光学层叠体和显示装置的制作方法

1.本发明涉及光学层叠体和显示装置。


背景技术：

2.日本特开2018－027995号公报(专利文献1)中记载了具备应力缓和特性优异的粘合剂层的柔性图像显示装置。
3.现有技术文献
4.专利文献
5.专利文献1：日本特开2018－027995号公报


技术实现要素：

6.介由粘合剂层层叠有多个层的光学层叠体存在如下问题：弯曲时粘合剂层内或者粘合剂层与相接于粘合剂层的层之间容易产生气泡。
7.本发明的目的在于提供弯曲时抑制气泡产生的光学层叠体和包含该光学层叠体的显示装置。
8.本发明提供以下例示的光学层叠体和显示装置。
9.[1]一种光学层叠体，依次具备前面板、第1粘合剂层、偏振片、第2粘合剂层和背面板，
[0010]
上述第1粘合剂层和上述第2粘合剂层的应力〔pa〕－应变〔％〕曲线中将从原点到最大应力值的斜率分别设为g
l1’和g
l2’时，满足下述式(1)，式(2)和式(3)：
[0011]
20≤g
l1’≤150
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(1)
[0012]
20≤g
l2’≤150
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(2)
[0013]gl1’≥g
l2
’ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(3)。
[0014]
[2]根据[1]所述的光学层叠体，其中，将上述第2粘合剂层的应力缓和率设为σ2时，满足下述式(4)：
[0015]
0.20≤σ2≤0.70
ꢀꢀꢀꢀ
(4)。
[0016]
[3]根据[2]所述的光学层叠体，其中，将上述第1粘合剂层的应力缓和率设为σ1时，满足下述式(5)：
[0017]
σ1≥σ2
ꢀꢀꢀꢀ
(5)。
[0018]
[4]根据[1]～[3]中任一项所述的光学层叠体，其中，将上述第2粘合剂层的蠕变率设为ε2〔％〕时，满足下述式(6)：
[0019]
1.5≤ε2≤20
ꢀꢀꢀꢀ
(6)。
[0020]
[5]根据[4]所述的光学层叠体，其中，将上述第1粘合剂层的蠕变率设为ε1〔％〕时，满足下述式(7)：
[0021]
ε1≤ε2
ꢀꢀꢀꢀ
(7)。
[0022]
[6]根据[1]～[5]中任一项所述的光学层叠体，其中，将上述第2粘合剂层的变形
复原率设为r2〔％〕时，满足下述式(8)：
[0023]
2.5≤r2≤20
ꢀꢀꢀꢀ
(8)。
[0024]
[7]根据[6]所述的光学层叠体，其中，将上述第1粘合剂层的变形复原率设为r1〔％〕时，满足下述式(9)：
[0025]
r1≥r2
ꢀꢀꢀꢀ
(9)。
[0026]
[8]根据[1]～[7]中任一项所述的光学层叠体，其中，上述第1粘合剂层和上述第2粘合剂层的玻璃化转变温度分别为－70℃～－40℃。
[0027]
[9]一种显示装置，包含[1]～[8]中任一项所述的光学层叠体。
[0028]
[10]根据[9]所述的显示装置，其中，能够以上述前面板侧为外侧进行弯曲。
[0029]
根据本发明，提供在弯曲时抑制气泡产生的光学层叠体和包含该光学层叠体的显示装置。
附图说明
[0030]
图1是示出本发明的光学层叠体的一个例子的截面示意图。
[0031]
图2是对基于动态机械分析装置的参数的测定方法进行说明的概略图。
[0032]
图3是对静态弯曲耐久性试验进行说明的概略图。
具体实施方式
[0033]
以下，参照附图对本发明的光学层叠体的实施方式进行说明，但本发明并不限定于以下的实施方式。以下的所有附图中，为了使各构成要素容易理解，适当地调整比例尺而示出，附图中示出的各构成要素的比例尺与实际的构成要素的比例尺未必一致。
[0034]
＜光学层叠体＞
[0035]
图1为本发明的一个实施方式的光学层叠体的截面示意图。图1所示的光学层叠体100依次具备前面板101、第1粘合剂层102、偏振片103、第2粘合剂层104和背面板105。以下，有时将第1粘合剂层102和第2粘合剂层104统称为粘合剂层。
[0036]
光学层叠体100的厚度根据光学层叠体所要求的功能和光学层叠体的用途等而不同，因此没有特别限定，例如为30μm～3000μm，优选为50μm～2000μm，更优选为70μm～1000μm。
[0037]
光学层叠体100的俯视形状例如可以为方形形状，优选为具有长边和短边的方形形状，更优选为长方形。光学层叠体100的面方向的形状为长方形时，长边的长度例如可以为10mm～1400mm，优选为50mm～600mm。短边的长度例如为5mm～800mm，优选为30mm～500mm，更优选为50mm～300mm。构成光学层叠体100的各层可以将角部进行r加工，或者将端部进行切口加工，或者进行开孔加工。
[0038]
光学层叠体100例如可以在显示装置等中使用。显示装置没有特别限定，例如可举出有机电致发光(有机el)显示装置、无机电致发光(无机el)显示装置、液晶显示装置、场致发光显示装置等。光学层叠体100适用于可弯曲、特别是能够以前面板为外侧进行弯曲的显示装置。
[0039]
[从原点到最大应力值的斜率g
l’]
[0040]
在第1粘合剂层102和第2粘合剂层104的应力〔pa〕－应变〔％〕曲线中将从原点到
最大应力值的斜率分别设为g
l1’和g
l2’时，光学层叠体100满足下述式(1)和式(2)：
[0041]
20≤g
l1’≤150
ꢀꢀꢀꢀ
(1)
[0042]
20≤g
l2’≤150
ꢀꢀꢀꢀ
(2)
[0043]
优选满足下述式(1a)和(2a)：
[0044]
25≤g
l1’≤95
ꢀꢀꢀꢀꢀ
(1a)
[0045]
25≤g
l2’≤95
ꢀꢀꢀꢀꢀ
(2a)。
[0046]
可以在将粘合剂层供于拉伸试验时，绘制以应变为横轴、以应力为纵轴的应力－应变曲线。通常，随着应变变大，粘合剂层产生的应力也变大，在粘合剂层即将发生凝聚破坏之前应力变为最大。粘合剂层的应力－应变曲线中从原点到最大应力值的斜率g
