1.本技术涉及半导体制造设备，具体涉及一种可调狭缝装置、光刻机和调节狭缝的方法。
背景技术：
：：2.目前，在制造掩膜后改善关键尺寸一致性(cduniformity，cdu)的方法，均为使用扫描式光刻机(scanner)漏光设备的特殊功能。y轴方向，通过调整光刻机在曝光过程中的扫描速度来实现；x轴方向，通过调整光刻机设备的照明系统中的可调狭缝单元(adjustableslitunit)的结构，来改善关键尺寸一致性。3.现有的可调狭缝单元为了遮住通过狭缝的一部份光，设置了数十个不透明的过滤棒(filterbar)，这些过滤棒通过与小的电机(motor)连接后，配合光刻版(reticle)的移动速度移动。4.然而，机械式驱动具有局限性，无法快速且细微的调整关键尺寸一致性。技术实现要素：5.针对上述存在的问题，本技术提供了一种可调狭缝装置，包括：控制器、多个移动杆和多个调光窗；所述多个调光窗中的每两个在第一方向上相对布置，形成一对调光窗，每一对调光窗在垂直于第一方向的第二方向上呈依次排列；所述多个移动杆中的每个对应连接一个调光窗；所述控制器连接所述多个移动杆。6.针对上述存在的问题，本技术提供了一种光刻机，包括：掩膜台、载物台、透镜装置、光刻版及其移动装置和可调狭缝装置。7.针对上述存在的问题，本技术还提供了一种调节狭缝的方法，其采用可调狭缝装置实现，包括：控制器将控制电流或控制电压传送到移动杆；移动杆将控制电流或控制电压发送至调光窗；调光窗根据控制电流或控制电压，通过悬浮粒子装置方式、高分子分散液晶方式或电至变色方式，改变调光窗的透过率。8.本技术的优点在于：通过控制器控制调光窗的透过率，不需要使用电机控制过滤棒移动，可以缩小透光窗的尺寸，增加透光窗的数量，从而快速且细微的调整关键尺寸一致性。附图说明9.通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本发明的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：10.图1示出了光掩膜的掩膜关键尺寸一致性图402的示意图；11.图2示出了改善掩膜关键尺寸一致性的两个方向的示意图；12.图3示出了现有的机械控制方式的可调狭缝的结构示意图；13.图4示出了机械驱动的可调狭缝的狭缝间隔与光通量的示意图；14.图5a示出了不同间隔大小的可调狭缝对应的掩膜关键尺寸一致性图的示意图；15.图5b示出了小间隔的可调狭缝对应的掩膜关键尺寸一致性图的示意图；16.图5c示出了大间隔的可调狭缝对应的掩膜关键尺寸一致性图的示意图；17.图6a示出了本技术实施方式中的可调狭缝的示意图；18.图6b示出了调光窗根据控制电流或控制电压改变调光窗的透过率的示意图；19.图7示出了使用电至变色方式的调光窗的的示意图；20.图8a示出了不通电情况下使用悬浮粒子装置方式的调光窗的的示意图；21.图8b示出了通电情况下使用悬浮粒子装置方式的调光窗的的示意图；22.图9a示出了不通电情况下使用高分子分散液晶方式的调光窗的的示意图；23.图9b示出了通电情况下使用高分子分散液晶方式的调光窗的的示意图；24.图10示出了本技术实施方式的调节狭缝的方法的步骤示意图。具体实施方式25.以下，将参照附图来描述本公开的实施例。但是应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本公开的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本公开的概念。26.在附图中示出了根据本公开实施例的各种结构示意图。这些图并非是按比例绘制的，其中为了清楚表达的目的，放大了某些细节，并且可能省略了某些细节。