊之间的薄膜输送路径上依次设置有磁控溅射装置和蒸发装置，所述磁控溅射装置和蒸发装置分别用于对薄膜的表面进行镀膜。本实用新型的磁控溅射镀膜和蒸发镀膜可同时进行，不需在不同的设备进行，提高了生产效率，降低了生产成本，保证了产品的品质。的品质。的品质。


技术研发人员：臧世伟
受保护的技术使用者：重庆金美新材料科技有限公司
技术研发日：2021.12.29
技术公布日：2022/7/19