l’由(最大应力值〔pa〕)/(应力变为最大时的应变量〔％〕)表示。g
l’不仅反映了粘合剂层发生弹性应变时的应力变化，还反映了直至发生塑性应变时的应力变化，可以作为粘合剂层凝聚破坏之前的耐久性的指标。g
l’较大时，粘合剂层的相对于应变所产生的应力较大，粘合剂层的凝聚力优异。g
l’较小时，粘合剂层的相对于应变所产生的应力较小，粘合剂层容易变形。g
l’可以根据后述的实施例一栏中记载的方法而求出。
[0047]
满足式(1)和式(2)的光学层叠体100即便保持弯曲的状态(以下，称为“静态弯曲”)也能抑制在粘合剂层内以及粘合剂层与相接于粘合剂层的层之间产生气泡。这里，在静态弯曲时抑制气泡产生是指即便将光学层叠体供于后述的静态弯曲耐久性试验也在24小时以内不产生气泡。此时，粘合剂层与相接于粘合剂层的层之间的浮起或剥离的产生也得到抑制。气泡的产生可以通过光学显微镜下的观察进行判断。
[0048]
本说明书中，弯曲包括在弯曲部分形成有曲面的折弯形态，折弯的内表面的曲率半径没有特别限定。另外，弯曲还包括内表面的弯折角大于0且小于180度的弯折、以及内表面的曲率半径接近零或内表面的弯折角为0度的折叠。
[0049]gl’可以通过调整构成粘合剂层所使用的粘合剂组合物中包含的基础聚合物的单体的种类和配合量；聚合引发剂、交联剂以及其它添加剂的种类和配合量；活性能量射线、热以及其它使交联度变化的重要因素等而达到所期望的数值范围。例如粘合剂组合物中包含的基础聚合物包含许多碳原子数10以上的长链烷基(甲基)丙烯酸酯系单体时，g
l’存在变小的趋势。例如粘合剂组合物包含许多聚合性化合物时，g
l’存在变大的趋势。
[0050]
光学层叠体100满足下述式(3)：
[0051]gl1’≥g
l2
’ꢀꢀꢀꢀ
(3)
[0052]
优选满足下述式(3’)：
[0053]gl1’＞g
l2
’ꢀꢀꢀ
(3’)。
[0054]
这样的光学层叠体100以前面板101为外侧进行静态弯曲时，成为内径侧的粘合剂层进一步缓和在光学层叠体100的内径侧产生的应力，因此容易弯曲，粘合剂层内以及粘合剂层与相接于粘合剂层的层的间的气泡的产生得到抑制，能够提高光学层叠体100的弯曲耐久性。
[0055]
[应力缓和率σ]
[0056]
将第2粘合剂层104的应力缓和率设为σ2时，光学层叠体100优选满足下述式(4)：
[0057]
0.20≤σ2≤0.70
ꢀꢀꢀꢀ
(4)
[0058]
更优选满足下述式(4a)：
[0059]
0.20≤σ2≤0.55
ꢀꢀꢀ
(4a)。
[0060]
将第1粘合剂层102的应力缓和率设为σ1时，光学层叠体100优选满足下述式(4’)：
[0061]
0.20≤σ1≤0.70
ꢀꢀꢀ
(4’)
[0062]
更优选满足下述式(4’a)：
[0063]
0.20≤σ1≤0.55
ꢀꢀꢀ
(4’a)。
[0064]
粘合剂层的应力缓和率由将粘合剂层供于拉伸试验时经过规定时间后的应力与刚拉伸后产生的应力的比例表示。应力缓和率较小时，粘合剂层产生的应力容易缓和。粘合剂层的应力缓和率在上述范围时，光学层叠体100即便静态弯曲也不易在粘合剂层内产生气泡。另外，粘合剂层与相接于粘合剂层的层的密合性也优异，因此粘合剂层间的气泡的产生也得到抑制。应力缓和率可以根据后述的实施例一栏中记载的方法而求出。
[0065]
光学层叠体100优选满足下述式(5)：
[0066]
σ1≥σ2
ꢀꢀꢀꢀ
(5)
[0067]
更优选满足下述式(5’)：
[0068]
σ1＞σ2
ꢀꢀꢀ
(5’)。
[0069]
这样的光学层叠体100在以前面板101为外侧进行静态弯曲时，第2粘合剂层104进一步缓和在光学层叠体的内径侧产生的应力，因此容易弯曲，粘合剂层内以及粘合剂层与相接于粘合剂层的层的间的气泡的产生容易被抑制。
[0070]
[蠕变率ε]
[0071]
将第2粘合剂层104的蠕变率设为ε2〔％〕时，光学层叠体100优选满足下述式(6)：
[0072]
1.5≤ε2≤20
ꢀꢀꢀꢀ
(6)
[0073]
更优选满足下述式(6a)：
[0074]
3.0≤ε2≤10
ꢀꢀꢀ
(6a)。
[0075]
将第1粘合剂层102的蠕变率设为ε1〔％〕时，光学层叠体100优选满足下述式(6’)：
[0076]
1.5≤ε1≤20
ꢀꢀꢀꢀ
(6’)
[0077]
更优选满足下述式(6’a)：
[0078]
3.0≤ε1≤10
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
(6’a)。
[0079]
粘合剂层的蠕变率为将粘合剂层用一定的力拉伸一定时间时的最大变形率。蠕变率较大时，粘合剂层容易变形。粘合剂层的蠕变率在上述范围时，光学层叠体100即便静态弯曲也不易在粘合剂层内产生气泡。另外，粘合剂层与相接于粘合剂层的层的密合性也优异，因此层间的气泡的产生也得到抑制。蠕变率可以根据后述的实施例一栏中记载的方法而求出。
[0080]
光学层叠体100优选满足下述式(7)：
[0081]
ε1≤ε2
ꢀꢀꢀꢀ
(7)
[0082]
更优选满足下述式(7’)：
[0083]
ε1＜ε2
ꢀꢀꢀꢀꢀ
(7’)。
[0084]
这样的光学层叠体100在以前面板101为外侧进行静态弯曲时，第2粘合剂层104进一步缓和在光学层叠体的内径侧产生的应力，因此容易弯曲，粘合剂层内以及粘合剂层与相接于粘合剂层的层的间的气泡的产生容易被抑制。
[0085]
[变形复原率r]
[0086]
将第2粘合剂层104的变形复原率设为r2〔％〕时，光学层叠体100优选满足下述式(8)：
[0087]
2.5≤r2≤20
ꢀꢀꢀꢀ
(8)
[0088]
更优选满足下述式(8a)：
[0089]
3.0≤r2≤10
ꢀꢀꢀꢀ
(8a)。
[0090]
将第1粘合剂层102的变形复原率设为r1〔％〕时，光学层叠体100优选满足下述式(8’)：
[0091]
2.5≤r1≤20
ꢀꢀꢀꢀꢀ
(8’)
[0092]
更优选满足下述式(8’a)：
[0093]
3.0≤r1≤10
ꢀꢀꢀꢀ
(8’a)。
[0094]
