压电-光热双响应型MXene/PVDF复合膜、其制法及应用的制作方法

技术特征：
1.压电-光热双响应型mxene/pvdf复合膜，其特征在于，以pvdf和二维mxene为原料，采用静电纺丝制成，其中二维mxene在复合膜中的含量为0.2～5wt.％。2.根据权利要求1所述的压电-光热双响应型mxene/pvdf复合膜，其特征在于，所述复合膜的厚度为60
±
5μm。3.权利要求1或2所述的压电-光热双响应型mxene/pvdf复合膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1.配制pvdf溶液：将pvdf加入到溶剂中，搅拌至溶液透明，得到pvdf溶液；步骤2.配制mxene/pvdf溶液：向pvdf溶液加入二维mxene粉末，搅拌均匀，得到mxene/pvdf溶液；步骤3.取mxene/pvdf溶液，静电纺丝，干燥，得到mxene/pvdf复合膜。4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，步骤1所用溶剂为n,n二甲基甲酰胺与丙酮的混合溶液，n,n二甲基甲酰胺与丙酮的体积比为3:2。5.根据权利要求3或4所述的制备方法，其特征在于，步骤1中，pvdf与溶剂的质量体积比为15～20：100，质量单位为g，体积单位为ml。6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，步骤2中，二维mxene粉末的质量占其与pvdf总质量的0.2～5wt％。7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，步骤3中静电纺丝的条件为：电压-1.5/11.5kv，或/和针头距铝箔滚筒接收距离15cm，或/和纺丝液流速0.08mm/min。8.根据权利要求7所述的制备方法，步骤3中静电纺丝的条件为：电压-1.5/11.5kv，或/和针头距铝箔滚筒接收距离15cm，或/和纺丝液流速0.08mm/min。9.根据权利要求1或2所述的压电-光热双响应型mxene/pvdf复合膜在制备治疗骨缺损材料中的应用。

技术总结
本发明属于生物材料技术领域，具体涉及压电-光热双响应型MXene/PVDF复合膜、其制法及应用。本发明提供的压电-光热双响应型MXene/PVDF复合膜，以PVDF和二维MXene为原料，采用静电纺丝制成，MXene为PVDF质量的0.2～5％。本发明的制备方法为：将PVDF加入到溶剂中搅拌至透明，加入二维MXene粉末，搅拌均匀，静电纺丝，干燥。本发明提供的压电-光热双响应型MXene/PVDF复合膜在制备治疗骨缺损材料中的应用。本发明创造性地将压电效应和光热效应结合起来，用于骨缺损的修复，同时结合疏水PVDF的包裹防止MXene氧化以获得光热转化的重复性及稳定性。性。性。


技术研发人员：付钰 莫安春
受保护的技术使用者：四川大学
技术研发日：2021.11.29
技术公布日：2022/3/29