烹饪装置的制作方法

技术特征：
1.一种烹饪装置，包括：一个或多个用于加热流体的加热元件；以及控制系统，被配置为：在第一时间段控制所述一个或多个加热元件以将所述流体加热到第一温度；在第二时间段控制所述一个或多个加热元件，使得所述流体的温度下降到第二温度；以及在第三时间段控制所述一个或多个加热元件以相对于在所述第二时间段期间提供给所述一个或多个加热元件的功率增加提供给所述一个或多个加热元件的功率。2.根据权利要求1所述的烹饪装置，其中在所述第三时间段内提供给所述一个或多个加热元件的功率的增加导致以下之一：所述流体的温度升高到高于第二温度的第三温度；或在所述第三时间段期间将所述流体的温度保持在所述第二温度。3.根据权利要求1或2所述的烹饪装置，还包括用于接收输入信息的输入装置，其中所述控制系统被配置为基于所述输入信息确定所述第一、第二和第三时间段以及所述第一和第二温度。4.根据权利要求3所述的烹饪装置，其中所述输入信息包括原始烹饪时间和延长烹饪时间，其中所述原始烹饪时间不小于所述第一时间段和所述第三时间段的总和，并且所述延长烹饪时间等于所述第一时间段、所述第二时间段和所述第三时间段的总和。5.根据权利要求1至4中任一项所述的烹饪装置，还包括耦合到所述控制系统的传感器，其中所述传感器被配置为检测所述流体的温度并将表示检测的温度的信号发送到所述控制系统。6.根据权利要求1至5中任一项所述的烹饪装置，其中所述烹饪装置是以下之一：具备对所述流体在其中进行加热的器皿的器皿烹饪器；电磁炉；和真空低温烹调装置。7.根据权利要求1至6中任一项所述的烹饪装置，其中所述控制系统还被配置为控制所述一个或多个加热元件在一个或多个预加热温度下操作以在对应的一个或多个时间段预加热所述流体。8.一种烹饪装置的控制系统，所述烹饪装置包括一个或多个用于加热流体的加热元件，其中所述控制系统被配置为：在第一时间段控制所述一个或多个加热元件以将所述流体加热到第一温度；在第二时间段控制所述一个或多个加热元件，使得所述流体的温度下降到第二温度；以及在第三时间段控制所述一个或多个加热元件以相对于在所述第二时间段期间提供给所述一个或多个加热元件的功率增加提供给所述一个或多个加热元件的功率。9.根据权利要求8所述的控制系统，其中在所述第三时间段内提供给所述一个或多个加热元件的功率的增加导致以下之一：所述流体的温度升高到高于第二温度的第三温度；或在所述第三时间段期间将所述流体的温度保持在所述第二温度。10.根据权利要求8或9所述的控制系统，其中所述控制系统被配置为基于从所述烹饪装置的输入装置接收的输入信息来确定所述第一时间段、所述第二时间段和所述第三时间
段以及所述第一温度、所述第二温度和所述第三温度。11.根据权利要求10所述的控制系统，其中所述输入信息包括原始烹饪时间和延长烹饪时间，其中所述原始烹饪时间大于所述第一时间段和所述第三时间段的总和，并且所述延长烹饪时间等于所述第一时间段、所述第二时间段和所述第三时间段的总和。12.根据权利要求8至11中任一项所述的控制系统，其中，所述控制系统被配置为从传感器接收表示所述流体的温度的信号并且基于接收的的信号控制所述一个或多个加热元件。13.根据权利要求8至12中任一项所述的控制系统，其中所述烹饪装置是以下之一：具备用于容纳所述流体的器皿的器皿烹饪器；电磁炉；和真空低温烹调装置。14.根据权利要求8至13中任一项所述的控制系统，其中所述控制系统还被配置为控制所述一个或多个加热元件在一个或多个预加热温度下操作，以在对应的一个或多个时间段预加热所述流体。15.一种烹饪装置的控制方法，所述烹饪装置包括一个或多个用于加热流体的加热元件，所述方法包括：在第一时间段控制所述一个或多个加热元件以将所述流体加热到第一温度；在第二时间段控制所述一个或多个加热元件，使得所述流体的温度下降到第二温度；以及在第三时间段控制所述一个或多个加热元件以相对于在所述第二时间段期间提供给所述一个或多个加热元件的功率增加提供给所述一个或多个加热元件的功率。16.根据权利要求15所述的方法，其中在所述第三时间段内提供给所述一个或多个加热元件的功率的增加导致以下之一：所述流体的温度升高到高于第二温度的第三温度；或在所述第三时间段期间将所述流体的温度保持在所述第二温度。17.根据权利要求15或16所述的方法，还包括：所述控制系统从传感器接收表示所述流体的温度的信号；并且所述控制系统基于接收的信号控制所述一个或多个加热元件。18.根据权利要求15至17中任一项所述的方法，还包括：从输入装置接收输入信息；和所述控制系统基于所述输入信息确定所述第一时间段、所述第二时间段和所述第三时间段以及所述第一温度和所述第二温度。19.根据权利要求18所述的方法，其中所述输入信息包括原始烹饪时间和延长烹饪时间，其中所述原始烹饪时间大于所述第一时间段和所述第三时间段的总和，并且所述延长烹饪时间等于所述第一时间段、所述第二时间段和所述第三时间段的总和。20.根据权利要求15至19中任一项所述的方法，其中所述烹饪装置是是以下之一：具备用于容纳所述流体的器皿的器皿烹饪器；电磁炉；和真空低温烹调装置。21.根据权利要求15至20中任一项所述的方法，还包括所述控制系统控制所述一个或多个加热元件在一个或多个预加热温度下操作，以在相应的一个或多个时间段内预加热所述流体。

技术总结
一种烹饪装置，包括：一个或多个用于加热流体的加热元件；以及控制系统，所述控制系统被配置为：在第一时间段控制所述一个或多个加热元件以将所述流体加热到第一温度；在第二时间段控制所述一个或多个加热元件，使得所述流体的温度下降到第二温度；以及在第三时间段控制所述一个或多个加热元件以相对于在所述第二时间段期间提供给所述一个或多个加热元件的功率增加提供给所述一个或多个加热元件的功率。功率。功率。


技术研发人员：L
受保护的技术使用者：布瑞威利私人有限公司
技术研发日：2020.08.20
技术公布日：2022/3/29