粘合剂层的变形复原率表示在粘合剂层的拉伸试验中从去除负荷起经过规定时间后粘合剂层收缩的比例。变形复原率较大时，粘合剂层拉伸后的收缩性优异。粘合剂层的变形复原率在上述范围时，光学层叠体100即便静态弯曲也不易在粘合剂层内产生气泡。另外，粘合剂层与相接于粘合剂层的层的密合性也优异，因此层间的气泡的产生也得到抑制。变形复原率可以根据后述的实施例一栏中记载的方法而求出。
[0095]
光学层叠体100优选满足下述式(9)：
[0096]
r1≥r2
ꢀꢀꢀꢀ
(9)
[0097]
更优选满足下述式(9’)：
[0098]
r1＞r2
ꢀꢀꢀꢀꢀ
(9’)。
[0099]
这样的光学层叠体100在以前面板101为外侧进行静态弯曲时，第1粘合剂层102进一步缓和在光学层叠体100的外径侧产生的应力，因此容易弯曲，粘合剂层内以及粘合剂层与相接于粘合剂层的层的间的气泡的产生容易被抑制。
[0100]
粘合剂层的应力缓和率、蠕变率、变形复原率可以通过调整构成粘合剂层所使用的粘合剂组合物中包含的基础聚合物的单体的种类和配合量；聚合引发剂、交联剂以及其它添加剂的种类和配合量；活性能量射线、热以及其它使交联度变化的重要因素等而达到所期望的数值范围。
[0101]
[玻璃化转变温度]
[0102]
光学层叠体100中，优选第1粘合剂层和第2粘合剂层的玻璃化转变温度分别为－70℃～－40℃。粘合剂层的玻璃化转变温度为－40℃以下时，粘合剂层的柔软性良好，因此光学层叠体100能够容易地弯曲。粘合剂层的玻璃化转变温度低于－70℃时，粘合剂层的凝聚力变低，耐久条件下的粘合力会降低。粘合剂层的玻璃化转变温度可以根据后述的实施例一栏中记载的方法进行测定。
[0103]
粘合剂层的玻璃化转变温度可以通过调整构成粘合剂组合物中包含的基础聚合物的单体的种类和配合量；聚合引发剂、交联剂以及其它添加剂的种类和配合量；活性能量射线、热以及其它使交联度变化的重要因素等而达到所期望的数值范围。为了使粘合剂层的玻璃化转变温度为－40℃以下，粘合剂组合物中包含的基础聚合物优选配合作为均聚物的玻璃化转变温度为－40℃以下、优选－45℃以下、更优选－50℃以下的丙烯酸单体。作为这样的单体，例如可举出丙烯酸正丁酯(tg：－55℃)、丙烯酸正辛酯(tg：－65℃)、丙烯酸异辛酯(tg：－58℃)、丙烯酸2－乙基己酯(tg：－70℃)、丙烯酸异壬酯(tg：－58℃)、丙烯酸异
癸酯(tg：－60℃)、甲基丙烯酸异癸酯(tg：－41℃)、甲基丙烯酸正月桂酯(tg：－65℃)、丙烯酸十三烷基酯(tg：－55℃)、甲基丙烯酸十三烷基酯(tg：－40℃)，优选丙烯酸正丁酯和丙烯酸2－乙基己酯。这些单体可以单独使用，也可以组合2种以上使用。
[0104]
粘合剂组合物中包含的基础聚合物含有优选80质量％以上、更优选85质量％以上，进一步优选95质量％以上的作为均聚物的玻璃化转变温度为－40℃以下的单体。另外，粘合剂组合物中包含的基础聚合物含有优选99.9质量％以下、更优选99.5质量％以下、进一步优选99质量％以下的作为均聚物的玻璃化转变温度为－40℃以下的单体。作为均聚物的玻璃化转变温度为－40℃以下的单体的含量在这样的范围时，粘合剂层的玻璃化转变温度容易落入上述的范围。
[0105]
为了容易将粘合剂层的玻璃化转变温度设定在上述范围，粘合剂组合物中包含的基础聚合物优选尽可能少地包含作为均聚物的玻璃化转变温度超过0℃的单体，对于这样的单体，作为上限值，优选含有15质量％以下，更优选含有10质量％以下，进一步优选含有5质量％以下。
[0106]
[前面板]
[0107]
前面板101只要是能够透过光的板状体，材料和厚度就没有限定。前面板可以仅由1层构成，也可以由2层以上构成。作为前面板101，可举出树脂制的板状体(例如树脂板、树脂片、树脂膜等)、玻璃制的板状体(例如玻璃板、玻璃膜等)。前面板也可以为树脂制的板状体与玻璃制的板状体的层叠体。前面板101可以构成显示装置的最表面。
[0108]
前面板101的厚度例如可以为10μm～300μm，优选为20μm～200μm，更优选为30μm～100μm。本发明中，构成光学层叠体100的各层的厚度可以通过后述实施例中说明的厚度测定方法进行测定。
[0109]
前面板101为树脂制的板状体时，树脂制的板状体只要是可透过光的板状体，就没有限定。作为构成树脂制的板状体的树脂，例如可举出三乙酰纤维素、乙酰纤维素丁酸酯、乙烯－乙酸乙烯酯共聚物、丙酰纤维素、丁酰纤维素、乙酰丙酰纤维素、聚酯、聚苯乙烯、聚酰胺、聚醚酰亚胺、聚(甲基)丙烯酸、聚酰亚胺、聚醚砜、聚砜、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、聚氯乙烯、聚偏氯乙烯、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩醛、聚醚酮、聚醚醚酮、聚醚砜、聚甲基丙烯酸甲酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚酰胺酰亚胺等高分子。这些高分子可以单独或混合2种以上使用。从提高强度和透明性的观点考虑，树脂制的板状体优选为由聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺等高分子形成的树脂膜。
[0110]
从提高硬度的观点考虑，前面板101可以为具备硬涂层的树脂膜。硬涂层可以形成于树脂膜的一个面，也可以形成于两面。可以通过设置硬涂层来提高硬度和耐划痕性。硬涂层例如为紫外线固化型树脂的固化层。作为紫外线固化型树脂，例如可举出丙烯酸系树脂、有机硅系树脂、聚酯系树脂、聚氨酯系树脂、酰胺系树脂、环氧系树脂等。为了提高硬度，硬涂层可以包含添加剂。添加剂没有特别限定，可举出无机系微粒、有机系微粒或它们的混合物。树脂膜的两面具有硬涂层的情况下，各硬涂层的组成、厚度可以彼此相同，也可以彼此不同。
[0111]
前面板101为玻璃板的情况下，玻璃板优选使用显示器用强化玻璃。玻璃板的厚度例如可以为10μm～1000μm，也可以为20μm～500μm。通过使用玻璃板，能够构成具有优异的
机械强度和表面硬度的前面板101。
