曝光装置和制造物品的方法与流程

技术特征：
1.一种在使原版和基板移动的同时对所述基板进行曝光的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置包括：照明光学系统，所述照明光学系统构造成利用来自光源的光照射原版的待照射表面，其中，所述照明光学系统包括：第一遮光单元，所述第一遮光单元包括第一遮光构件和第二遮光构件并且布置在朝向光源侧远离所述待照射表面的共轭平面的位置处，所述第一遮光构件和所述第二遮光构件包括在扫描方向上面向彼此的端部，并且其中，所述第一遮光构件和所述第二遮光构件之间在所述扫描方向上的相对距离可以改变，以及第二遮光单元，所述第二遮光单元包括第三遮光构件和第四遮光构件并且布置在朝向待照射表面侧远离所述共轭平面的位置处，所述第三遮光构件和所述第四遮光构件包括在所述扫描方向上面向彼此的端部，并且其中，所述第三遮光构件和所述第四遮光构件之间在所述扫描方向上的相对距离可以改变，并且所述第一遮光单元和所述第二遮光单元布置成使得在所述共轭平面的平面中与所述扫描方向正交的方向上的预定位置处，面向彼此的所述第一遮光构件的所述端部和所述第二遮光构件的所述端部之间的中点与包括所述照明光学系统的光轴且与所述扫描方向正交的平面之间的第一距离与面向彼此的所述第三遮光构件的所述端部和所述第四遮光构件的所述端部之间的中点与包括所述照明光学系统的光轴且与所述扫描方向正交的所述平面之间的第二距离一致。2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述第一遮光单元和所述第二遮光单元布置成使得面向彼此的所述第一遮光构件的所述端部和所述第二遮光构件的所述端部之间的中点、以及面向彼此的所述第三遮光构件的所述端部和所述第四遮光构件的所述端部之间的中点存在于远离包括所述照明光学系统的光轴且与所述扫描方向正交的所述平面的位置处。3.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置还包括调整单元，所述调整单元构造成调整所述第一遮光单元和所述第二遮光单元的位置。4.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述调整单元包括：第一移动单元，所述第一移动单元构造成使所述第一遮光构件和所述第二遮光构件中的一个沿所述扫描方向移动，以及第二移动单元，所述第二移动单元构造成使所述第三遮光构件和所述第四遮光构件中的一个沿所述扫描方向移动，并且所述第一遮光构件和所述第二遮光构件中的另一个以及所述第三遮光构件和所述第四遮光构件中的另一个在所述扫描方向上的位置是固定的。5.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述调整单元使所述第一遮光构件和所述第二遮光构件中的至少一个以及所述第三遮光构件和所述第四遮光构件中的至少一个沿所述扫描方向彼此同步地移动，使得所述第一距离与所述第二距离一致。6.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述调整单元使所述第一遮光构件和所述第二遮光构件中的至少一个以及所述第三遮光构件和所述第四遮光构件中的至少一个沿所述扫描方向以相同的移动量进行移动，使得所述第一距离与所述第二距离一致。
7.根据权利要求3所述的曝光装置，其特征在于，所述第一遮光构件和所述第二遮光构件中的一个包括在所述共轭平面的平面中沿着与所述扫描方向正交的方向排列的多个第一遮光板，所述第三遮光构件和所述第四遮光构件中的一个包括在所述共轭平面的平面中沿着与所述扫描方向正交的所述方向排列的多个第二遮光板，所述调整单元使所述多个第一遮光板沿所述扫描方向独立地移动，并且使所述多个第二遮光板沿所述扫描方向独立地移动。8.