一种真空氮化炉的制作方法

1.本实用新型涉及真空氮化炉技术领域，具体是一种真空氮化炉。


背景技术：

2.氮化炉是具有氮化处理的设备，具有处理温度低，时间短，工件变形小的特点，具有高疲劳极限和良好的耐磨性，氮化处理是指一种在一定温度下一定介质中使氮原子渗入工件表层的化学热处理工艺，经氮化处理的制品具有优异的耐磨性、耐疲劳性、耐蚀性及耐高温的特性，氮化炉往氮化炉内不锈钢真空密封罐中通入氨气，加热到520℃，保持适当的时间，根据工件材质和渗层要求3-90小时不等，使渗氮工件表面获得含氮强化层，得到高硬度，高耐磨性，高疲劳极限和良好的耐磨性。
3.现有技术中，真空氮化炉的体积较大，真空氮化炉的移动十分不便，普通真空氮化炉的底部都是通过直接安装滚轮进行移动，在使用过程中，滚轮会对真空氮化炉的放置十分不稳定，造成不便，故而提出一种真空氮化炉解决上述所提出的问题。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种真空氮化炉，以解决上述背景技术中提出的问题。
5.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
6.一种真空氮化炉，包括底座，所述底座的底部固定安装有支脚，所述底座的内部固定安装有套管，所述套管的顶部固定安装有垫片，所述套管的内部开设有贯穿并延伸至垫片顶部的限位孔，所述底座的顶部固定安装有安装座，所述安装座的顶部固定安装有炉体，所述限位孔的内部活动安装有活动轴，所述活动轴的顶部固定安装有顶环，所述顶环的内部开设有位于安装座外侧的活动孔，所述支脚的内侧固定安装有滑轨，所述活动轴的底部固定安装有底环，所述安装座的内部固定安装有与底环固定连接的电动推杆，所述底环的底部固定安装有与滑轨活动连接的升降座，所述升降座的底部固定安装有万向轮。
7.作为本实用新型再进一步的方案：所述底座位于顶环的下方，且底座与顶环之间不相接触。
8.作为本实用新型再进一步的方案：所述支脚的数量为四个，且四个支脚呈等距离环形分布。
9.作为本实用新型再进一步的方案：所述底座位于底环的上方，且底座与底环之间活动连接。
10.作为本实用新型再进一步的方案：所述套管的数量为四个，且四个套管呈等距离环形分布，活动轴的数量与套管的数量相同。
11.作为本实用新型再进一步的方案：所述底环的外侧分别与四个滑轨之间活动连接，且底环位于四个滑轨的内侧。
12.作为本实用新型再进一步的方案：所述万向轮与滑轨之间不相接触，且万向轮的
数量与升降座的数量相同。
13.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
14.放置时，电动推杆收缩，带动底环的顶部与底座的底部相接触，底环带动升降座在滑轨上向上移动，使升降座底部的万向轮远离地面，支脚与地面接触，用于支撑，使炉体放置稳定，当需要移动时，电动推杆推动底环向下移动，底环向下移动带动升降座在滑轨上向下移动，升降座带动万向轮向下移动与地面接触，将炉体抬起，支脚远离地面，即可推动设备进行移动，达到了便于移动的目的。
附图说明
15.图1为一种真空氮化炉的结构示意图；
16.图2为一种真空氮化炉的结构剖面图；
17.图3为一种真空氮化炉中底座的结构仰视图。
18.图中：1、底座；2、支脚；3、安装座；4、炉体；5、电动推杆；6、底环；7、套管；8、垫片；9、活动轴；10、顶环；11、活动孔；12、滑轨；13、升降座；14、万向轮；15、限位孔。
具体实施方式
19.请参阅图1～3，本实用新型实施例中，一种真空氮化炉，包括底座1，底座1的底部固定安装有支脚2，支脚2的数量为四个，且四个支脚2呈等距离环形分布，底座1的内部固定安装有套管7，套管7的顶部固定安装有垫片8，套管7的内部开设有贯穿并延伸至垫片8顶部的限位孔15，底座1的顶部固定安装有安装座3，安装座3的顶部固定安装有炉体4，限位孔15的内部活动安装有活动轴9，活动轴9的顶部固定安装有顶环10，底座1位于顶环10的下方，且底座1与顶环10之间不相接触，顶环10的内部开设有位于安装座3外侧的活动孔11，支脚2的内侧固定安装有滑轨12，活动轴9的底部固定安装有底环6，底座1位于底环6的上方，且底座1与底环6之间活动连接，套管7的数量为四个，且四个套管7呈等距离环形分布，活动轴9的数量与套管7的数量相同，安装座3的内部固定安装有与底环6固定连接的