基于钛合金基底的吸收/渐变窄带负滤光膜的镀制方法与流程

技术特征：
1.一种基于钛合金基底的吸收/渐变窄带负滤光膜的镀制方法，其特征在于具体步骤如下：步骤一：在钛合金基底上镀制吸收层；a.采用酒精和乙醚的混合液浸湿无尘软布擦洗钛合金基底，以去除表面杂物、油污和辅料；b.将钛合金基底放置真空室，抽真空至3
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pa；c.用aps离子源轰击钛合金基底5～8分钟；d.首先在轰击后的钛合金基底蒸镀吸收层铬cr，层数为1-4层；然后再蒸镀吸收层氧化钽ta2o5，层数为1-4层；得到吸收层的总层数为2-6层；e.真空室冷却至室温后，取出镀有吸收层的钛合金基底；步骤二：在镀有吸收层的钛合金基底表面镀制窄带负滤光膜层；a.首先在镀有吸收层的钛合金基底表面蒸镀介质层二氧化硅sio2，层数为10-30层；然后再蒸镀介质层氧化钽ta2o5，层数为10-30层；得到窄带负滤光膜层的总层数为20-50层；b.真空室冷却至室温后，取出镀有吸收/渐变窄带负滤光膜的钛合金基底，镀膜后形成钛合金反射镜，该钛合金反射镜具有sub|(hm)
m
(hl)
n
膜系，其中sub代表基底，m代表金属铬，h代表氧化钽，l代表二氧化硅，m、n分别代表组系数。2.根据权利要求1所述基于钛合金基底的吸收/渐变窄带负滤光膜的镀制方法，其特征在于：所述步骤一中，铬层蒸镀时真空室压强2
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pa，蒸发速率为0.1nm/s，膜层厚度采用晶振法监控，每层厚度为5nm～60nm。3.根据权利要求1所述基于钛合金基底的吸收/渐变窄带负滤光膜的镀制方法，其特征在于：所述步骤一中，氧化钽层蒸镀时真空室压强1
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pa，蒸发速率为0.3nm/s，膜层厚度采用晶振法监控，每层厚度为5nm～100nm。4.根据权利要求1所述基于钛合金基底的吸收/渐变窄带负滤光膜的镀制方法，其特征在于：所述步骤二中，蒸镀时真空室压强1
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pa，蒸发速率为0.7nm/s，膜层厚度采用晶振法监控，厚度为50nm～200nm。5.根据权利要求1所述基于钛合金基底的吸收/渐变窄带负滤光膜的镀制方法，其特征在于：所述步骤二中，蒸镀时真空室压强1
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pa，蒸发速率为0.3nm/s，膜层厚度采用光控法监控，厚度为50nm～200nm。

技术总结
本发明一种基于钛合金基底的吸收/渐变窄带负滤光膜的镀制方法，属于光学零件薄膜制造技术领域；采用电子束蒸发在钛合金基底表面蒸镀一层吸收层，再利用电子束蒸发在吸收层上沉积一层窄带负滤光膜层；将吸收膜层与窄带负滤光膜层复合制备，并对镀层进行限定，解决了窄带负滤光膜层与钛合金基底不匹配/附着力差的难题，解决了显示光源波段高反射和杂光波段吸收难以兼顾的难题，实现了基于钛合金基底表面的吸收/渐变窄带负滤光膜的沉积；提高了钛合金基底反射镜的快速研制，拓宽了钛合金基底反射镜的使用范围。射镜的使用范围。


技术研发人员：陈志航 袁武权 李鹏 李辛 盛军 李岳峰 袁兆峰 刘楚 薛萌 杨朔
受保护的技术使用者：中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所
技术研发日：2021.11.08
技术公布日：2022/4/1