一种建立生长室内气体平衡流场的方法与流程

技术特征：
1.一种建立生长室内气体平衡流场的方法，其特征在于，所述方法为：通过控制生长室容积、生长室温度、载气流速和源化合物浓度而建立生长室内气体平衡流场。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述生长室为圆锥体腔体。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述生长室的高径比为2-3，所述高径比指生长室高度与生长室底边直径的比值。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述底部直径为10-30cm，所述生长室高度为20-60cm。5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述底部直径为12-20cm，所述生长室高度为25-40cm。6.根据权利要求1至5任一项所述的方法，其特征在于，所述生长室温度为200-250℃。7.根据权利要求1至6任一项所述的方法，其特征在于，所述载气流速为4.0-4.5l/min。8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，载气的类型为氮气或氩气。9.根据权利要求1至8任一项所述的方法，其特征在于，所述源化合物浓度为0.1-0.5mol/l。10.根据权利要求1至9任一项所述的方法，其特征在于，所述源化合物为醋酸锌。

技术总结
本发明涉及一种建立生长室内气体平衡流场的方法，其特征在于，所述方法为：通过控制生长室容积、生长室温度、载气流速和源化合物浓度而建立生长室内气体平衡流场。本发明从生长室容积、生长室温度、载气流速和源化合物浓度这四个方面入手来建立生长室内气体平衡流场，从而确定最适合薄膜均匀稳定生长的平衡流场条件，优化工艺参数制备出透过性高、纯度高、致密性好的薄膜。密性好的薄膜。密性好的薄膜。


技术研发人员：王肖珩 肖志河 周翔 乔元哲 陈大鹏
受保护的技术使用者：中国长峰机电技术研究设计院 北京遥感设备研究所
技术研发日：2020.09.14
技术公布日：2022/3/14