图中所示出的各种区域、层的形状以及它们之间的相对大小、位置关系仅是示例性的，实际中可能由于制造公差或技术限制而有所偏差，并且本领域技术人员根据实际所需可以另外设计具有不同形状、大小、相对位置的区域/层。27.在本公开的上下文中，当将一层/元件称作位于另一层/元件“上”时，该层/元件可以直接位于该另一层/元件上，或者它们之间可以存在居中层/元件。另外，如果在一种朝向中一层/元件位于另一层/元件“上”，那么当调转朝向时，该层/元件可以位于该另一层/元件“下”。28.图1示出了光掩膜401的掩膜关键尺寸一致性图(maskcduniformitymap)402的示意图。如图2所示，掩膜关键尺寸一致性的改善通过两个方向实现，扫描方向(scandirection)403和狭缝方向(slitdirection)404。扫描方向的掩膜关键尺寸一致性可以通过调节扫描速度来实现。如果降低扫描速度，以每小时为单位，晶圆获得的能量就会增加，如果提高扫描速度，能量就会减少。狭缝方向的掩膜关键尺寸一致性可利用特殊的可调狭缝进行调节。图3示出了现有的机械控制方式的可调狭缝的结构示意图。由曝光的入射光源开始405，依次为可调狭缝406、光掩膜408、投影透镜(projectionlens)409和晶圆410。其中，可调狭缝406与光掩膜408之间的曲线为透光量曲线407。如图4所示，为机械驱动的可调狭缝的狭缝间隔与光通量的示意图。传统的机械驱动的可调狭缝包括调节光通量的灰度滤镜(grayfilter)501和灰度滤镜的移动杆(movingbar)502，由于灰度滤镜(过滤棒)501能够减弱所有波长的光的亮度，所以可以通过调整可调狭缝间隔的大小，改变光通量，掩膜关键尺寸一致性图中402显示了狭缝对应的光通量。如图5a所示，为不同间隔大小的可调狭缝对应的掩膜关键尺寸一致性图的示意图。其中，411为图5b所示的狭缝间隔，对应的通光量曲线为曲线407a，412为图5c所示的狭缝间隔，对应的通光量曲线为曲线407b。机械驱动方式无法使过滤棒快速移动，并且，由于机械装置的连接方式复杂，因此无法缩小过滤棒的大小也无法增加过滤棒的数量。29.如图6a所示，为本技术实施方式中的可调狭缝，包括：控制器101、多个移动杆102和多个调光窗103。控制器连接多个移动杆，用于将控制电流或控制电压传送到移动杆。多个移动杆中的每个对应连接一个调光窗，用于调整移动杆的位置和/或将控制电流或控制电压发送至调光窗。多个调光窗中的每两个在第一方向上相对布置，形成一对调光窗，每一对调光窗在同一水平面的垂直于第一方向的第二方向上呈依次排列。其中，第一方向和第二方向为水平面中的两个相互垂直的反向。如图6b所示，调光窗根据控制电流或控制电压，改变调光窗的透过率，从而调整光通量。改变透过率的方式包括：悬浮粒子装置方式、高分子分散液晶方式和电至变色方式。图6a和6b中所示的上、下两个控制器101，可以是同一个控制器101分别连接两列移动杆102的示意。30.调光窗包括第一玻璃201和第二玻璃202。在第一玻璃201与第二玻璃202之间，还包括第一导电层203和第二导电层204。第一导电层203和第二导电层204之间，根据改变透过率方式的不同，包括：电致变色玻璃205，或悬浮液206a与悬浮膜206b中的任一项和悬浮粒子装置207，或液晶层208。如图7所示，为使用电至变色方式的调光窗的示意图。在第一玻璃201与第二玻璃202之间，包括第一导电层203和第二导电层204，在第一导电层203和第二导电层204之间，包括电致变色玻璃205。第一导电层203和第二导电层204通电后，电致变色玻璃205的透过率变小，阻挡穿过第一玻璃201的光线，使光线无法穿过第二玻璃202。