[0112]
将光学层叠体100用于显示装置的情况下，前面板101不仅具有保护显示装置的前表面(画面)的功能(作为视窗膜的功能)，也可以具有作为触控传感器的功能、蓝光截止功能、视野角调整功能等。
[0113]
[第1粘合剂层]
[0114]
第1粘合剂层102介于前面板101与偏振片103之间，并将它们贴合。第1粘合剂层102可以为1层，也可以由2层以上构成，优选为1层。
[0115]
第1粘合剂层102可以由以(甲基)丙烯酸系树脂、橡胶系树脂、聚氨酯系树脂、酯系树脂、有机硅系树脂、聚乙烯基醚系树脂为主成分(基础聚合物)的粘合剂组合物构成。作为构成第1粘合剂层102的粘合剂组合物，优选以透明性、耐久性、耐热性等优异的(甲基)丙烯酸系树脂为基础聚合物的粘合剂组合物。粘合剂组合物可以为活性能量射线固化型或热固化型。
[0116]
作为粘合剂组合物中使用的(甲基)丙烯酸系树脂，优选使用以(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸2－乙基己酯等(甲基)丙烯酸酯的1种或2种以上为单体的聚合物或共聚物。优选使基础聚合物共聚极性单体。作为极性单体，可以举出(甲基)丙烯酸化合物、(甲基)丙烯酸2－羟基丙酯化合物、(甲基)丙烯酸羟基乙酯化合物、(甲基)丙烯酰胺化合物、n,n－二甲基氨基乙基(甲基)丙烯酸酯化合物、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯化合物等具有羧基、羟基、酰胺基、氨基、环氧基等的单体。作为构成(甲基)丙烯酸系树脂的单体，也可以使用具有苯甲酰基的光反应性化合物，可例示韩国公开专利10－2019－0005427中作为化学式1而记载的化合物。这样的光反应性化合物由于被追加的光固化所活化而诱导追加交联，因此能够提高耐久性。
[0117]
粘合剂组合物可以仅包含上述基础聚合物，但通常进一步含有交联剂。作为交联剂，可例示2价以上的金属离子且在与羧基之间形成羧酸金属盐的金属离子、在与羧基之间形成酰胺键的多胺化合物、在与羧基之间形成酯键的聚环氧化合物或多元醇、在与羧基之间形成酰胺键的聚异氰酸酯化合物。交联剂优选为聚异氰酸酯化合物。
[0118]
活性能量射线固化型粘合剂组合物具有受到紫外线、电子束这样的活性能量射线的照射而固化的性质，具有能够在活性能量射线照射前也具有粘合性而密合于膜等被覆物、能够通过活性能量射线的照射而固化来调整密合力的性质。活性能量射线固化型粘合剂组合物优选为紫外线固化型。活性能量射线固化型粘合剂组合物除了基础聚合物、交联剂以外，还进一步含有活性能量射线聚合性化合物。也可以根据需要含有光聚合引发剂、光敏剂等。
[0119]
作为活性能量射线聚合性化合物，例如可举出分子内具有至少一个(甲基)丙烯酰氧基的(甲基)丙烯酸酯单体；使2种以上含有官能团的化合物反应而得到且分子内具有至少2个(甲基)丙烯酰氧基的(甲基)丙烯酸酯低聚物等含有(甲基)丙烯酰氧基的化合物等(甲基)丙烯酸系化合物。粘合剂组合物可以相对于粘合剂组合物的固体成分100质量份包含0.1质量份以上的活性能量射线聚合性化合物，可以包含10质量份以下、5质量份以下或2质量份以下的活性能量射线聚合性化合物。
[0120]
作为光聚合引发剂，例如可举出二苯甲酮、苯偶酰二甲基缩酮、1－羟基环己酮等。光聚合引发剂可以包含1种或2种以上。粘合剂组合物包含光聚合引发剂时，其总含量例如
可以相对于粘合剂组合物的固体成分100质量份为0.01质量份～3.0质量份。
[0121]
粘合剂组合物可以包含用于赋予光散射性的微粒、珠(树脂珠、玻璃珠等)、玻璃纤维、基础聚合物以外的树脂、粘合性赋予剂、填充剂(金属粉、其它无机粉末等)、抗氧化剂、紫外线吸收剂、染料、颜料、着色剂、消泡剂、防腐蚀剂、光聚合引发剂等添加剂。
[0122]
第1粘合剂层102可以通过将上述粘合剂组合物的有机溶剂稀释液涂布于基材上，进行干燥而形成。第1粘合剂层102也可以使用粘合片而形成，所述粘合片是使用粘合剂组合物而形成的。使用活性能量射线固化型粘合剂组合物的情况下，可以通过对所形成的粘合剂层照射活性能量射线而成为具有所期望的固化度的粘合剂层。
[0123]
第1粘合剂层102的厚度没有特别限定，例如优选为1μm～100μm，更优选为3μm～50μm，可以为20μm以上。
[0124]
从提高第1粘合剂层102的凝聚力的观点考虑，使第1粘合剂层102为厚度150μm的基准粘合剂层时，温度25℃下的剪切弹性模量优选为0.01mpa以上，更优选为0.02mpa以上，优选为0.50mpa以下，更优选为0.10mpa以下，也可以为0.08mpa以下。第1粘合剂层102的剪切弹性模量在该范围时，光学层叠体100即便弯曲也不易发生凝聚破坏，还不易产生气泡。剪切弹性模量可以通过变更构成粘合剂组合物中包含的基础聚合物的单体的种类和含量、添加剂、交联度等而进行调整。
[0125]
[偏振片]
[0126]
偏振片103例如可以为线偏振片、圆偏振片、椭圆偏振片等。圆偏振片具备线偏振片和相位差层。圆偏振片由于能够吸收在图像显示装置中被反射的外部光线，因此能够对光学层叠体100赋予作为防反射膜的功能。
[0127]
偏振片103的厚度通常为5μm以上，可以为20μm以上，也可以为25μm以上，还可以为30μm以上。另外，偏振片103的厚度优选为80μm以下，更优选为60μm以下。
[0128]
(线偏振片)
[0129]
线偏振片具有使自然光等非偏振光的光线中某一个方向的线偏振光选择性地透过的功能。线偏振片可以具备吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸层、包含聚合性液晶化合物的固化物和二色性色素且二色性色素在聚合性液晶化合物的固化物中分散并取向的液晶层等作为起偏器层。二色性色素是指具有分子的长轴方向的吸光度与短轴方向的吸光度不同的性质的色素。将液晶层作为起偏器层使用的线偏振片与吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸层相比，对弯曲方向没有限制，因而优选。
