一种光电转塔对雷达识别目标区域的搜索扫描控制方法与流程

技术特征：
1.一种光电转塔对雷达识别目标区域的搜索扫描控制方法，其特征在于具体步骤如下：步骤一：当雷达发现目标后，将目标区域范围信息传输至光电转塔；其中，雷达给出目标可能出现的区域中心点所对应的光电转塔方位角是θ
yaw
，光电转塔俯仰角为θ
pitch
；雷达给出的目标可能出现的区域的范围为方位方向为俯仰方向为当前的光电转塔的传感器的方位视场角η
yaw
和俯仰视场角η
pitch
；步骤二：开始区域搜索扫描过程，需要根据雷达给出的目标区域范围和当前传感器视场范围切换扫描模式；并计算扫描参数，从而保证在目标区域不断变化的情况下也能保证整个目标区域范围都可以被扫描到。2.根据权利要求1所示光电转塔对雷达识别目标区域的搜索扫描控制方法，其特征在于：所述步骤一中，在雷达开始工作前需将光电转塔和雷达的角度进行对准和校正，把雷达给出的角度和光电转塔的光轴角度对应起来。3.根据权利要求1所示光电转塔对雷达识别目标区域的搜索扫描控制方法，其特征在于：所述步骤二中，扫描模式包括以下四种：扫描模式一，雷达给出的目标区域范围小于光电转塔当前传感器视场，即且此时，光电转塔的方位俯仰角从动雷达给出的区域中心点所对应的方位俯仰角和即可；扫描模式二，雷达给出的目标区域方位范围小于光电转塔当前传感器方位视场角大小，但目标区域俯仰范围大于光电转塔当前传感器俯仰视场角大小，即小，但目标区域俯仰范围大于光电转塔当前传感器俯仰视场角大小，即光电转塔的方位角需要从动雷达给出的区域中心点所对应的方位角，光电转塔的俯仰方向需要进行扫描；扫描模式三，雷达给出的目标区域俯仰范围小于光电转塔当前传感器俯仰视场角大小，但目标区域方位范围大于光电转塔当前传感器方位视场角大小，即小，但目标区域方位范围大于光电转塔当前传感器方位视场角大小，即光电转塔的俯仰角需要从动雷达给出的区域中心点所对应的俯仰角，光电转塔的方位方向需要进行扫描；扫描模式四，雷达给出的目标区域方位范围和俯仰范围均大于光电转塔当前传感器视场角大小即时，需要对目标区域采用区域逐行扫描方法。4.根据权利要求3所示光电转塔对雷达识别目标区域的搜索扫描控制方法，其特征在于：所述扫描模式二中，扫描的范围为至的区间，由于这个范围会随着目标位置变化而实时更新，扫描时需要实时计算扫描的边界值，光电转塔俯仰角触碰到边界值折返便可。5.根据权利要求3所示光电转塔对雷达识别目标区域的搜索扫描控制方法，其特征在于：所述扫描模式三中，扫描的范围为至的区间，这个范围会随着目标位置变化而实时更新，扫描时需要实时计算扫描的边界值，光电转塔俯仰角触碰到边界值
折返便可。6.根据权利要求3所示光电转塔对雷达识别目标区域的搜索扫描控制方法，其特征在于：所述扫描模式二、扫描模式三中，扫描的初始方向根据雷达给出的目标运动方向而确定，从而提高发现目标速度。7.根据权利要求1所示光电转塔对雷达识别目标区域的搜索扫描控制方法，其特征在于：所述步骤二中，区域搜索扫描过程具体为：步骤1：控制光电转塔方位角度对准θ
yaw
，俯仰角度对准步骤2：开始在俯仰方向上进行扫描，向上扫描至俯仰角度再根据雷达给出的目标运动方向改变方位对准的角度为θ
yaw
0.8η
yaw
或θ
yaw-0.8η
yaw
；能够保证两次行扫描的视场有一定交叉范围，从而保证扫描到目标，且能够保证先扫描目标更可能出现的区域；步骤3：转塔俯仰继续在到的范围内扫描，在俯仰扫描到俯仰范围的边界时，需要改变方位对准的角度，扫描过程中的方位对准的角度为：ξ
yaw
＝θ
yaw
0.8nη
yaw
其中n为整数，在触碰或超过到俯仰扫描边界时会发生变化。8.根据权利要求7所示光电转塔对雷达识别目标区域的搜索扫描控制方法，其特征在于：所述步骤3扫描过程中，要不断判断范围方位对准的角度是否超过雷达给出的目标区域方位的边界值，当时需要改变n的变化由增加改为变小，当需要改变n的变化由变小改为增加，这样能保证扫描区域略大于整个目标区域范围。

技术总结
本发明一种光电转塔对雷达识别目标区域的搜索扫描控制方法，属于自动控制技术。根据转塔传感器的视场大小和雷达给出的目标可能范围自动计算扫描搜索方式和搜索范围，实现全自动搜索扫描。区域搜索扫描过程中，光电转塔会根据雷达给出的目标区域范围和当前传感器视场角信息范围切换搜索扫描模式,根据目标区域范围和视场范围的大小在四种扫描模式中选择合适的扫描模式，并计算扫描参数，从而保证在目标区域不断变化的情况下也可以能保证整个目标区域范围都可以被扫描到。实际试验证明，这种搜索扫描控制方法实现了全自动搜索扫描，无需人干预，在雷达给出的范围不够精确时也能找到目标大大提高了效率，并减小了错过目标的概率。标的概率。标的概率。


技术研发人员：张龙浩 杜明昊 昝宝亮 刘念 沈腾 申宇元
受保护的技术使用者：中国航空工业集团公司洛阳电光设备研究所
技术研发日：2021.10.02
技术公布日：2022/2/28