多弧离子镀膜设备的制作方法

技术特征：
1.一种多弧离子镀膜设备，其特征在于，包括放置在壳体内部的真空室(1)、抽气组件(2)、冷却器(3)、plc控制器(4)以及电源；所述电源电连接所述plc控制器(4)，所述plc控制器(4)通过线路分别连接所述真空室(1)、所述抽气组件(2)以及所述冷却器(3)，所述抽气组件(2)连接所述真空室(1)并对所述真空室(1)进行真空处理，所述冷却器(3)通过水管分别连接所述真空室(1)和所述抽气组件(2)，使所述真空室(1)和所述抽气组件(2)进行冷却；所述真空室(1)包括框架(11)、面板(12)、电弧离子源装置(13)以及转架装置(14)，多块所述面板(12)依次连接于所述框架(11)四周，使框架(11)形成一个密封空间，多个所述电弧离子源装置(13)连接于所述面板(12)内壁上，所述框架(11)内部连接有转架装置(14)，通过所述转架装置(14)进行样品移动。2.根据权利要求1所述的多弧离子镀膜设备，其特征在于，所述电弧离子源装置(13)包括电弧离子源(131)、进气孔(132)以及引弧针装置(133)，所述电弧离子源(131)与所述引弧针装置(133)一一对应连接，所述引弧针装置(133)固定在所述面板(12)上，多个所述进气孔(132)均匀分布在所述面板(12)上，所述进气孔(132)的轴线与所述电弧离子源(131)轴线平行。3.根据权利要求2所述的多弧离子镀膜设备，其特征在于，所述电弧离子源(131)包括大线圈(31)、靶材(32)、冷却体(33)、冷却体密封盖(34)、小线圈(35)、永磁体(36)以及极靴(37)，所述大线圈(31)和所述小线圈(5)分别与所述电弧离子源(13)相固定，所述大线圈(31)和所述小线圈(5)分别固定于所述面板(12)上，所述大线圈(31)连接所述靶材(32)，所述靶材(32)固定在所述冷却体(33)上，通过所述冷却体(33)对所述靶材(32)进行降温，所述冷却体密封盖(34)与所述冷却体(33)连接，所述冷却体密封盖(34)与所述冷却体(33)的连接处通过密封圈进行密封，所述小线圈(35)连接所述永磁铁(36)，所述永磁铁(36)连接于所述极靴(37)上。4.根据权利要求3所述的多弧离子镀膜设备，其特征在于，通过调节所述永磁体(36)与所述靶材(32)之间的距离，进行调节所述永磁体(36)作用于所述靶材(32)上的磁场强度。5.根据权利要求2所述的多弧离子镀膜设备，其特征在于，所述面板(12)包括加热器(122)、观察窗把手(123)、观察窗(124)、水冷板(125)以及面板本体(126)，多个所述加热器(122)均匀分布在所述面板本体(126)上，所述加热器(122)对腔室内空间环境进行加热，所述水冷板(125)对所述面板本体(126)进行冷却，所述水冷板(125)覆于所述面板本体(126)上进行冷却，所述观察窗(124)位于所述面板本体(126)上，所述观察窗(124)上方连接与之相匹配的所述观察窗把手(123)。6.根据权利要求1所述的多弧离子镀膜设备，其特征在于，所述转架装置(14)包括绝缘物(141)、滑轨支撑(142)、滑轨(143)、滑轮(144)、转架机构(145)、小车滑轨(146)、小车滑轨支撑(147)以及拖动件(148)；所述滑轨支撑(142)与所述真空室(1)底部之间通过所述绝缘物(141)连接，多个所述绝缘物(141)均匀分布在所述下板(112)上，所述滑轨支撑(142)上连接有滑轨(143)，所述滑轨(143)上连接有多个与之相匹配的所述滑轮(144)，多个所述滑轮(144)均匀分布在所述转架机构(145)底部；所述小车滑轨(146)底部连接所述小车滑轨支撑(147)，所述小车滑轨(146)上连接有