[0130]
(作为吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸层的起偏器层)
[0131]
作为吸附有二色性色素的拉伸膜的起偏器层通常可以经由以下工序来制作，即，将聚乙烯醇系树脂膜进行单轴拉伸的工序，通过将聚乙烯醇系树脂膜用碘等二色性色素进行染色来吸附该二色性色素的工序，将吸附有二色性色素的聚乙烯醇系树脂膜用硼酸水溶液进行处理的工序，以及在基于硼酸水溶液的处理后进行水洗的工序。
[0132]
起偏器层的厚度通常为30μm以下，优选为18μm以下，更优选为15μm以下。使起偏器层的厚度变薄对偏振片103的薄膜化是有利的。起偏器层的厚度通常为1μm以上，例如可以为5μm以上。
[0133]
聚乙烯醇系树脂通过将聚乙酸乙烯酯系树脂皂化而得到。作为聚乙酸乙烯酯系树脂，除了作为乙酸乙烯酯的均聚物的聚乙酸乙烯酯以外，也可以使用乙酸乙烯酯与可与其
共聚的其它单体的共聚物。作为可与乙酸乙烯酯共聚的其它单体，例如可举出不饱和羧酸系化合物、烯烃系化合物、乙烯基醚系化合物、不饱和砜系化合物、具有铵基的(甲基)丙烯酰胺系化合物。
[0134]
聚乙烯醇系树脂的皂化度通常为85摩尔％～100摩尔％左右，优选为98摩尔％以上。聚乙烯醇系树脂可以被改性，也可以使用被醛类改性而得的聚乙烯醇缩甲醛、聚乙烯醇缩乙醛等。聚乙烯醇系树脂的聚合度通常为1000～10000，优选为1500～5000。
[0135]
作为吸附有二色性色素的拉伸层的起偏器层通常可以经由如下工序来制造，即，将包含上述聚乙烯醇系树脂的涂布液涂布于基材膜上的工序，对所得到的层叠膜进行单轴拉伸的工序，通过将经单轴拉伸后的层叠膜的聚乙烯醇系树脂层用二色性色素染色而使其吸附该二色性色素制作起偏器层的工序，将吸附有二色性色素的膜用硼酸水溶液进行处理的工序，以及在基于硼酸水溶液的处理后进行水洗的工序。用于形成起偏器层的基材膜也可以作为起偏器层的保护层使用。也可以根据需要将基材膜从起偏器层上剥离除去。基材膜的材料和厚度可以与后述的热塑性树脂膜的材料和厚度同样。
[0136]
作为吸附有二色性色素的拉伸膜或拉伸层的起偏器层可以直接作为线偏振片使用，也可以在其单面或双面形成保护层而作为线偏振片使用。作为保护层，可以使用后述的热塑性树脂膜。所得到的线偏振片的厚度优选为2μm～40μm。
[0137]
对于热塑性树脂膜，例如可以举出环聚烯烃系树脂膜；由三乙酰纤维素、二乙酰纤维素等树脂构成的乙酸纤维素系树脂膜；由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等树脂构成的聚酯系树脂膜；聚碳酸酯系树脂膜；(甲基)丙烯酸系树脂膜；聚丙烯系树脂膜等本领域公知的膜。起偏器层与保护层可以介由后述的贴合层进行层叠。
[0138]
从薄型化的观点考虑，热塑性树脂膜的厚度通常为100μm以下，优选为80μm以下，更优选为60μm以下，进一步优选为40μm以下，更进一步优选为30μm以下，另外，通常为5μm以上，优选为10μm以上。
[0139]
也可以在热塑性树脂膜上形成硬涂层。硬涂层可以形成于热塑性树脂膜的一个面，也可以形成于两面。通过设置硬涂层，能够制作提高了硬度和耐划痕性的热塑性树脂膜。硬涂层可以与在上述树脂膜上形成的硬涂层同样地形成。
[0140]
(作为液晶层的起偏器层)
[0141]
用于形成液晶层的聚合性液晶化合物为具有聚合性反应基团且表现出液晶性的化合物。聚合性反应基团为参与聚合反应的基团、优选光聚合性反应基团。光聚合性反应基团是指可以通过由光聚合引发剂产生的活性自由基、酸等而参与聚合反应的基团。作为光聚合性官能团，可举出乙烯基、乙烯基氧基、1－氯乙烯基、异丙烯基、4－乙烯基苯基、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、氧杂环丙烷基、氧杂环丁烷基等。其中，优选丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯基氧基、氧杂环丙烷基和氧杂环丁烷基，更优选丙烯酰氧基。聚合性液晶化合物的种类没有特别限定，可以使用棒状液晶化合物、圆盘状液晶化合物和它们的混合物。聚合性液晶化合物的液晶性可以为热致性液晶或溶致性液晶，作为相序结构，可以为向列相液晶或近晶相液晶。
[0142]
对于作为液晶层的起偏器层中使用的二色性色素，优选在300～700nm的范围具有极大吸收波长(λmax)。作为这样的二色性色素，例如，可举出吖啶色素、嗪色素、花青色
素、萘色素、偶氮色素、和蒽醌色素等，其中，优选偶氮色素。作为偶氮色素，可举出单偶氮色素、双偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素和芪偶氮色素等，优选为双偶氮色素和三偶氮色素。二色性色素可以单独或组合2种以上，优选组合3种以上。特别是，更优选组合3种以上的偶氮化合物。二色性色素的一部分可以具有反应性基团，另外也可以具有液晶性。
[0143]
作为液晶层的起偏器层，例如可以通过在形成于基材膜上的取向膜上涂布包含聚合性液晶化合物和二色性色素的起偏器层形成用组合物，使聚合性液晶化合物聚合并固化而形成。也可以通过在基材膜上涂布起偏器层形成用组合物形成涂膜，将该涂膜与基材膜一起拉伸而形成起偏器层。用于形成起偏器层的基材膜也可以作为起偏器层的保护层使用。基材膜的材料和厚度与上述热塑性树脂膜的材料和厚度同样即可。
[0144]
作为包含聚合性液晶化合物和二色性色素的起偏器层形成用组合物和使用该组合物的起偏器层的制造方法，可以例示日本特开2013－37353号公报、日本特开2013－33249号公报、日本特开2017－83843号公报等中记载的内容。起偏器层形成用组合物除了聚合性液晶化合物和二色性色素以外，也可以进一步包含溶剂、聚合引发剂、交联剂、流平剂、抗氧化剂、增塑剂、敏化剂等添加剂。这些成分可以分别仅使用1种，也可以组合2种以上使用。
[0145]