如图8a和图8b所示，为使用悬浮粒子装置方式的调光窗的示意图，其中，图8a为不通电情况下的调光窗，图8b为通电情况下的调光窗。在第一玻璃201与第二玻璃202之间，包括第一导电层203和第二导电层204，在第一导电层203和第二导电层204之间，包括：悬浮液206a或悬浮膜206b，以及悬浮粒子装置207。在不通电的情况下，穿过第一玻璃201的光线220被悬浮液206a或悬浮膜206b，以及悬浮粒子装置207阻挡，无法穿过第二玻璃202。在通电的情况下，悬浮液206a或悬浮膜206b，以及悬浮粒子装置207不阻挡光线220，光线220从第一玻璃201入射后，穿过第二玻璃202。如图9a和图9b所示，为使用高分子分散液晶方式的调光窗的示意图，其中，图9a为不通电情况下的调光窗，图9b为通电情况下的调光窗。在第一玻璃201与第二玻璃202之间第一导电层203和第二导电层204，在第一导电层203和第二导电层204之间，包括：液晶层208。在第一玻璃与第一导电层之间，以及第二玻璃与第二导电层之间，还包括液晶膜209和层间膜210。在不通电的情况下，穿过第一玻璃201的光线220被液晶层208阻挡，无法穿过第二玻璃202。在通电的情况下，液晶层208不阻挡光线220，光线220从第一玻璃201入射后，穿过第二玻璃202。光线220可以从第一玻璃入射，也可以从第二玻璃入射，图7至9所示均为从第一玻璃201入射。31.调光窗包括：多条第一方向供电线和多条第三方向供电线，其中，第三方向垂直于第一方向和第二方向形成的平面。多条第一方向供电线以第一预设距离相互间隔，多条第三方向供电线以第二预设距离相互间隔。第一方向供电线和第三方向供电线相互交叉。第一方向供电线的宽度大于等于10um且小于等于120um，第三方向供电线的宽度大于等于10um且小于等于120um。第一方向供电线和第三方向供电线为调光窗的玻璃内部的电线。32.在一个实施例中，一种光刻机可以包括本技术实施方式中的可调狭缝装置，此光刻机包括：掩膜台、载物台、透镜装置、光刻版及其移动装置和括本技术实施方式中的可调狭缝装置。33.图10示出调节狭缝的方法，其采用可调狭缝装置实现，实例方法始于操作301，控制器将控制电流或控制电压传送到移动杆。继续操作302，移动杆将控制电流或控制电压发送至调光窗。继续操作303，调光窗根据控制电流或控制电压，通过悬浮粒子装置方式、高分子分散液晶方式或电至变色方式，改变调光窗的透过率。移动杆还能够控制调光窗移动。34.本技术实施方式通过控制器控制调光窗的透过率，由于能够调节调光窗本身的光通量,因此不需要使用电机控制调光窗移动，可以缩小透光窗的尺寸，增加透光窗的数量，从而快速且精细的调整关键尺寸一致性。本技术的实施方式还能够提升产品的收率。由于光掩模关键尺寸一致性对产品收率影响很大，因此，越是改善关键尺寸一致性,对产品收率的贡献就越大。35.在以上的描述中，对于各层的构图、刻蚀等技术细节并没有做出详细的说明。但是本领域技术人员应当理解，可以通过各种技术手段，来形成所需形状的层、区域等。另外，为了形成同一结构，本领域技术人员还可以设计出与以上描述的方法并不完全相同的方法。另外，尽管在以上分别描述了各实施例，但是这并不意味着各个实施例中的措施不能有利地结合使用。36.以上对本公开的实施例进行了描述。但是，这些实施例仅仅是为了说明的目的，而并非为了限制本公开的范围。本公开的范围由所附权利要求及其等价物限定。不脱离本公开的范围，本领域技术人员可以做出多种替代和修改，这些替代和修改都应落在本公开的范围之内。当前第1页12当前第1页12
背景技术：