一种在使原版和基板移动的同时对所述基板进行曝光的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置包括：照明光学系统，所述照明光学系统构造成利用来自光源的光照射原版的待照射表面，其中，所述照明光学系统包括：第一遮光单元，所述第一遮光单元包括第一遮光构件和第二遮光构件并且布置在朝向光源侧远离所述待照射表面的位置处，所述第一遮光构件和所述第二遮光构件包括在扫描方向上面向彼此的端部，并且其中，所述第一遮光构件和所述第二遮光构件之间在所述扫描方向上的相对距离可以改变，以及第二遮光单元，所述第二遮光单元包括第三遮光构件和第四遮光构件并且布置在朝向待照射表面侧远离所述待照射表面的共轭平面的位置处，所述第三遮光构件和所述第四遮光构件包括在所述扫描方向上面向彼此的端部，并且其中，所述第三遮光构件和所述第四遮光构件之间在所述扫描方向上的相对距离可以改变，并且所述第一遮光单元和所述第二遮光单元布置成使得在所述共轭平面的平面中与所述扫描方向正交的方向上的预定位置处，通过用面向彼此的所述第一遮光构件的所述端部和所述第二遮光构件的所述端部之间的中点与包括所述照明光学系统的光轴且与所述扫描方向正交的平面之间的距离除以所述共轭平面和所述待照射表面之间的倍率而得到的值与面向彼此的所述第三遮光构件的所述端部和所述第四遮光构件的所述端部的中点与包括所述照明光学系统的光轴且与所述扫描方向正交的所述平面之间的距离一致。9.一种在使原版和基板移动的同时对所述基板进行曝光的曝光装置，其特征在于，所述曝光装置包括：照明光学系统，所述照明光学系统构造成利用来自光源的光照射原版的待照射表面，其中，所述照明光学系统包括：第一遮光单元，所述第一遮光单元包括第一遮光构件和第二遮光构件并且布置在朝向光源侧远离所述待照射表面的共轭平面的位置处，所述第一遮光构件和所述第二遮光构件包括在扫描方向上面向彼此的端部，并且其中，所述第一遮光构件和所述第二遮光构件之间在所述扫描方向上的相对距离可以改变，以及第二遮光单元，所述第二遮光单元包括第三遮光构件和第四遮光构件并且布置在朝向待照射表面侧远离所述共轭平面的位置处，所述第三遮光构件和所述第四遮光构件包括在所述扫描方向上面向彼此的端部，并且其中，所述第三遮光构件和所述第四遮光构件之间在所述扫描方向上的相对距离可以改变，并且所述第一遮光单元和所述第二遮光单元布置成使得在所述共轭平面的平面中与所述
扫描方向正交的方向上的预定位置处，面向彼此的所述第一遮光构件的所述端部和所述第二遮光构件的所述端部之间的中点以及面向彼此的所述第三遮光构件的所述端部和所述第四遮光构件的所述端部的中点存在于远离包括所述照明光学系统的光轴且与所述扫描方向正交的平面的位置处。10.一种物品的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：使用权利要求1所述的曝光装置对基板进行曝光的步骤；使已曝光的基板显影的步骤；以及由已显影的基版制造所述物品的步骤。11.一种物品的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：使用权利要求8所述的曝光装置对基板进行曝光的步骤；使已曝光的基板显影的步骤；以及由已显影的基版制造所述物品的步骤。12.一种物品的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：使用权利要求9所述的曝光装置对基板进行曝光的步骤；使已曝光的基板显影的步骤；以及由已显影的基版制造所述物品的步骤。

技术总结
本发明更有利地防止在被照射表面上的光强度分布中重心光线的偏离。扫描曝光装置的照明光学系统具有第一遮光单元(18)和第二遮光单元(19)，第一遮光单元包括第一和第二遮光构件，第一和第二遮光构件之间在扫描方向上的相对距离可变并且第一和第二遮光构件均具有在扫描方向上面向另一构件的端部的端部，第二遮光单元包括第三和第四遮光构件，第三和第四遮光构件之间在扫描方向上的相对距离可变并且第三和第四遮光构件均具有在扫描方向上面向另一构件的端部的端部。第一遮光单元和第二遮光单元分别布置在朝向光源侧和朝向非照射表面侧离开被照射表面的共轭平面的位置处。在垂直于扫描方向的方向上共轭平面中的预定位置，第一和第二遮光构件的互相面对的端部的中点与包括照明光学系统的光轴且与扫描方向垂直的平面之间的第一距离与上述平面与第三和第四遮光构件的互相面对的端部的中点之间的第二距离一致。二距离一致。二距离一致。


技术研发人员：小林大辅
受保护的技术使用者：佳能株式会社
技术研发日：2020.07.21
技术公布日：2022/4/15