一种抛光头和抛光设备的制作方法

技术特征：
1.一种抛光头，其特征在于，所述抛光头包括：头部主体；连接至所述头部主体的下表面的橡胶垫，所述橡胶垫设置成能够基于来自所述头部主体的工作压力产生朝向下方的弹性变形；位于所述橡胶垫与待抛光的硅片之间的模具垫，所述模具垫的上表面的形状设置成使得当所述抛光头对所述硅片进行抛光时，所述模具垫的上表面能够适配所述橡胶垫的所述弹性变形，以使所述硅片的上表面承受的工作压力是均匀的。2.根据权利要求1所述的抛光头，其特征在于，所述模具垫的上表面呈下凹的弧形形状，其中，所述模具垫的厚度从中心向边缘逐渐变厚。3.根据权利要求2所述的抛光头，其特征在于，所述模具垫具有位于中央的通孔，使得当所述橡胶垫在发生所述弹性变形时能够至少部分地穿过所述通孔而作用于所述硅片的所述上表面。4.根据权利要求1所述的抛光头，其特征在于，所述硅片粘贴至所述模具垫的下表面。5.根据权利要求1至4中的任一项所述的抛光头，其特征在于，所述抛光头还包括附接至所述头部主体的所述下表面的环形的组装模具，所述组装模具的内周表面和所述头部主体的所述下表面共同限定了第一容纳空间，当所述抛光头对所述硅片进行抛光时，所述橡胶垫、所述模具垫和所述硅片容纳在所述第一容纳空间中，以确保所述头部主体和所述硅片轴向地对准。6.根据权利要求1至4中的任一项所述的抛光头，其特征在于，所述抛光头还包括附接至所述头部主体的下表面的环形的组装模具，所述组装模具的内周表面和所述头部主体的所述下表面共同限定了第一容纳空间，所述橡胶垫容纳在所述第一容纳空间中，所述模具垫附接至所述组装模具的下表面，并且所述模具垫具有从所述模具垫的下表面的边缘向下延伸的周向凸缘，所述周向凸缘的内周表面与所述模具垫的所述下表面共同限定了第二容纳空间，当所述抛光头对所述硅片进行抛光时，所述硅片容纳在所述第二容纳空间中，以确保所述头部主体和所述硅片轴向地对准。7.根据权利要求2或3所述的抛光头，其特征在于，所述模具垫的直径和厚度是根据所述工作压力的大小设定的。8.根据权利要求1至4中任一项所述的抛光头，其特征在于，所述模具垫由环氧树脂制成。9.一种抛光设备，其特征在于，所述抛光设备包括权利要求1至8中的任一项所述的抛光头。

技术总结
本发明实施例公开了一种抛光头和抛光设备，所述抛光头包括：头部主体；连接至所述头部主体的下表面的橡胶垫，所述橡胶垫设置成能够基于来自所述头部主体的工作压力产生朝向下方的弹性变形；位于所述橡胶垫与待抛光的硅片之间的模具垫，所述模具垫的上表面的形状设置成使得当所述抛光头对所述硅片进行抛光时，所述模具垫的上表面能够适配所述橡胶垫的所述弹性变形，以使所述硅片的上表面承受的工作压力是均匀的。力是均匀的。力是均匀的。


技术研发人员：白宗权 陈祖庆 许涛
受保护的技术使用者：西安奕斯伟硅片技术有限公司
技术研发日：2021.12.30
技术公布日：2022/4/1