：：2.目前，在制造掩膜后改善关键尺寸一致性(cduniformity，cdu)的方法，均为使用扫描式光刻机(scanner)漏光设备的特殊功能。y轴方向，通过调整光刻机在曝光过程中的扫描速度来实现；x轴方向，通过调整光刻机设备的照明系统中的可调狭缝单元(adjustableslitunit)的结构，来改善关键尺寸一致性。3.现有的可调狭缝单元为了遮住通过狭缝的一部份光，设置了数十个不透明的过滤棒(filterbar)，这些过滤棒通过与小的电机(motor)连接后，配合光刻版(reticle)的移动速度移动。4.然而，机械式驱动具有局限性，无法快速且细微的调整关键尺寸一致性。技术实现要素：5.针对上述存在的问题，本技术提供了一种可调狭缝装置，包括：控制器、多个移动杆和多个调光窗；所述多个调光窗中的每两个在第一方向上相对布置，形成一对调光窗，每一对调光窗在垂直于第一方向的第二方向上呈依次排列；所述多个移动杆中的每个对应连接一个调光窗；所述控制器连接所述多个移动杆。6.针对上述存在的问题，本技术提供了一种光刻机，包括：掩膜台、载物台、透镜装置、光刻版及其移动装置和可调狭缝装置。7.针对上述存在的问题，本技术还提供了一种调节狭缝的方法，其采用可调狭缝装置实现，包括：控制器将控制电流或控制电压传送到移动杆；移动杆将控制电流或控制电压发送至调光窗；调光窗根据控制电流或控制电压，通过悬浮粒子装置方式、高分子分散液晶方式或电至变色方式，改变调光窗的透过率。8.本技术的优点在于：通过控制器控制调光窗的透过率，不需要使用电机控制过滤棒移动，可以缩小透光窗的尺寸，增加透光窗的数量，从而快速且细微的调整关键尺寸一致性。附图说明9.通过阅读下文优选实施方式的详细描述，各种其他的优点和益处对于本领域普通技术人员将变得清楚明了。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本发明的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：10.图1示出了光掩膜的掩膜关键尺寸一致性图402的示意图；11.图2示出了改善掩膜关键尺寸一致性的两个方向的示意图；12.图3示出了现有的机械控制方式的可调狭缝的结构示意图；13.图4示出了机械驱动的可调狭缝的狭缝间隔与光通量的示意图；14.图5a示出了不同间隔大小的可调狭缝对应的掩膜关键尺寸一致性图的示意图；15.图5b示出了小间隔的可调狭缝对应的掩膜关键尺寸一致性图的示意图；16.图5c示出了大间隔的可调狭缝对应的掩膜关键尺寸一致性图的示意图；17.图6a示出了本技术实施方式中的可调狭缝的示意图；18.图6b示出了调光窗根据控制电流或控制电压改变调光窗的透过率的示意图；19.图7示出了使用电至变色方式的调光窗的的示意图；20.图8a示出了不通电情况下使用悬浮粒子装置方式的调光窗的的示意图；21.图8b示出了通电情况下使用悬浮粒子装置方式的调光窗的的示意图；22.图9a示出了不通电情况下使用高分子分散液晶方式的调光窗的的示意图；23.图9b示出了通电情况下使用高分子分散液晶方式的调光窗的的示意图；24.图10示出了本技术实施方式的调节狭缝的方法的步骤示意图。具体实施方式25.以下，将参照附图来描述本公开的实施例。但是应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本公开的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本公开的概念。26.在附图中示出了根据本公开实施例的各种结构示意图。这些图并非是按比例绘制的，其中为了清楚表达的目的，放大了某些细节，并且可能省略了某些细节。