拖动件(148)，当所述小车滑轨(146)与所述滑轨(143)对接时，将所述小车滑轨支撑(147)固定于所述真空室(1)上，通过所述拖动件(148)将所述转架机构(145)移动至小车上，所述小车与所述小车滑轨(147)连接。7.根据权利要求6所述的多弧离子镀膜设备，其特征在于，所述转架机构(145)包括大齿轮(1451)、小齿轮(1452)、样品夹具(1453)、拨片(1454)、样品台(1455)以及样品台支架(1456)，所述大齿轮(1451)由外接的减速电机提供动力，通过磁流体主轴将转速施加到所述大齿轮(1451)上，所述小齿轮(1452)固定于所述样品台支架(1456)上，所述大齿轮(1451)带动所述小齿轮(1452)转动的同时，所述样品台支架(1456)随所述小齿轮(1452)转动，多个所述样品夹具(1453)均匀分布在所述样品台支架(1456)周围，每个所述样品夹具(1453)连接对应的拨片(1454)，通过所述拔片(1454)的作用，所述样品夹具(1453)在围绕所述样品台支架(1456)公转的同时进行自转。8.根据权利要求1所述的多弧离子镀膜设备，其特征在于，所述抽气装置(2)包括粗抽泵组、安装架、分子泵以及百叶窗式节流阀，所述分子泵与所述真空室(1)顶部直连，所述分子泵与所述真空室(1)之间连接有所述百叶窗式节流阀和气动阀，所述粗抽泵组与所述真空室(1)连接，所述粗抽泵组通过所述安装架固定在所述真空室(1)后侧。9.根据权利要求1所述的多弧离子镀膜设备，其特征在于，所述框架(11)包括上板(111)、下板(112)和支撑柱(113)，所述下板(112)通过多根所述支撑柱(113)连接所述上板(111)，所述上板(111)和下板(112)中间均设有用于水冷却的夹层，所述夹层中焊接有加强柱。10.根据权利要求9所述的多弧离子镀膜设备，其特征在于，还包括双层衬板(15)，多块所述双层衬板(15)分别连接于所述框架(11)和所述面板(12)的内壁上，通过所述双层衬板(15)对所述真空室(1)内部进行清洗；所述双层衬板(15)包括内衬板(151)、外衬板(152)、衬板拨片(153)、铆钉(154)以及衬板螺钉(155)，多个所述衬板螺钉(155)分别连接于所述面板(12)、所述上板(111)以及所述下板(112)，所述内衬板(151)连接于所述衬板螺钉(155)上，所述外衬板(152)通过铆钉(154)固定于所述衬板拔片(153)上，通过所述衬板拔片(153)将所述外衬板(152)挂于所述衬板螺钉(155)外端。

技术总结
本发明提供了一种涉及真空镀膜技术领域的多弧离子镀膜设备，包括放置在壳体内部的真空室、抽气组件、冷却器、PLC控制器以及电源；电源电连接PLC控制器，PLC控制器通过线路分别连接真空室抽气组件以及冷却器，抽气组件连接真空室、并对真空室进行真空处理，冷却器通过水管分别连接真空室和抽气组件，使真空室和抽气组件进行冷却；真空室包括框架、面板、电弧离子源装置以及转架装置，多块面板依次连接于框架四周，多个电弧离子源装置连接于面板内壁上，框架内部连接有转架装置，通过转架装置进行样品移动。本发明将“电、气、水”三方面的设备仪器分割开来，做到易于管理、调整检修，同时在硬件和软件设计方面，提高了设备使用的可靠性和易用性。用性。用性。


技术研发人员：乔宏 李灿伦 倪俊 景加荣 李绍杰 祁松松 靳兆峰 李艳臣 王松超
受保护的技术使用者：上海卫星装备研究所
技术研发日：2021.12.13
技术公布日：2022/4/8