抗蚀图案间的置换液、以及使用其的抗蚀图案的制造方法与流程

技术特征：
1.一种抗蚀图案间的置换液，其含有(a)含磺酰基的化合物、(b)含氮化合物、和(c)溶剂，其中，(a)含磺酰基的化合物以式(a)表示，r
11
为c
1-20
烷基、部分或全部的氢被卤素或-oh取代的c
1-20
烷基、非取代或由r
13
取代的c
6-10
芳基、-oh、或氮，与氮进行离子键合的h

可以变更为nh
4
，r
12
为-oh、c
1-15
烷基、或部分或全部的氢被卤素取代的c
1-15
烷基，r
13
为c
1-5
烷基、或部分或全部的氢被卤素取代的c
1-5
烷基，r
11
、r
12
或r
13
中的烷基可以形成环、也可以通过它们中的2个以上相互键合而形成环，n
11
＝1、2或3；并且(c)溶剂含有水。2.根据权利要求1所述的抗蚀图案间的置换液，其中，(b)含氮化合物为(b1)单胺化合物、(b2)二胺化合物、或(b3)所含的氮的数量为1～3的杂芳基：这里，(b1)单胺化合物由式(b1)表示，其中，r
21
、r
22
和r
23
分别独立地为h、c
1-5
烷基、或c
1-5
烷醇基，r
21
、r
22
和r
23
中的烷基可以形成环，它们中的2个以上也可以相互键合，r
21
、r
22
和r
23
中烷基的-ch
2-部分可以由-o-替换；(b2)二胺化合物由式(b2)表示，其中，r
31
、r
32
、r
33
和r
34
分别独立地为h、c
1-5
烷基、或c
1-5
烷醇基，r
31
、r
32
、r
33
和r
34
中的烷基可以形成环，它们中的2个以上可以相互键合，r
31
、r
32
、r
33
和r
34
中烷基的-ch
2-部分可以由-o-替换，l
31
为c
1-5
亚烷基，亚烷基的-ch
2-部分可以由-o-替换。3.根据权利要求1或2所述的抗蚀图案间的置换液，其进一步含有(d)聚合物。4.根据权利要求1～3中任一项所述的抗蚀图案间的置换液，其中，以抗蚀图案间的置换液的总质量为基准，(a)含磺酰基的化合物的含量为0.01～10质量％；优选以抗蚀图案间的置换液的总质量为基准，(b)含氮化合物的含量为0.01～20质量％；优选以抗蚀图案间的置换液的总质量为基准，(c)溶剂的含量为80～99.98质量％；优选以抗蚀图案间的置换液的总质量为基准，(c)溶剂中所含的水为80～99.94质量％；优选以抗蚀图案间的置换液的总质量为基准，(d)聚合物的含量为0.1～20质量％。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的抗蚀图案间的置换液，其进一步含有(e)表面活性剂。6.根据权利要求1～5中任一项所述的抗蚀图案间的置换液，其进一步含有(f)添加剂：其中，(f)添加剂为酸、碱、(e)表面活性剂以外的表面活性剂、杀菌剂、抗菌剂、防腐剂、抗真菌剂、或它们的组合；优选以抗蚀图案间的置换液为基准，(f)添加剂的含量为0.0005～20质量％。7.根据权利要求1～6中任一项所述的抗蚀图案间的置换液，其特征在于，通过将前述抗蚀图案置换液应用于抗蚀图案之间，置换抗蚀图案之间存在的液体。8.一种抗蚀图案的制造方法，其包括以下工序：(1)隔着1个以上的中间层或不隔着中间层，将感光性树脂组合物应用于基板上，形成感光性树脂层；(2)将前述感光性树脂层曝光于放射线中；(3)对被曝光的感光性树脂层应用显影液，形成抗蚀图案；(4)将权利要求1～7中任一项所述的抗蚀图案间的置换液应用于抗蚀图案之间，将抗蚀图案之间存在的液体置换；并且(5)除去抗蚀图案间的置换液。9.根据权利要求8所述的抗蚀图案的制造方法，其包括以下工序：(3.1)将洗涤液应用于抗蚀图案来洗涤抗蚀图案。10.根据权利要求8或9所述的抗蚀图案的制造方法，其特征在于，在工序(3)至(4)之间，抗蚀图案未被干燥。11.根据权利要求8～10中任一项所述的抗蚀图案的制造方法，工序(5)的抗蚀图案间的置换液的除去通过将洗涤液应用于抗蚀图案之间来进行。12.根据权利要求8～11中任一项所述的抗蚀图案的制造方法，其中，通过工序(4)和(5)从抗蚀图案中减少显影液来源的残留成分：优选工序(5)中得到的抗蚀图案比工序(3)及之前的工序中得到的抗蚀图案的硬度和/或弹性模量高。13.一种加工基板的制造方法，其包括下述工序：由权利要求8～12中任一项所述的方法制造抗蚀图案；且(6)以抗蚀图案作为掩模进行加工处理。14.一种器件的制造方法，其包括下述工序：以权利要求13所述的方法制造加工基板。15.根据权利要求14所述的器件的制造方法，其进一步包括下述工序：(7)在加工基板上形成布线。

技术总结
问题：一种抗蚀图案间的置换液、以及使用其的抗蚀图案的制造方法。解决方案：提供一种含有(A)含磺酰基的化合物、(B)含氮化合物、和(C)溶剂的抗蚀图案间的置换液。(C)溶剂的抗蚀图案间的置换液。


技术研发人员：山本和磨 绢田贵史 长原达郎 石井牧
受保护的技术使用者：默克专利有限公司
技术研发日：2020.11.16
技术公布日：2022/7/9