起偏器层形成用组合物可以含有的聚合引发剂为可以引发聚合性液晶化合物的聚合反应的化合物，在能够以更低温条件下引发聚合反应的方面上，优选光聚合性引发剂。具体而言，可举出能够通过光的作用而产生活性自由基或酸的光聚合引发剂，其中，优选通过光的作用而产生自由基的光聚合引发剂。聚合引发剂的含量相对于聚合性液晶化合物的总量100重量份优选为1质量份～10质量份，更优选为3质量份～8质量份。在该范围内时，聚合性基团的反应充分进行，并且容易使液晶化合物的取向状态稳定化。
[0146]
作为液晶层的起偏器层的厚度通常为10μm以下，优选为0.5μm～8μm，更优选为1μm～5μm。
[0147]
作为液晶层的起偏器层可以不剥离除去基材膜而作为线偏振片使用，也可以将基材膜从起偏器层上剥离除去而作为线偏振片。作为液晶层的起偏器层也可以在其单面或双面形成保护层而作为线偏振片使用。作为保护层，可以使用上述热塑性树脂膜。
[0148]
作为液晶层的起偏器层可以以保护起偏器层等为目的而在起偏器层的单面或两面具有罩面层。罩面层例如可以通过在起偏器层上涂布用于形成罩面层的材料(组合物)而形成。作为构成罩面层的材料，例如可举出光固化性树脂、水溶性聚合物等。作为构成罩面层的材料，可以使用(甲基)丙烯酸系树脂、聚乙烯醇系树脂等。
[0149]
偏振片103配置成线偏振片相对于相位差层在第1粘合剂层102侧。构成偏振片103且与第1粘合剂层102相接的最外层优选为线偏振片中包含的基材膜、保护层或罩面层。
[0150]
(相位差层)
[0151]
相位差层可以为1层，也可以为2层以上。相位差层可以具有保护其表面的罩面层、支撑相位差层的基材膜等。相位差层包含λ/4层，可以进一步包含λ/2层或正c层中的至少任一者。相位差层包含λ/2层时，从线偏振片侧起依次层叠λ/2层和λ/4层。相位差层包含正c层时，可以从线偏振片侧起依次层叠λ/4层和正c层，也可以从线偏振片侧起依次层叠正c层和λ/4层。相位差层的厚度例如为0.1μm～10μm，优选为0.5μm～8μm，更优选为1μm～6μm。
[0152]
相位差层可以由作为保护层的材料所例示的树脂膜形成，也可以由聚合性液晶化
合物固化的层形成。相位差层可以进一步包含取向膜。相位差层可以具有用于将λ/4层与λ/2层和正c层贴合的贴合层。
[0153]
将聚合性液晶化合物固化而形成相位差层时，相位差层可以通过将包含聚合性液晶化合物的组合物涂布于基材膜并使其固化而形成。可以在基材膜与涂布层之间形成取向膜。基材膜的材料和厚度可以与上述热塑性树脂膜的材料和厚度相同。由将聚合性液晶化合物固化而成的层形成相位差层时，相位差层可以以具有取向膜和基材膜的形态组装于光学层叠体。相位差层可以介由贴合层与线偏振片贴合。
[0154]
[第2粘合剂层]
[0155]
第2粘合剂层104介于偏振片103与背面板105之间，并将它们贴合。第2粘合剂层104可以为1层，也可以由2层以上构成，优选为1层。
[0156]
构成第2粘合剂层104的粘合剂组合物的组成和配合成分、粘合剂组合物的类型(是否为活性能量射线固化型、热固化型等)、可配合于粘合剂组合物的添加剂、第2粘合剂层的制作方法、第2粘合剂层的厚度等可以与上述的第1粘合剂层102的说明中示出的内容相同。
[0157]
第2粘合剂层104在粘合剂组合物的组成和配合成分、厚度等方面可以与第1粘合剂层102相同或不同。
[0158]
从提高第2粘合剂层104的凝聚力的观点考虑，使第2粘合剂层104为厚度150μm的基准粘合剂层时，温度25℃下的剪切弹性模量优选为0.01mpa以上，更优选为0.02mpa以上，优选为0.50mpa以下，更优选为0.10mpa以下，也可以为0.08mpa以下。第2粘合剂层104的剪切弹性模量在该范围时，光学层叠体100即便弯曲也不易发生凝聚破坏，还不易产生气泡。剪切弹性模量可以通过变更构成粘合剂组合物中包含的基础聚合物的单体的种类和含量、添加剂、交联度等而进行调整。
[0159]
[贴合层]
[0160]
光学层叠体100可以包含用于将2个层接合的贴合层。贴合层为由粘合剂或粘接剂构成的层。成为贴合层的材料的粘合剂可以使用与构成上述第1粘合剂层102的粘合剂组合物相同的粘合剂组合物。贴合层也可以使用其它粘合剂、例如与构成第1粘合剂层102的粘合剂不同的(甲基)丙烯酸系粘合剂、苯乙烯系粘合剂、有机硅系粘合剂、橡胶系粘合剂、聚氨酯系粘合剂、聚酯系粘合剂、环氧系共聚物粘合剂等。
[0161]
作为成为贴合层的材料的粘接剂，例如可以将水系粘接剂、活性能量射线固化型粘接剂等中的1种或2种以上组合形成。作为水系粘接剂，例如可以举出聚乙烯醇系树脂水溶液、水系二液型聚氨酯系乳液粘接剂等。活性能量射线固化型粘接剂为通过照射紫外线等活性能量射线而固化的粘接剂，例如可以举出包含聚合性化合物和光聚合性引发剂的粘接剂、包含光反应性树脂的粘接剂、包含粘结剂树脂和光反应性交联剂的粘接剂等。作为上述聚合性化合物，可以举出光固化性环氧系单体、光固化性丙烯酸系单体、光固化性氨基甲酸酯系单体等光聚合性单体、以及来自这些单体的低聚物等。作为上述光聚合引发剂，可以举出包含照射紫外线等活性能量射线而产生中性自由基、阴离子自由基、阳离子自由基这样的活性种的物质的化合物。
[0162]
贴合层的厚度例如可以为1μm以上，优选为1μm～25μm，更优选为2μm～15μm，进一步优选为2.5μm～5μm。
[0163]
介由贴合层而贴合的对置的二个表面可以预先进行电晕处理、等离子体处理、火焰处理等，也可以具有底漆层等。
[0164]
[背面板]
[0165]
作为背面板105，可以使用可透过光的板状体、通常的显示装置中使用的构成要素等。
[0166]
背面板105的厚度例如可以为5μm～2000μm，优选为10μm～1000μm，更优选为15μm～500μm。
[0167]
作为背面板105中使用的板状体，可以仅由1层构成，也可以由2层以上构成，可以使用对前面板101中叙述过的板状体所例示的构成。
[0168]
作为背面板105中使用的通常的显示装置所采用的构成要素，例如可举出触控传感器面板、有机el显示元件等。作为显示装置中的构成要素的层叠顺序，例如可举出视窗膜/圆偏振片/触控传感器面板/有机el显示元件、视窗膜/触控传感器面板/圆偏振片/有机el显示元件等。