图中所示出的各种区域、层的形状以及它们之间的相对大小、位置关系仅是示例性的，实际中可能由于制造公差或技术限制而有所偏差，并且本领域技术人员根据实际所需可以另外设计具有不同形状、大小、相对位置的区域/层。27.在本公开的上下文中，当将一层/元件称作位于另一层/元件“上”时，该层/元件可以直接位于该另一层/元件上，或者它们之间可以存在居中层/元件。另外，如果在一种朝向中一层/元件位于另一层/元件“上”，那么当调转朝向时，该层/元件可以位于该另一层/元件“下”。28.图1示出了光掩膜401的掩膜关键尺寸一致性图(maskcduniformitymap)402的示意图。如图2所示，掩膜关键尺寸一致性的改善通过两个方向实现，扫描方向(scandirection)403和狭缝方向(slitdirection)404。扫描方向的掩膜关键尺寸一致性可以通过调节扫描速度来实现。如果降低扫描速度，以每小时为单位，晶圆获得的能量就会增加，如果提高扫描速度，能量就会减少。狭缝方向的掩膜关键尺寸一致性可利用特殊的可调狭缝进行调节。图3示出了现有的机械控制方式的可调狭缝的结构示意图。由曝光的入射光源开始405，依次为可调狭缝406、光掩膜408、投影透镜(projectionlens)409和晶圆410。其中，可调狭缝406与光掩膜408之间的曲线为透光量曲线407。如图4所示，为机械驱动的可调狭缝的狭缝间隔与光通量的示意图。传统的机械驱动的可调狭缝包括调节光通量的灰度滤镜(grayfilter)501和灰度滤镜的移动杆(movingbar)502，由于灰度滤镜(过滤棒)501能够减弱所有波长的光的亮度，所以可以通过调整可调狭缝间隔的大小，改变光通量，掩膜关键尺寸一致性图中402显示了狭缝对应的光通量。如图5a所示，为不同间隔大小的可调狭缝对应的掩膜关键尺寸一致性图的示意图。其中，411为图5b所示的狭缝间隔，对应的通光量曲线为曲线407a，412为图5c所示的狭缝间隔，对应的通光量曲线为曲线407b。机械驱动方式无法使过滤棒快速移动，并且，由于机械装置的连接方式复杂，因此无法缩小过滤棒的大小也无法增加过滤棒的数量。29.如图6a所示，为本技术实施方式中的可调狭缝，包括：控制器101、多个移动杆102和多个调光窗103。控制器连接多个移动杆，用于将控制电流或控制电压传送到移动杆。多个移动杆中的每个对应连接一个调光窗，用于调整移动杆的位置和/或将控制电流或控制电压发送至调光窗。多个调光窗中的每两个在第一方向上相对布置，形成一对调光窗，每一对调光窗在同一水平面的垂直于第一方向的第二方向上呈依次排列。其中，第一方向和第二方向为水平面中的两个相互垂直的反向。如图6b所示，调光窗根据控制电流或控制电压，改变调光窗的透过率，从而调整光通量。改变透过率的方式包括：悬浮粒子装置方式、高分子分散液晶方式和电至变色方式。图6a和6b中所示的上、下两个控制器101，可以是同一个控制器101分别连接两列移动杆102的示意。30.调光窗包括第一玻璃201和第二玻璃202。在第一玻璃201与第二玻璃202之间，还包括第一导电层203和第二导电层204。第一导电层203和第二导电层204之间，根据改变透过率方式的不同，包括：电致变色玻璃205，或悬浮液206a与悬浮膜206b中的任一项和悬浮粒子装置207，或液晶层208。如图7所示，为使用电至变色方式的调光窗的示意图。在第一玻璃201与第二玻璃202之间，包括第一导电层203和第二导电层204，在第一导电层203和第二导电层204之间，包括电致变色玻璃205。第一导电层203和第二导电层204通电后，电致变色玻璃205的透过率变小，阻挡穿过第一玻璃201的光线，使光线无法穿过第二玻璃202。