具有空间变化延迟器光学器件的头戴式显示器(HMD)的制作方法

技术特征：
1.一种方法，所述方法包括：确定将包括在透镜组件中的模制透镜或偏振分束器中的至少一者中的制造误差的程度；至少部分地基于所述制造误差的所述程度来确定将包括在所述透镜组件中的空间变化延迟器(svr)的校正因子；以及通过应用所述校正因子来形成所述svr。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述制造误差的所述程度包括所述模制透镜中的应力双折射量，并且其中基于所述模制透镜中的所述应力双折射量来确定所述校正因子。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述制造误差的所述程度包括所述偏振分束器中的偏振变化，并且其中基于所述偏振分束器中的所述偏振变化来确定所述校正因子。4.根据权利要求1所述的方法，其中所述确定所述制造误差的所述程度包括确定所述模制透镜中的第一制造误差的程度以及确定所述偏振分束器中的第二制造误差的程度，并且其中基于所述第一制造误差和所述第二制造误差来确定所述校正因子。5.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括：确定所述模制透镜或所述偏振分束器中的所述至少一者中的所述制造误差的位置，其中所述通过应用所述校正因子来形成所述svr包括在所述svr上的与所述模制透镜或所述偏振分束器中的所述至少一者中的所述制造误差的所述位置相对应的位置处应用所述校正因子。6.根据权利要求1所述的方法，其中所述校正因子是根据以下各项中的至少一项的校正因子：对用于制造所述svr的双折射材料的类型的调整；对将包括在所述svr中的双折射层的数量的调整；或者对将包括在所述svr中的一个或多个特征的调整。7.根据权利要求1所述的方法，其中所述透镜组件将结合到头戴式显示器(hmd)中。8.一种方法，所述方法包括：确定将包括在头戴式显示器(hmd)的光学子系统中的透镜或反射偏振器中的至少一者中的制造误差的程度；确定在制造将包括在所述光学子系统中的空间变化延迟器(svr)时将应用的校正因子；以及通过应用所述校正因子来制造所述svr。9.根据权利要求8所述的方法，其中所述制造误差的所述程度包括所述透镜中的应力双折射量，并且其中基于所述透镜中的所述应力双折射量来确定所述校正因子。10.根据权利要求8所述的方法，其中所述制造误差的所述程度包括所述反射偏振器中的偏振变化，并且其中基于所述反射偏振器中的所述偏振变化来确定所述校正因子。11.根据权利要求8所述的方法，其中所述确定所述制造误差的所述程度包括确定所述透镜中的第一制造误差的程度以及确定所述反射偏振器中的第二制造误差的程度，并且其中基于所述第一制造误差和所述第二制造误差来确定所述校正因子。12.根据权利要求8所述的方法，其中所述校正因子是根据以下各项中的至少一项的校正因子：
对用于制造所述svr的双折射材料的类型的调整；对将包括在所述svr中的可聚合液晶的双折射层的数量的调整；或者对将包括在所述svr中的特征的类型、数量或密度中的至少一者的调整。13.根据权利要求8所述的方法，其中所述svr被制造为四分之一波片的一部分。14.根据权利要求8所述的方法，其中所述校正因子应用于所述svr上的与所述制造误差的位置相对应的位置。15.一种系统，所述系统包括：信息显示器，所述信息显示器包括被配置为共同形成图像的像素；背光组件，所述背光组件用于照亮所述信息显示器的所述像素；和光学子系统，所述光学子系统用于引导来自所述信息显示器的所述图像的光朝向用户的眼睛，其中所述光学子系统包括：模制透镜；偏振分束器，所述偏振分束器位于所述光学子系统的所述模制透镜和出射表面之间；和空间变化延迟器(svr)，所述空间变化延迟器插置在所述透镜和所述偏振分束器之间，其中所述svr被配置为补偿损失模制透镜或所述偏振分束器中的至少一者中的制造误差。16.根据权利要求15所述的系统，其中所述svr被配置为补偿所述模制透镜中的应力双折射量。17.根据权利要求15所述的系统，其中所述svr被配置为补偿所述偏振分束器中的偏振变化。18.根据权利要求15所述的系统，其中所述svr被配置为补偿所述模制透镜中的应力双折射量和所述偏振分束器中的偏振变化。19.根据权利要求15所述的系统，其中所述svr包括补偿所述模制透镜或所述偏振分束器中的所述至少一者中的所述制造误差的特性，所述特性包括以下各项中的至少一项：用于制造所述svr的双折射材料的特定类型；包括在所述svr中的双折射层的特定数量；或者包括在所述svr中的特征的特定类型、特定数量或特定密度中的至少一者。20.根据权利要求15所述的系统，其中所述svr是四分之一波片的一部分。

技术总结
本发明公开了一种结合了包括空间变化延迟器(SVR)的光学器件的头戴式显示器或其他近眼显示器。该SVR可用应用于其上的校正因子来制造，以便补偿包括在该系统的该光学器件中的模制透镜和/或偏振分束器中表现出的一个或多个制造误差。个制造误差。个制造误差。


技术研发人员：J
受保护的技术使用者：威尔乌集团
技术研发日：2020.11.19
技术公布日：2022/7/9