掩模组件、显示装置的制造装置及显示装置的制造方法与流程

技术特征：
1.一种掩模组件，包括：掩模框架，配备有开口区域；第一掩模片，布置为遮蔽所述开口区域的第一开口区域，并配备有至少一个第一开口部；以及第二掩模片，布置为遮蔽所述开口区域的第二开口区域，并配备有至少一个第二开口部，其中，所述第一开口部与所述第二开口部的大小彼此不同。2.根据权利要求1所述的掩模组件，其中，配备有：杆，布置于所述掩模框架，并且将所述第二开口区域划分为至少两个第三开口区域。3.根据权利要求2所述的掩模组件，其中，所述杆包括：第一杆，沿第一方向排列；以及第二杆，沿与所述第一方向不同的第二方向排列，并且与所述第一杆连接。4.根据权利要求3所述的掩模组件，其中，所述第二杆配备为多个，多个所述第二杆中的一个的宽度与多个所述第二杆中的另一个的宽度彼此不同。5.根据权利要求3所述的掩模组件，其中，所述第二杆配备为多个，以多个所述第二杆中的一个为中心，多个所述第二杆中的其余第二杆以彼此对称的方式布置。6.根据权利要求3所述的掩模组件，其中，所述第一杆包括：结合部，用于使与所述第二杆的末端结合的结合部件插入。7.根据权利要求2所述的掩模组件，其中，所述掩模框架包括：框架结合部，用于使与所述杆的末端结合的结合部件插入。8.根据权利要求2所述的掩模组件，其中，与所述杆的长度方向垂直的所述杆的截面形状为三角形。9.一种掩模组件，包括：掩模框架，配备有开口区域；第一掩模片，布置为遮蔽所述开口区域的第一开口区域，并配备有至少一个第一开口部；以及第二掩模片，布置为遮蔽所述开口区域的第二开口区域。10.一种掩模组件，包括：掩模框架，配备有开口区域；以及多个掩模片，布置为遮蔽所述开口区域，并配备有至少一个第一开口部及至少一个第二开口部，其中，所述第一开口部与所述第二开口部的大小彼此不同。11.根据权利要求10所述的掩模组件，其中，
彼此邻近的各个所述掩模片的所述第一开口部布置于各个所述掩模片的彼此相同的部分。12.根据权利要求10所述的掩模组件，其中，彼此邻近的各个所述掩模片的所述第一开口部布置于各个所述掩模片的彼此不同的部分。13.一种显示装置的制造装置，包括：根据权利要求1至12中的任意一项所述的掩模组件；以及沉积源，布置为与所述掩模组件对向，以向显示基板供应沉积物质。14.一种显示装置的制造方法，包括如下步骤：布置显示基板和掩模组件；将所述显示基板与所述掩模组件对齐；以及使沉积物质通过所述掩模组件的第一开口部而沉积于布置在所述显示基板的第一区域的至少一个第一平面区域，并通过所述掩模组件的第二开口部而沉积于布置在所述显示基板的第二区域的至少一个第二平面区域，或者使所述沉积物质仅沉积于所述第一区域，其中，所述第一平面区域的面积与所述第二平面区域的面积彼此不同。15.根据权利要求14所述的显示装置的制造方法，其中，还包括如下步骤：使所述显示基板或所述掩模组件中的一个以所述显示基板或所述掩模组件中的另一个为基准沿一方向移动预定距离，之后使所述沉积物质沉积在所述显示基板。16.根据权利要求14所述的显示装置的制造方法，其中，还包括如下步骤：当在所述第一区域沉积所述沉积物质时，阻断所述沉积物质沉积于所述第二区域。17.根据权利要求14所述的显示装置的制造方法，其中，还包括如下步骤：在所述第一区域形成发出至少两种颜色的光的发光层，在所述第二区域形成发出单一颜色的光的发光层。18.根据权利要求14所述的显示装置的制造方法，其中，所述掩模组件包括：掩模框架；掩模片，布置于所述掩模框架。19.根据权利要求18所述的显示装置的制造方法，其中，所述掩模片配备为多个，配备有所述第一开口部的所述掩模片与配备有所述第二开口部的所述掩模片以彼此邻近的方式布置。20.根据权利要求19所述的显示装置的制造方法，其中，所述第一开口部和所述第二开口部布置于相同的所述掩模片。21.根据权利要求19所述的显示装置的制造方法，其中，所述掩模组件还包括：杆，布置于所述掩模框架，并且将所述掩模框架的开口区域划分为至少两个开口区域。22.根据权利要求21所述的显示装置的制造方法，其中，所述杆包括：第一杆，沿第一方向排列；以及
第二杆，沿与所述第一方向不同的第二方向排列，并且与所述第一杆连接。23.根据权利要求21所述的显示装置的制造方法，其中，与所述杆的长度方向垂直的所述杆的截面形状为三角形。

技术总结
本发明公开一种掩模组件、显示装置的制造装置及显示装置的制造方法。本发明包括：掩模框架，配备有开口区域；第一掩模片，布置为遮蔽所述开口区域的第一开口区域，并配备有至少一个第一开口部；第二掩模片，布置为遮蔽所述开口区域的第二开口区域，并配备有至少一个第二开口部，其中，所述第一开口部与所述第二开口部的大小彼此不同。部的大小彼此不同。部的大小彼此不同。


技术研发人员：李京俊 李和重
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：2021.11.25
技术公布日：2022/6/7