一种中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置的制作方法

1.本实用新型涉及生产装置技术领域，尤其涉及一种中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置。


背景技术：

2.铝电解电容器用阳极箔的生产过程包括腐蚀和化成两道工序。腐蚀工序的主要步骤是前处理、布点腐蚀和清洗、深度腐蚀和清洗、后处理、退火，目的是在铝箔表面布满密集且均匀的微细孔洞，以提高其比表面积，从而提高静电容量，并保证电极箔具有足够的机械强度，在铝电极腐蚀箔生产过程中，需要铝电极腐蚀箔的表面涂有腐蚀液，现有的中高压大容量铝电极腐蚀箔的生产效率低下，不利于铝电极腐蚀箔的大批量生产。为此，本实用新型提出了一种中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的是为了解决现有技术中铝电极腐蚀箔的生产效率低下，不利于铝电极腐蚀箔的大批量生产的问题，而提出的一种中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置。
4.为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
5.一种中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置，包括箱体，所述箱体的内部设有腐蚀液，所述箱体的左右两侧分别设有进料口和出料口，所述箱体的内部分别转动设置有第一输送辊、第二输送辊和第三输送辊，所述第二输送辊呈位于腐蚀液的内部设置，所述第一输送辊、第二输送辊和第三输送辊之间传动设置有箔料，所述箱体的内部且位于腐蚀液的内部设有搅拌机构，所述箱体的内部且位于箔料的两侧均设有烘干机构。
6.优选的，所述搅拌机构包括搅拌轴和搅拌叶，所述搅拌轴呈左右对称转动设置于箱体的左右内侧壁上，所述搅拌叶呈均匀分布固定设置于搅拌轴的轴壁上，所述第二输送辊的端部固定设有第一锥齿轮，两个所述搅拌轴相对的一端均固定设有第二锥齿轮，所述第一锥齿轮同时与两个所述第二锥齿轮啮合设置。
7.优选的，所述搅拌叶的侧壁开设有多个均匀分布的分散孔。
8.优选的，所述烘干机构包括壳体和加热管，所述壳体呈左右对称固定设置于箱体的内部且位于箔料的两侧，所述壳体朝向箔料的一侧为敞口设置，所述加热管固定安装于壳体的内部。
9.优选的，所述壳体的开口处固定设有不锈钢隔网。
10.优选的，所述第一输送辊和第三输送辊均位于腐蚀液的上方，所述第三输送辊的高度大于所述第一输送辊的高度。
11.优选的，所述箔料的一端与供料辊连接，所述箔料的另一端与卷料辊连接。
12.与现有技术相比，本实用新型提供了一种中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置，具备以下有益效果：
13.1、该中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置，通过设有的箱体、腐蚀液、第一输送辊、第二输送辊和第三输送辊，能够将箔料直接通入至腐蚀液的内部，从而能够在箔料的表面快速涂有腐蚀液。
14.2、该中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置，通过设有的搅拌轴、搅拌叶、第一锥齿轮和第二锥齿轮，第二输送辊在转动完成输送时，能够带动搅拌轴和搅拌叶旋转并对腐蚀液搅拌，从而保证腐蚀液的均匀度。
15.3、该中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置，通过设有的壳体和加热管，能够对箔料的两侧进行加热烘干处理，提高了生产效率。
16.该装置中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现，本实用新型生产效率高，且腐蚀液的涂覆均匀度高，保证了中高压大容量铝电极腐蚀箔的产品质量。
附图说明
17.图1为本实用新型提出的一种中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置的结构示意图；
18.图2为图1中壳体的内部结构示意图。
19.图中：1箱体、2腐蚀液、3第一输送辊、4第二输送辊、5第三输送辊、6箔料、7搅拌轴、8搅拌叶、9第一锥齿轮、10第二锥齿轮、11分散孔、12壳体、13加热管、14不锈钢隔网。
具体实施方式
20.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
21.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
22.实施例1，参照图1，一种中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置，包括箱体1，箱体1的内部设有腐蚀液2，箱体1的左右两侧分别设有进料口和出料口，箱体1的内部分别转动设置有第一输送辊3、第二输送辊4和第三输送辊5，第二输送辊4呈位于腐蚀液2的内部设置，第一输送辊3、第二输送辊4和第三输送辊5之间传动设置有箔料6，箱体1的内部且位于腐蚀液2的内部设有搅拌机构，箱体1的内部且位于箔料6的两侧均设有烘干机构。