[0169]
(触控传感器面板)
[0170]
触控传感器面板只要是具有可检测被触摸的位置的传感器(即触控传感器)的面板，就没有限定。触控传感器的检测方式没有限定，可例示电阻膜方式、静电电容耦合方式、光传感器方式、超声波方式、电磁感应耦合方式、表面弹性波方式等触控传感器面板。由于成本低，因此优选使用电阻膜方式、静电电容耦合方式的触控传感器面板。
[0171]
作为电阻膜方式的触控传感器的一个例子，可举出由彼此相向配置的一对基板、夹持于这一对基板之间的绝缘性隔离件、在各基板的内侧的前表面作为电阻膜而设置的透明导电膜、以及触摸位置检测电路构成的部件。设置有电阻膜方式的触控传感器的图像显示装置中，触摸前面板的表面时，对置的电阻膜短路，电流在电阻膜中流过。触摸位置检测电路检测到此时的电压的变化，从而检测被触摸的位置。
[0172]
作为静电电容耦合方式的触控传感器的一个例子，可举出由基板、设置于基板整面的位置检测用透明电极、以及触摸位置检测电路构成的部件。设置有静电电容耦合方式的触控传感器的图像显示装置中，触摸前面板的表面时，透明电极在被触摸的点介由人体的静电电容而接地。触摸位置检测电路检测到透明电极的接地，从而检测被触摸的位置。
[0173]
触控传感器面板的厚度例如可以为5μm～2000μm，优选为5μm～100μm，进一步优选为5μm～50μm，也可以为5μm～20μm。
[0174]
触控传感器面板可以为在基材膜上形成有触控传感器的图案的部件。基材膜的例示可以与上述热塑性树脂膜的说明中的例示相同。另外，触控传感器面板也可以从基材膜介由粘合剂层转印到被覆物。即，触控传感器面板可以不具有基材膜。触控传感器图案的厚度例如可以为1μm～20μm。
[0175]
[光学层叠体的制造方法]
[0176]
光学层叠体100可以通过包含以下工序的方法进行制造，即，介由粘合剂层将构成光学层叠体100的层彼此贴合的工序。介由粘合剂层、贴合层将层彼此贴合的情况下，为了调整密合力，优选对贴合面的一方或两方实施电晕处理等表面活化处理。电晕处理的条件可以适当地设定，在贴合面的一个面和另一面上条件可以不同。
[0177]
＜显示装置＞
[0178]
本发明的显示装置包含上述光学层叠体100。显示装置没有特别限定，例如可举出有机el显示装置、无机el显示装置、液晶显示装置、场致发光显示装置等图像显示装置。光学层叠体中可以进一步层叠有触控传感器，显示装置可以具有触控面板功能。包含本发明的光学层叠体的显示装置表现出静态弯曲优异的耐久性，能够作为可弯曲或卷绕等的柔性显示器使用。
[0179]
显示装置中，光学层叠体100使前面板101朝向外侧(与显示元件侧相反的一侧，即视认侧)而配置于显示装置所具有的显示元件的视认侧。显示装置能够以前面板101侧为外侧而进行弯曲。
[0180]
本发明的显示装置可以作为智能手机、平板等便携式设备、电视机、数码相框、电子看板、检测器、仪表类、办公用设备、医疗仪器、电脑设备等使用。
[0181]
实施例
[0182]
以下，举出实施例对本发明进行更详细的说明，但本发明并不限定于此。
[0183]
[粘合剂层]
[0184]
向氮气回流且设置有冷却装置以容易进行温度调节的1l的反应器中投入表1所示的由丙烯酸2－乙基己酯(2－eha)、丙烯酸正丁酯(n－ba)、n－(2－羟基乙基)丙烯酰胺(heaa)、丙烯酸异癸酯(ida)、丙烯酸山嵛酯(bha)、化合物i构成的单体混合物。为了除去氧而使氮气回流1小时后，将溶液保持在60℃。
[0185]
将上述单体混合物均匀混合后，以表1所示的配合量投入光聚合引发剂苯偶酰二甲基缩酮(i－651)和1－羟基环己基苯基酮(i－184)。一边搅拌一边照射uv灯(10mw)，由此制造丙烯酸系聚合物a1～a6。
[0186]
[表1]
[0187][0188][0189]
将所得到的丙烯酸系聚合物a1～a6、丙烯酸异癸酯(ida)、n－(2－羟基乙基)丙烯酰胺(heaa)、和二苯甲酮(bpo)以表2所示的量混合，制造粘合剂组合物b1～b9。
[0190]
[表2]
[0191][0192]
将粘合剂组合物b1～b9以厚度为25μm的方式涂布在涂覆有硅脱模剂的剥离膜a(聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，厚度38μm)上。在其上接合剥离膜b(聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，厚度38μm)，进行uv照射，制作由剥离膜a/粘合剂层/剥离膜b构成的粘合片。uv照射的条件为累积光量400mj/cm2、照度1.8mw/cm2(uvv基准)。
[0193]
所使用的化合物的来源如下。
[0194]
2－eha：东京化成工业株式会社，日本
[0195]
n－ba：东京化成工业株式会社，日本
[0196]
heaa：东京化成工业株式会社，日本
[0197]
ida：miwon specialty chemical，韩国
[0198]
bha：东京化成工业株式会社，日本
[0199]
i－651：basf，德国
[0200]
i－184：basf，德国
[0201]
bpo：东京化成工业株式会社，日本
[0202]
[前面板]
[0203]
作为前面板101，准备在树脂膜的一个面形成有硬涂层的膜。树脂膜为厚度40μm的聚酰亚胺系树脂膜。硬涂层是厚度为10μm、由包含末端具有多官能丙烯酸基的树枝状化合物的组合物形成的层。
[0204]
[圆偏振片]
[0205]
作为偏振片103，准备圆偏振片。准备依次具有三乙酰纤维素(tac)膜(kc2ua，柯尼卡美能达株式会社制，厚度25μm)、取向膜、线起偏器层和罩面层的线偏振片。线起偏器层使用包含聚合性液晶化合物和二色性色素的组合物而形成，厚度为2μm。罩面层为聚乙烯醇树脂层，厚度为1.0μm。
[0206]
