一种CVD化学气相沉积法制备石墨烯薄膜专用支架的制作方法

技术特征：
1.一种cvd化学气相沉积法制备石墨烯薄膜专用支架，其特征在于：包括定位板和至少三根支撑杆，所述定位板平行相对设置有两块；两所述定位板之间形成用于放置生长基底的空间；所述支撑杆的末端与所述定位板连接，形成用于卷绕生长基底的承托面；任意一根所述支撑杆上设置有用于固定所述生长基底的固定件。2.根据权利要求1所述的一种cvd化学气相沉积法制备石墨烯薄膜专用支架，其特征在于：所述定位板上设有通孔，所述通孔的孔径小于所述支撑杆的杆径；所述支撑杆末端设有与所述通孔尺寸相匹配的螺纹部，所述螺纹部通过所述通孔延伸至所述定位板外部，并且通过螺母与之螺纹连接，以实现将所述支撑杆固定在所述定位板上。3.根据权利要求2所述的一种cvd化学气相沉积法制备石墨烯薄膜专用支架， 其特征在于：所述支撑杆除所述螺纹部以外的其他部分均置于两所述定位板之间形成用于放置生长基底的空间内。4.根据权利要求1所述的一种cvd化学气相沉积法制备石墨烯薄膜专用支架，其特征在于：所述支撑杆设置有三根，所述定位板为三角状，顶角处倒圆角处理。5.根据权利要求1所述的一种cvd化学气相沉积法制备石墨烯薄膜专用支架， 其特征在于：设有固定件的所述支撑杆表面设有一平面部，所述平面部的表面设有一定位孔，所述固定件安装于所述定位孔内。6.根据权利要求5所述的一种cvd化学气相沉积法制备石墨烯薄膜专用支架，其特征在于：所述固定件包括头部和杆部，所述杆部的至少部分与所述定位孔过盈配合；所述头部与所述平面部夹紧以实现固定生产基底。7.根据权利要求5所述的一种cvd化学气相沉积法制备石墨烯薄膜专用支架，其特征在于：所述固定件包括头部和杆部，所述杆部与所述定位孔螺纹配合，所述头部与所述平面部夹紧以实现固定生产基底。

技术总结
本实用新型提供一种CVD化学气相沉积法制备石墨烯薄膜专用支架，包括定位板和至少三根支撑杆，所述定位板平行相对设置有两块；两所述定位板之间形成用于放置生长基底的空间；所述支撑杆的末端与所述定位板连接，形成用于卷绕生长基底的承托面；任意一根所述支撑杆上设置有用于固定所述生长基底的固定件。本实用新型同时可以在多个承托面上生长石墨烯，从而实现提高CVD法制备石墨烯薄膜的产能。同时由于支架的支撑作用，生长基底不与石英管直接接触，避免生长基底在高温反应的过程中发生形变，提高产品的良品率。提高产品的良品率。提高产品的良品率。


技术研发人员：郝振亮 蔡金明 陈其赞 黄文添
受保护的技术使用者：广东墨睿科技有限公司
技术研发日：2022.01.24
技术公布日：2022/6/28