用于表征图案形成装置的测量系统和方法与流程

技术特征：
1.一种用于确定图案形成装置的表面参数的方法，所述方法包括以下步骤：将所述图案形成装置装载至布置于光刻设备中的掩模支撑件上；使用第一测量系统相对于曝光辐射束的路径定位所述图案形成装置；将所述图案形成装置设置在布置于第二测量系统中的色差透镜的第一焦平面处；用穿过所述色差透镜的辐射照射所述图案形成装置的表面的一部分，所述辐射包括多个波长；确定被照射的部分在第一方向和第二方向上的位置；通过所述色差透镜收集由所述图案形成装置反射的辐射的至少一部分；在所述色差透镜的第二焦平面处测量辐射的被收集部分的作为波长的函数的强度，以获得光谱信息；以及根据所述光谱信息确定所述图案形成装置在所确定的位置处的所述表面参数。2.根据权利要求1所述的方法，还包括：重复多次：照射表面的一部分、确定被照射的部分的位置、收集被反射的辐射的至少一部分、测量被收集的部分的强度、以及确定所述表面参数，其中，针对每次重复，通过在至少所述第一方向或所述第二方向上相对于所述色差透镜移动所述图案形成装置，照射所述图案形成装置的所述表面的不同部分。3.根据权利要求2所述的方法，还包括确定在所述图案形成装置处的图案化区域的表面参数映射。4.根据权利要求2或3所述的方法，其中表面参数至少包括在所述被照射的部分处的光学性质。5.根据权利要求4所述的方法，其中所述光学性质为反射率、透射率和吸收率中的至少一种。6.根据权利要求4或5所述的方法，还包括通过使用加热模型、将所述光学性质作为输入来确定所述图案形成装置的预期加热效应。7.根据权利要求2或3所述的方法，其中表面参数至少包括所述被照射的部分与所述色差透镜之间在第三方向上的轴向距离。8.根据权利要求7所述的方法，还包括根据所述轴向距离确定所述图案形成装置的形状。9.根据权利要求7或8所述的方法，还包括使用作为所确定的位置的函数的所述轴向距离来产生所述图案形成装置的表面形貌映射。10.一种用于补偿图案形成装置的加热效应的方法，包括根据权利要求5所述的步骤，该方法还包括：基于所确定的表面参数映射和待用于衬底的曝光的曝光设置来计算所述图案形成装置的预期形状改变，以确定所述图案形成装置的预期加热效应；借助于镜头模型来定义投影镜头的设置以补偿所述图案形成装置的所述预期形状改变；以及在曝光之前和/或在曝光期间应用所定义的设置。11.根据权利要求10所述的方法，其中所述加热效应包括像差。12.一种包括用于表征图案形成装置的测量系统的光刻设备，所述测量系统包括：
辐射源，所述辐射源被布置成提供具有多个波长的辐射；至少一个色差透镜，所述至少一个色差透镜被布置于至少一个光谱共焦传感器中，所述至少一个色差透镜被配置成用所提供的辐射照射所述图案形成装置的区域，并且其中，所述至少一个色差透镜被配置成收集所述辐射的、由被设置于所述至少一个色差透镜的第一焦平面处的所述图案形成装置反射的至少一部分；检测器，所述检测器被布置于所述至少一个色差透镜的第二焦平面处，其中，所述检测器被配置成检测所收集的辐射的至少一部分和响应于所检测的辐射来提供作为波长的函数的强度信号；以及处理器，所述处理器用于确定所述图案形成装置在被照射的区域处的特性。13.根据权利要求12所述的光刻设备，其中多个光谱共焦传感器被布置成形成传感器阵列。14.根据权利要求12或13所述的光刻设备，其中所述图案形成装置的所述特性为光学性质、和所述图案形成装置与所述色差透镜之间的轴向距离中的至少一种。15.根据权利要求12至14中任一项所述的光刻设备，其中第一色差透镜被布置于距所述图案形成装置第一轴向距离处，并且第二色差透镜被布置于距所述图案形成装置第二轴向距离处，其中所述第二轴向距离不同于所述第一轴向距离。

技术总结
提供一种用于确定图案形成装置的表面参数的方法，包括以下步骤：使用第一测量系统相对于曝光辐射束的路径定位所述图案形成装置；将所述图案形成装置设置在布置于第二测量系统中的色差透镜的第一焦平面处；用穿过所述色差透镜的辐射照射所述图案形成装置的表面的一部分，其中所述辐射包括多个波长；确定所述图案形成装置的被照射的部分在第一方向和第二方向上的位置；通过所述色差透镜收集由所述图案形成装置反射的辐射的至少一部分；测量辐射的被收集的部分的作为波长的函数的强度，以获得被照射的区域的光谱信息；和根据所述光谱信息确定所述图案形成装置在所确定的位置处的所述表面参数。的所述表面参数。的所述表面参数。


技术研发人员：A
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
技术研发日：2020.09.07
技术公布日：2022/5/17