在线偏振片的罩面层侧介由粘合剂层层叠相位差层叠体，得到圆偏振片。相位差层叠体从线偏振片侧起依次具有λ/4相位差层、粘合剂层、正c层。λ/4相位差层为聚合性液晶化合物的固化层，厚度为3μm。粘合剂层的厚度为5μm。正c层为聚合性液晶化合物的固化层，厚度为3μm。
[0207]
[背面板]
[0208]
作为背面板105，准备依次层叠有触控传感器图案层、粘接剂层和基材层的触控传感器。触控传感器图案层包含作为透明导电层的ito层和作为分离层的丙烯酸系树脂组合物的固化层，厚度为7μm。
[0209]
粘接剂层设置于触控传感器图案层的分离层侧，厚度为3μm。基材层使用环状烯烃树脂(cop)膜(zf－14，日本瑞翁株式会社制，厚度23μm)。
[0210]
[光学层叠体的制作]
[0211]
如表3所示将由表2所示的粘合剂组合物构成的粘合片作为第1粘合剂层102使用，将前面板101的不具有硬涂层的一侧与偏振片103的tac膜侧贴合。另外，如表3所示，将由表2所示的粘合剂组合物构成的粘合片作为第2粘合剂层104使用，将圆偏振片的相位差层侧与触控传感器的触控传感器图案层侧贴合，制作图1所示的层结构的光学层叠体100(实施例1、2和比较例1～3)。对前面板、圆偏振片、触控传感器和粘合剂层的贴合面在贴合前进行双面电晕处理。电晕处理使用tec－4ax(牛尾电机株式会社制)。按照下述方法对粘合剂层从原点到最大应力的斜率g
l’、应力缓和率σ、蠕变率ε、变形复原率r、玻璃化转变温度tg、剪切弹性模量和光学层叠体100的静态弯曲耐久性进行测定。将结果示于表3。
[0212]
[表3]
[0213][0214]
＜层的厚度＞
[0215]
使用接触式膜厚测定装置(株式会社尼康制“ms－5c”)进行测定。起偏器层和取向膜使用激光显微镜(奥林巴斯株式会社制“ols3000”)进行测定。
[0216]
＜从原点到最大应力值的斜率g
l’＞
[0217]
从原点到最大应力值的斜率使用动态机械分析装置(dma，q－800，ta instruments公司制)进行测定。首先，如图2所示，准备介由粘合剂层将2个聚碳酸酯(pc)棒
501的端部彼此接合而得的试验片。粘合剂层502的形状是宽度
×
长度
×
厚度为6mm
×
10mm
×
25μm，pc棒501的形状是宽度
×
长度
×
厚度为6mm
×
20mm
×
1mm。粘合剂层502与pc棒501的粘合面积是宽度
×
长度为6mm
×
10mm。在试验片的pc棒501的两端部的长度5mm的区域安装夹具，固定其中一个夹具。将另一个夹具在温度25℃的环境下以100μm/min.的速度拉伸，制作应力〔pa〕－应变〔％〕曲线。在所得到的应力－应变曲线中，算出从原点到应力达到最大的斜率。
[0218]
＜应力缓和率σ＞
[0219]
使用动态机械分析装置(dma，q－800，ta instruments公司制)，测定粘合剂层的应力缓和率(stress relaxation)。试验片与从原点到最大应力值的斜率的测定中使用的试验片同样。在试验片的pc棒501的两端部的长度5mm的区域安装夹具，固定其中一个夹具。将另一个夹具在温度25℃的环境下以保持25％的应变的方式持续拉伸300秒，测定应力。
[0220]
应力缓和率＝300秒后的应力〔mpa〕/7.0秒后的应力〔mpa〕
[0221]
＜蠕变率ε＞
[0222]
使用动态机械分析装置(dma，q－800，ta instruments公司制)，测定粘合剂层的蠕变率(creep)。试验片与从原点到最大应力值的斜率的测定中使用的试验片同样。在试验片的pc棒501的两端部的长度5mm的区域安装夹具，固定其中一个夹具。以应力为1mpa的方式继续拉伸另一个夹具，测定1200秒后的应变〔％〕值。
[0223]
蠕变率〔％〕＝1200秒后的应变〔％〕
[0224]
＜变形复原率r＞
[0225]
使用动态机械分析装置(dma，q－800，ta instruments公司制)，测定粘合剂层的变形复原率(recovery)。试验片与从原点到最大应力值的斜率的测定中使用的试验片同样。在试验片的pc棒501的两端部的长度5mm的区域安装夹具，固定其中一个夹具。将另一个夹具拉伸并将25％的应变保持300秒。经过300秒后去除负荷，进一步经过5秒时(经过305秒时)测定应变。
[0226]
变形复原率〔％〕＝300秒后的应变(＝25％)－305秒后的应变〔％〕
[0227]
＜玻璃化转变温度tg＞
[0228]
将粘合剂以100℃干燥1小时后，使用差示扫描量热计(dsc，q－1000，ta instruments公司制)测定玻璃化转变温度(tg)。
[0229]
＜剪切弹性模量＞
[0230]
剪切弹性模量使用粘弹性测定装置(mcr－301，anton paar公司)而测定。使粘合片为宽度20mm
×
长度20mm，剥去剥离膜，以厚度为150μm的方式层叠多张。将层叠的粘合剂层与玻璃板接合后，以与测定芯片粘接的状态在－20℃～100℃的温度区域在频率1.0hz、变形量1％、升温速度5℃/分钟的条件下进行测定，确认25℃的剪切弹性模量值。
[0231]
＜静态弯曲耐久性试验＞
[0232]
在图3中示出静态弯曲耐久性试验(芯轴弯曲试验)的方法。首先，将光学层叠体100裁断为1cm
×
10cm的试验片。以光学层叠体100的前面板101侧朝下的方式放置在试验板504上，在其上放置直径5mm的铁棒503(图3中的(a))。以卷绕于铁棒503的方式且以前面板101在外侧的方式用手折叠并固定(图3中的(b))。
[0233]
基于偏振片103与第1粘合剂层102和第2粘合剂层104之间或者第1粘合剂层102和
第2粘合剂层104内不产生气泡的期间，对静态弯曲耐久性进行如下评价。气泡的产生通过光学显微镜下的观察来判断。
[0234]
a：在经过48小时的时刻未产生气泡。
[0235]
b：在超过24小时且48小时内产生气泡。
[0236]
c：在24小时内产生气泡。
[0237]
符号说明
[0238]
100 光学层叠体，101 前面板，102 第1粘合剂层，103 偏振片，104 第2粘合剂层，105 背面板，501 聚碳酸酯棒，502 粘合剂层，503 铁棒，504 试验板。