用于水平预清洁模块的垫载体的制作方法

技术特征：
1.一种水平预清洁模块，包括：腔室，所述腔室包括共同地限定处理区域的盆和盖；可旋转真空台，所述可旋转真空台设置在所述处理区域中，所述可旋转真空台包括基板接收表面；垫调节站，所述垫调节站靠近所述可旋转真空台设置；垫载体定位臂，所述垫载体定位臂具有第一端和远离所述第一端的第二端；垫载体组件，所述垫载体组件耦接到所述垫载体定位臂的所述第一端；和致动器，所述致动器耦接到所述垫载体定位臂的所述第二端并且被配置为使所述垫载体组件在所述可旋转真空台上方的第一位置与所述垫调节站上方的第二位置之间摆动，其中所述垫载体组件包括万向节基座和耦接到所述万向节基座的垫载体，所述万向节基座和所述垫载体被配置为通过机械夹持机构和抽吸夹持机构支撑磨光垫。2.如权利要求1所述的水平预清洁模块，其中所述万向节基座包括磁体，所述垫载体包括磁体，所述万向节基座和所述垫载体经由磁力耦接。3.如权利要求1所述的水平预清洁模块，其中所述万向节基座包括在所述万向节基座的周边边缘上的唇部分，并且所述垫载体包括在所述垫载体的周边边缘上的锥形部分，使得所述唇部分和所述垫载体沿着所述磨光垫的周边边缘机械地夹持所述磨光垫。4.如权利要求1所述的水平预清洁模块，其中所述垫载体具有接收杆的狭槽，所述杆被配置为被推动到由所述垫载体支撑的磨光垫中，以向所述磨光垫提供所述抽吸夹持机构。5.如权利要求1所述的水平预清洁模块，其中所述垫载体包括与由所述垫载体支撑的磨光垫接触的塑料背衬，以向所述磨光垫提供硬度。6.如权利要求1所述的水平预清洁模块，其中所述垫载体具有多个狭槽，所述多个狭槽接收形成在由所述垫载体支撑的磨光垫的表面上的凸起特征，以向所述磨光垫提供所述抽吸夹持机构。7.一种用于水平预清洁模块中的垫载体组件，包括：万向节基座；和垫载体，所述垫载体耦接到所述万向节基座，其中所述万向节基座和所述垫载体被配置为通过机械夹持机构和抽吸夹持机构支撑磨光垫。8.如权利要求7所述的垫载体组件，其中：所述万向节基座包括磁体，所述垫载体包括磁体，所述万向节基座和所述垫载体经由磁力耦接。9.如权利要求7所述的垫载体组件，其中：
所述万向节基座包括在所述万向节基座的周边边缘上的唇部分，并且所述垫载体包括在所述垫载体的周边边缘上的锥形部分，使得所述唇部分和所述垫载体沿着磨光垫的周边边缘机械地夹持所述磨光垫。10.如权利要求7所述的垫载体组件，其中：所述垫载体具有接收杆的狭槽，所述杆被配置为被推动到由所述垫载体支撑的磨光垫中，以向所述磨光垫提供所述抽吸夹持机构。11.如权利要求7所述的垫载体组件，其中：所述垫载体包括与由所述垫载体支撑的磨光垫接触的塑料背衬，以向所述磨光垫提供硬度。12.如权利要求7所述的垫载体组件，其中：所述垫载体具有多个狭槽，所述多个狭槽接收形成在由所述垫载体支撑的磨光垫的表面上的凸起特征，以向所述磨光垫提供所述抽吸夹持机构。13.一种在水平预清洁模块中支撑磨光垫的方法，包括：通过万向节基座的唇部分和垫载体的锥形部分将磨光垫机械地夹持在所述磨光垫的周边边缘上，其中所述万向节基座和所述垫载体耦接并设置在水平预清洁模块中；和通过抽吸夹持机构支撑所述磨光垫并防止所述磨光垫下垂。14.如权利要求13所述的方法，其中所述磨光垫包括聚乙烯醇(pva)材料。15.如权利要求13所述的方法，其中所述抽吸夹持机构包括穿过所述垫载体的狭槽被推动到所述磨光垫中的杆。16.如权利要求13所述的方法，进一步包括将塑料背衬设置到所述垫载体的表面，所述塑料背衬与所述磨光垫接触。17.如权利要求13所述的方法，其中所述抽吸夹持机构包括多个狭槽和形成在所述磨光垫的表面上的凸起特征，所述多个狭槽各自接收所述凸起特征中的一者。

技术总结
一种水平预清洁模块包括：腔室，所述腔室包括共同地限定处理区域的盆和盖；可旋转真空台，所述可旋转真空台设置在所述处理区域中，所述可旋转真空台包括基板接收表面；垫调节站，所述垫调节站靠近所述可旋转真空台；垫载体定位臂，所述垫载体定位臂具有第一端和远离所述第一端的第二端；垫载体组件，所述垫载体组件耦接到所述垫载体定位臂的所述第一端；和致动器，所述致动器耦接到所述垫载体定位臂的所述第二端并且被配置为使所述垫载体组件在所述可旋转真空台上方的第一位置与所述垫调节站上方的第二位置之间摆动。所述垫载体组件包括万向节基座和耦接到所述万向节基座的垫载体，所述万向节基座和所述垫载体被配置为通过机械夹持机构和抽吸夹持机构支撑磨光垫。过机械夹持机构和抽吸夹持机构支撑磨光垫。过机械夹持机构和抽吸夹持机构支撑磨光垫。


技术研发人员：E
受保护的技术使用者：应用材料公司
技术研发日：2021.12.13
技术公布日：2022/6/21