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用压电晶体监控电子束增材制造的操作的制作方法

2022-05-08 08:05:49 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种用于电子束增材制造系统的监控系统,所述电子束增材制造系统包括构建室,所述构建室具有至少一个壁,所述至少一个壁限定所述构建室的内部,其特征在于,所述监控系统包括:一个或多个测量设备,所述一个或多个测量设备定位在所述构建室的所述内部的所述至少一个壁上,所述一个或多个测量设备中的每一个包括压电晶体;和分析部件,所述分析部件通信地联接到所述一个或多个测量设备,所述分析部件编程为接收与所述压电晶体的振荡频率有关的信息,其中,在所述构建室内形成制品期间,在所述一个或多个测量设备上的材料收集引起所述压电晶体的振荡频率的变化,所述变化能够由所述分析部件检测并能够用于确定所述制品的潜在构建异常。2.根据权利要求1所述的监控系统,其特征在于,进一步包括至少一个电压表,所述至少一个电压表电联接到所述一个或多个测量设备中的每一个的所述压电晶体,所述至少一个电压表通信地联接到所述分析部件,使得与所感测的所述压电晶体的电压有关的数据从所述至少一个电压表传输到所述分析部件。3.根据权利要求2所述的监控系统,其特征在于,所述一个或多个测量设备中的每一个包括所述至少一个电压表中的一个。4.根据权利要求2所述的监控系统,其特征在于,所述至少一个电压表集成在所述分析部件中,作为数据获取(daq)设备。5.根据权利要求1所述的监控系统,其特征在于,所述压电晶体是天然存在的晶体、合成晶体、合成陶瓷、无铅压电陶瓷、半导体或聚合物。6.根据权利要求1所述的监控系统,其特征在于,所述分析部件编程为由所述振荡频率的变化确定所述一个或多个测量设备上的所述材料的量。7.根据权利要求1所述的监控系统,其特征在于,所述一个或多个测量设备使用重量石英晶体微天平测量方法。8.一种电子束增材制造系统,其特征在于,包括:构建室,所述构建室包括限定所述构建室的内部的至少一个壁;和根据权利要求1所述的监控系统。9.根据权利要求8所述的电子束增材制造系统,其特征在于,所述构建室包括构建封套,所述构建封套具有可可移动构建平台,所述可可移动构建平台在形成期间支撑其上的所述制品。10.根据权利要求8所述的电子束增材制造系统,其特征在于,进一步包括粉末分配器,所述粉末分配器通信地联接到所述分析部件,所述粉末分配器布置成分配用于形成所述制品的原材料。

技术总结
公开了用于监控电子束增材制造系统的操作的部件的设备、系统、方法以及套件。监控系统包括一个或多个测量设备,测量设备定位在增材制造系统的构建室的内部的至少一个壁上。一个或多个测量设备中的每一个包括压电晶体。监控系统进一步包括通信地联接到一个或多个测量设备的分析部件。分析部件编程为接收与压电晶体的振荡频率有关的信息。在构建室内形成制品期间,在一个或多个测量设备上的材料的收集引起压电晶体的振荡频率的变化,该变化能够由分析部件检测并可用于确定制品的潜在构建异常。析部件检测并可用于确定制品的潜在构建异常。析部件检测并可用于确定制品的潜在构建异常。


技术研发人员:斯科特
受保护的技术使用者:通用电气公司
技术研发日:2021.11.02
技术公布日:2022/5/6
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