23.参照图1，实施例2在实施例1的基础上，搅拌机构包括搅拌轴7和搅拌叶8，搅拌轴7呈左右对称转动设置于箱体1的左右内侧壁上，搅拌叶8呈均匀分布固定设置于搅拌轴7的轴壁上，第二输送辊4的端部固定设有第一锥齿轮9，两个搅拌轴7相对的一端均固定设有第二锥齿轮10，第一锥齿轮9同时与两个第二锥齿轮10啮合设置。
24.参照图1，实施例3在实施例2的基础上，搅拌叶8的侧壁开设有多个均匀分布的分散孔11，能够提高对腐蚀液2的搅拌均匀度。
25.参照图2，实施例4在实施例1的基础上，烘干机构包括壳体12和加热管13，壳体12呈左右对称固定设置于箱体1的内部且位于箔料6的两侧，壳体12朝向箔料6的一侧为敞口
设置，加热管13固定安装于壳体12的内部。
26.参照图2，实施例5在实施例4的基础上，壳体12的开口处固定设有不锈钢隔网14，能够将加热管13隔离。
27.参照图1，实施例6在实施例1的基础上，第一输送辊3和第三输送辊5均位于腐蚀液2的上方，第三输送辊5的高度大于第一输送辊3的高度。
28.参照图1，实施例7在实施例1的基础上，箔料6的一端与供料辊连接，箔料6的另一端与卷料辊连接。
29.本实用新型中，使用时，通过设置在箱体1内部的第一输送辊3、第二输送辊4和第三输送辊5将箔料进行传输，由于第二输送辊4设置在腐蚀液2内部的，能够将箔料6输送至腐蚀液2的内部，从而能够在箔料6的表面快速涂覆腐蚀液层，第二输送辊4在转动的过程中能够带动第一锥齿轮9旋转，第一锥齿轮9能够带动第二锥齿轮10旋转，从而能够使得搅拌轴7和搅拌叶8旋转并对腐蚀液2进行搅拌混合，保证腐蚀液2的均匀度，涂覆腐蚀液层之后，箔料6会经过两个壳体12之间，由于在壳体12的内部安装有加热管13，能够将箔料6表面的腐蚀液层快速烘干，加快腐铝电极腐蚀箔的生产效率。
30.以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.一种中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置，包括箱体(1)，其特征在于，所述箱体(1)的内部设有腐蚀液(2)，所述箱体(1)的左右两侧分别设有进料口和出料口，所述箱体(1)的内部分别转动设置有第一输送辊(3)、第二输送辊(4)和第三输送辊(5)，所述第二输送辊(4)呈位于腐蚀液(2)的内部设置，所述第一输送辊(3)、第二输送辊(4)和第三输送辊(5)之间传动设置有箔料(6)，所述箱体(1)的内部且位于腐蚀液(2)的内部设有搅拌机构，所述箱体(1)的内部且位于箔料(6)的两侧均设有烘干机构。2.根据权利要求1所述的一种中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置，其特征在于，所述搅拌机构包括搅拌轴(7)和搅拌叶(8)，所述搅拌轴(7)呈左右对称转动设置于箱体(1)的左右内侧壁上，所述搅拌叶(8)呈均匀分布固定设置于搅拌轴(7)的轴壁上，所述第二输送辊(4)的端部固定设有第一锥齿轮(9)，两个所述搅拌轴(7)相对的一端均固定设有第二锥齿轮(10)，所述第一锥齿轮(9)同时与两个所述第二锥齿轮(10)啮合设置。3.根据权利要求2所述的一种中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置，其特征在于，所述搅拌叶(8)的侧壁开设有多个均匀分布的分散孔(11)。4.根据权利要求1所述的一种中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置，其特征在于，所述烘干机构包括壳体(12)和加热管(13)，所述壳体(12)呈左右对称固定设置于箱体(1)的内部且位于箔料(6)的两侧，所述壳体(12)朝向箔料(6)的一侧为敞口设置，所述加热管(13)固定安装于壳体(12)的内部。5.根据权利要求4所述的一种中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置，其特征在于，所述壳体(12)的开口处固定设有不锈钢隔网(14)。6.根据权利要求1所述的一种中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置，其特征在于，所述第一输送辊(3)和第三输送辊(5)均位于腐蚀液(2)的上方，所述第三输送辊(5)的高度大于所述第一输送辊(3)的高度。7.根据权利要求1所述的一种中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置，其特征在于，所述箔料(6)的一端与供料辊连接，所述箔料(6)的另一端与卷料辊连接。

技术总结
本实用新型涉及生产装置技术领域，且公开了一种中高压大容量铝电极腐蚀箔高效生产装置，包括箱体，所述箱体的内部设有腐蚀液，所述箱体的左右两侧分别设有进料口和出料口，所述箱体的内部分别转动设置有第一输送辊、第二输送辊和第三输送辊，所述第二输送辊呈位于腐蚀液的内部设置，所述第一输送辊、第二输送辊和第三输送辊之间传动设置有箔料，所述箱体的内部且位于腐蚀液的内部设有搅拌机构，所述箱体的内部且位于箔料的两侧均设有烘干机构。本实用新型生产效率高，且腐蚀液的涂覆均匀度高，保证了中高压大容量铝电极腐蚀箔的产品质量。保证了中高压大容量铝电极腐蚀箔的产品质量。保证了中高压大容量铝电极腐蚀箔的产品质量。


技术研发人员：郎益明
受保护的技术使用者：江苏和煊电子科技股份有限公司
技术研发日：2021.09.02
技术公布日：2022/4/6