补偿由重复率偏差引起的波长误差的方法与流程

技术特征：
1.一种用于控制辐射脉冲的辐射系统，包括：光学元件，被配置为与所述辐射脉冲相互作用以控制所述辐射脉冲的特性；致动器，被配置为根据从控制器接收的控制信号，来致动所述光学元件，所述控制信号至少部分地取决于所述辐射系统的参考脉冲重复率，其中所述控制器被配置为接收脉冲信息并且使用所述脉冲信息来确定和施加对所述控制信号的调节。2.根据权利要求1所述的辐射系统，其中所述特性是所述辐射脉冲的波长。3.根据权利要求1所述的辐射系统，其中所述脉冲信息包括所述辐射系统的操作性脉冲重复率，并且其中所述调节至少部分地考虑所述参考脉冲重复率与所述操作性脉冲重复率之间的差异。4.根据权利要求1所述的辐射系统，其中所述调节改变所述控制信号的幅度。5.根据权利要求4所述的辐射系统，其中所述控制信号的所述幅度为：其中u(f)是在频域中的所述致动器的所述控制信号，λ
t
是所述辐射脉冲的目标波长，n是脉冲数目，p(f)是在所述频域中的所述致动器的动态模型。6.根据权利要求5所述的辐射系统，其中所述脉冲信息包括脉冲数目，并且其中所述控制信号的改变后的幅度为：其中c是校正因子。7.根据权利要求6所述的辐射系统，其中所述校正因子为：其中r
r
是所述辐射系统的所述参考脉冲重复率，并且δ是所述操作性脉冲重复率与所述参考脉冲重复率之间的差异。8.根据权利要求7所述的辐射系统，其中针对由所述辐射系统生成的每个辐射脉冲，计算所述校正因子并将所述校正因子施加至所述控制信号。9.根据权利要求1所述的辐射系统，其中所述致动器包括压电元件，所述压电元件被配置为旋转所述光学元件使得所述辐射脉冲在所述光学元件上的入射角改变。10.根据权利要求1所述的辐射系统，其中所述光学元件包括光栅，所述光栅被配置为以波长依赖的方式使所述辐射脉冲反射，使得所选择的辐射波长带被传输到所述辐射系统的输出。11.根据权利要求1所述的辐射系统，其中所述光学元件包括棱镜，所述棱镜被配置为以波长依赖的方式使所述辐射脉冲折射，使得所选择的辐射波长带被传输到所述辐射系统的输出。12.一种光刻系统，包括：光刻设备，被配置为接收辐射脉冲、图案化所述辐射脉冲并且将图案化的辐射脉冲投
射到目标上；以及根据权利要求1所述的辐射系统。13.一种控制辐射脉冲的方法，包括：使用光学元件与所述辐射脉冲相互作用，以控制所述辐射脉冲的特性；使用致动器、根据至少部分地取决于所述辐射系统的参考脉冲重复率的控制信号，来致动所述光学元件；接收脉冲信息；以及使用所述脉冲信息来确定和施加对所述控制信号的调节。14.根据权利要求13所述的方法，其中所述特性是所述辐射脉冲的波长。15.根据权利要求14所述的方法，其中所述脉冲信息包括所述辐射系统的操作性脉冲重复率，并且其中所述调节至少部分地考虑所述参考脉冲重复率与所述操作性脉冲重复率之间的差异。16.根据权利要求14所述的方法，其中所述调节改变所述控制信号的幅度。17.根据权利要求16所述的方法，其中所述控制信号的幅度为：其中u(f)是所述致动器的所述控制信号，λ
t
是所述辐射脉冲的目标波长，n是脉冲数目，p(f)是所述致动器的动态模型。18.根据权利要求17所述的方法，其中所述脉冲信息包括脉冲数目，并且其中所述控制信号的改变后的幅度为：其中c是校正因子。19.根据权利要求18所述的方法，其中所述校正因子为：其中r
r
是所述辐射系统的所述参考脉冲重复率，并且δ是所述操作性脉冲重复率与所述参考脉冲重复率之间的差异。20.根据权利要求19所述的方法，其中针对由所述辐射系统生成的每个辐射脉冲，计算所述校正因子并将所述校正因子施加至所述控制信号。21.一种将图案化的辐射束投射到目标上的方法，其中所述图案化的辐射束包括辐射脉冲，所述方法还包括根据包括以下各项的方法来控制所述辐射脉冲：使用光学元件与所述辐射脉冲相互作用，以控制所述辐射脉冲的特性；使用致动器、根据至少部分地取决于所述辐射系统的参考脉冲重复率的控制信号，来致动所述光学元件；接收脉冲信息；以及使用所述脉冲信息来确定和施加对所述控制信号的调节。
22.一种计算机程序，包括计算机可读指令，所述计算机可读指令被配置为使计算机执行控制辐射脉冲的方法，所述方法包括：使用光学元件与所述辐射脉冲相互作用，以控制所述辐射脉冲的特性；使用致动器、根据至少部分地取决于所述辐射系统的参考脉冲重复率的控制信号，来致动所述光学元件；接收脉冲信息；以及使用所述脉冲信息来确定和施加对所述控制信号的调节。23.一种用于控制辐射脉冲的计算机设备，包括存储器和处理器，所述存储器存储处理器可读指令，所述处理器被设置为读取和执行存储在所述存储器中的指令，其中所述处理器可读指令包括被布置为控制所述计算机执行控制辐射脉冲的方法的指令，所述方法包括：使用光学元件与所述辐射脉冲相互作用，以控制所述辐射脉冲的特性；使用致动器、根据至少部分地取决于所述辐射系统的参考脉冲重复率的控制信号，来致动所述光学元件；接收脉冲信息；以及使用所述脉冲信息来确定和施加对所述控制信号的调节。

技术总结
一种用于控制辐射脉冲的辐射系统包括：被配置为与辐射脉冲相互作用以控制辐射脉冲的特性的光学元件；被配置为根据从控制器接收的控制信号致动光学元件的致动器，控制信号至少部分地取决于辐射系统的参考脉冲重复率；以及被配置为从控制器接收脉冲信息并且使用脉冲信息确定对控制信号的调节的处理器。辐射系统可以用于提高以多焦点成像模式操作的光刻设备的精度。备的精度。备的精度。


技术研发人员：邓国泰 R
受保护的技术使用者：西默有限公司
技术研发日：2020.06.25
技术公布日：2022/3/4