电动推杆5，底环6的底部固定安装有与滑轨12活动连接的升降座13，底环6的外侧分别与四个滑轨12之间活动连接，且底环6位于四个滑轨12的内侧，升降座13的底部固定安装有万向轮14，万向轮14与滑轨12之间不相接触，且万向轮14的数量与升降座13的数量相同，放置时，电动推杆5收缩，带动底环6的顶部与底座1的底部相接触，底环6带动升降座13在滑轨12上向上移动，使升降座13底部的万向轮14远离地面，支脚2与地面接触，用于支撑，使炉体4放置稳定，当需要移动时，电动推杆5推动底环6向下移动，底环6向下移动带动升降座13在滑轨12上向下移动，升降座13带动万向轮14向下移动与地面接触，将炉体4抬起，支脚2远离地面，即可推动设备进行移动，达到了便于移动的目的。
20.本实用新型的工作原理是：放置时，电动推杆5收缩，带动底环6的顶部与底座1的底部相接触，底环6带动升降座13在滑轨12上向上移动，使升降座13底部的万向轮14远离地面，支脚2与地面接触，用于支撑，使炉体4放置稳定，当需要移动时，电动推杆5推动底环6向下移动，底环6向下移动带动升降座13在滑轨12上向下移动，升降座13带动万向轮14向下移动与地面接触，将炉体4抬起，支脚2远离地面，即可推动设备进行移动，达到了便于移动的目的，解决了真空氮化炉的体积较大，真空氮化炉的移动十分不便，普通真空氮化炉的底部
都是通过直接安装滚轮进行移动，在使用过程中，滚轮会对真空氮化炉的放置十分不稳定，造成不便的问题。
21.以上所述的，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.一种真空氮化炉，包括底座（1），其特征在于，所述底座（1）的底部固定安装有支脚（2），所述底座（1）的内部固定安装有套管（7），所述套管（7）的顶部固定安装有垫片（8），所述套管（7）的内部开设有贯穿并延伸至垫片（8）顶部的限位孔（15），所述底座（1）的顶部固定安装有安装座（3），所述安装座（3）的顶部固定安装有炉体（4），所述限位孔（15）的内部活动安装有活动轴（9），所述活动轴（9）的顶部固定安装有顶环（10），所述顶环（10）的内部开设有位于安装座（3）外侧的活动孔（11），所述支脚（2）的内侧固定安装有滑轨（12），所述活动轴（9）的底部固定安装有底环（6），所述安装座（3）的内部固定安装有与底环（6）固定连接的电动推杆（5），所述底环（6）的底部固定安装有与滑轨（12）活动连接的升降座（13），所述升降座（13）的底部固定安装有万向轮（14）。2.根据权利要求1所述的一种真空氮化炉，其特征在于，所述底座（1）位于顶环（10）的下方，且底座（1）与顶环（10）之间不相接触。3.根据权利要求1所述的一种真空氮化炉，其特征在于，所述支脚（2）的数量为四个，且四个支脚（2）呈等距离环形分布。4.根据权利要求1所述的一种真空氮化炉，其特征在于，所述底座（1）位于底环（6）的上方，且底座（1）与底环（6）之间活动连接。5.根据权利要求1所述的一种真空氮化炉，其特征在于，所述套管（7）的数量为四个，且四个套管（7）呈等距离环形分布，活动轴（9）的数量与套管（7）的数量相同。6.根据权利要求1所述的一种真空氮化炉，其特征在于，所述底环（6）的外侧分别与四个滑轨（12）之间活动连接，且底环（6）位于四个滑轨（12）的内侧。7.根据权利要求1所述的一种真空氮化炉，其特征在于，所述万向轮（14）与滑轨（12）之间不相接触，且万向轮（14）的数量与升降座（13）的数量相同。

技术总结
本实用新型涉及真空氮化炉技术领域，具体公开了一种真空氮化炉，包括底座，所述底座的底部固定安装有支脚，所述底座的内部固定安装有套管，所述套管的顶部固定安装有垫片，所述套管的内部开设有贯穿并延伸至垫片顶部的限位孔，所述底座的顶部固定安装有安装座，所述安装座的顶部固定安装有炉体，所述限位孔的内部活动安装有活动轴，所述活动轴的顶部固定安装有顶环，所述顶环的内部开设有位于安装座外侧的活动孔。该真空氮化炉，具有便于移动的优点，解决了真空氮化炉的体积较大，真空氮化炉的移动十分不便，普通真空氮化炉的底部都是通过直接安装滚轮进行移动，在使用过程中，滚轮会对真空氮化炉的放置十分不稳定，造成不便的问题。问题。问题。


技术研发人员：邱清纯
受保护的技术使用者：宁夏中宏氮化制品有限公司
技术研发日：2021.12.04
技术公布日：2022/7/1