如图8a和图8b所示，为使用悬浮粒子装置方式的调光窗的示意图，其中，图8a为不通电情况下的调光窗，图8b为通电情况下的调光窗。在第一玻璃201与第二玻璃202之间，包括第一导电层203和第二导电层204，在第一导电层203和第二导电层204之间，包括：悬浮液206a或悬浮膜206b，以及悬浮粒子装置207。在不通电的情况下，穿过第一玻璃201的光线220被悬浮液206a或悬浮膜206b，以及悬浮粒子装置207阻挡，无法穿过第二玻璃202。在通电的情况下，悬浮液206a或悬浮膜206b，以及悬浮粒子装置207不阻挡光线220，光线220从第一玻璃201入射后，穿过第二玻璃202。如图9a和图9b所示，为使用高分子分散液晶方式的调光窗的示意图，其中，图9a为不通电情况下的调光窗，图9b为通电情况下的调光窗。在第一玻璃201与第二玻璃202之间第一导电层203和第二导电层204，在第一导电层203和第二导电层204之间，包括：液晶层208。在第一玻璃与第一导电层之间，以及第二玻璃与第二导电层之间，还包括液晶膜209和层间膜210。在不通电的情况下，穿过第一玻璃201的光线220被液晶层208阻挡，无法穿过第二玻璃202。在通电的情况下，液晶层208不阻挡光线220，光线220从第一玻璃201入射后，穿过第二玻璃202。光线220可以从第一玻璃入射，也可以从第二玻璃入射，图7至9所示均为从第一玻璃201入射。31.调光窗包括：多条第一方向供电线和多条第三方向供电线，其中，第三方向垂直于第一方向和第二方向形成的平面。多条第一方向供电线以第一预设距离相互间隔，多条第三方向供电线以第二预设距离相互间隔。第一方向供电线和第三方向供电线相互交叉。第一方向供电线的宽度大于等于10um且小于等于120um，第三方向供电线的宽度大于等于10um且小于等于120um。第一方向供电线和第三方向供电线为调光窗的玻璃内部的电线。32.在一个实施例中，一种光刻机可以包括本技术实施方式中的可调狭缝装置，此光刻机包括：掩膜台、载物台、透镜装置、光刻版及其移动装置和括本技术实施方式中的可调狭缝装置。33.图10示出调节狭缝的方法，其采用可调狭缝装置实现，实例方法始于操作301，控制器将控制电流或控制电压传送到移动杆。继续操作302，移动杆将控制电流或控制电压发送至调光窗。继续操作303，调光窗根据控制电流或控制电压，通过悬浮粒子装置方式、高分子分散液晶方式或电至变色方式，改变调光窗的透过率。移动杆还能够控制调光窗移动。34.本技术实施方式通过控制器控制调光窗的透过率，由于能够调节调光窗本身的光通量,因此不需要使用电机控制调光窗移动，可以缩小透光窗的尺寸，增加透光窗的数量，从而快速且精细的调整关键尺寸一致性。本技术的实施方式还能够提升产品的收率。由于光掩模关键尺寸一致性对产品收率影响很大，因此，越是改善关键尺寸一致性,对产品收率的贡献就越大。35.在以上的描述中，对于各层的构图、刻蚀等技术细节并没有做出详细的说明。但是本领域技术人员应当理解，可以通过各种技术手段，来形成所需形状的层、区域等。另外，为了形成同一结构，本领域技术人员还可以设计出与以上描述的方法并不完全相同的方法。另外，尽管在以上分别描述了各实施例，但是这并不意味着各个实施例中的措施不能有利地结合使用。36.以上对本公开的实施例进行了描述。但是，这些实施例仅仅是为了说明的目的，而并非为了限制本公开的范围。本公开的范围由所附权利要求及其等价物限定。不脱离本公开的范围，本领域技术人员可以做出多种替代和修改，这些替代和修改都应落在本公开的范围之内。当前第1页12当前第1页12
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