一种用于陶瓷基片表面处理的研磨机构的制作方法

1.本实用新型涉及陶瓷基片的加工领域，具体是一种用于陶瓷基片表面处理的研磨机构。


背景技术：

2.陶瓷基片表面的光滑度是产品优良的重要指标之一，因此在生产的过程中，需要经过研磨抛光的工艺处理；现有的研磨抛光机构的在工作的过程中，陶瓷基片会发热然后产生微小形变，从而影响陶瓷基片产品的加工精度。


技术实现要素：

3.本实用新型目的是提供一种用于陶瓷基片表面处理的研磨机构。
4.为了实现上述目的，本实用新型的技术方案是：
5.一种用于陶瓷基片表面处理的研磨机构，包括用于承载陶瓷基片的承载装置，所述承载装置包括承载盘和底盘，所述承载盘固定连接在底盘的顶面上，所述承载盘上开设有若干用于夹持陶瓷基片的夹持槽，所述承载盘内部还固定连接有进水管和出水管，所述进水管的出水口开设在每个夹持槽的侧壁上，所述出水管的进水口开设在每个夹持槽的底面上，所述夹持槽内部固定连接有过滤棉和滤板，陶瓷基片夹持在过滤棉和滤板的上方。
6.进一步的，所述底盘顶面上固定连接有若干支撑柱，所述支撑柱固定连接在承载盘和底盘之间。
7.进一步的，所述底盘顶面开设有积水槽，所述积水槽通过排水孔连通底盘的下方，所述出水管的出水口伸出到承载盘的外部后向下正对积水槽。
8.进一步的，所述积水槽顶部设置有盖板，所述出水管的出水口穿过盖板后伸入到积水槽内。
9.进一步的，所述盖板扣合在积水槽上。
10.与现有技术相比，本实用新型具有的优点和积极效果是：
11.本实用新型在承载盘内设置有进水管和出水管，进水管可以吸收在夹持槽内的陶瓷基片在研磨抛光过程中产生的热量并吸收微尘，防止陶瓷基片因温度变化导致体积发生微小变化，从而导致加工精度不足的问题，并且本实用新型可以将冷却液集中回收到积水槽内，防止污水散落；本实用新型在滤板的顶部还设置有过滤棉，过滤棉可以过滤研磨过程中产生的微尘，也可以降低冷却液流向出水管的速度，提高经济性。
附图说明
12.为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
13.图1为本实用新型的主视图；
14.图2为本实用新型的图1的a处放大图。
具体实施方式
15.为使本实用新型实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施方式中的附图，对本实用新型实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式是本实用新型一部分实施方式，而不是全部的实施方式。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施方式的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
16.因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施方式。基于本实用新型中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本实用新型保护的范围。
17.需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。
18.应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
19.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
20.在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
21.如图1-图2所示，
22.一种用于陶瓷基片表面处理的研磨机构，包括用于承载陶瓷基片的承载装置，所述承载装置包括承载盘1和底盘2，所述承载盘1固定连接在底盘2的顶面上，所述承载盘1上开设有若干用于夹持陶瓷基片的夹持槽11，所述承载盘1内部还固定连接有进水管13和出水管12，所述进水管13的出水口开设在每个夹持槽11的侧壁上，所述出水管12的进水口开设在每个夹持槽11的底面上，所述夹持槽11内部固定连接有过滤棉112和滤板111，陶瓷基片夹持在过滤棉112和滤板111的上方。
23.本实施例中，所述底盘2顶面上固定连接有若干支撑柱3，所述支撑柱3固定连接在承载盘1和底盘2之间。
24.本实施例中，所述底盘2顶面开设有积水槽21，所述积水槽21通过排水孔22连通底盘2的下方，所述出水管12的出水口伸出到承载盘1的外部后向下正对积水槽21。
25.本实施例中，所述积水槽21顶部设置有盖板23，所述出水管12的出水口穿过盖板23后伸入到积水槽21内。
26.本实施例中，所述盖板23扣合在积水槽21上。
27.本实用新型在承载盘内设置有进水管和出水管，进水管可以吸收在夹持槽内的陶瓷基片在研磨抛光过程中产生的热量并吸收微尘，防止陶瓷基片因温度变化导致体积发生微小变化，从而导致加工精度不足的问题，并且本实用新型可以将冷却液集中回收到积水槽内，防止污水散落；本实用新型在滤板的顶部还设置有过滤棉，过滤棉可以过滤研磨过程中产生的微尘，也可以降低冷却液流向出水管的速度，提高经济性。
28.基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。


技术特征：
1.一种用于陶瓷基片表面处理的研磨机构，包括用于承载陶瓷基片的承载装置，其特征在于：所述承载装置包括承载盘和底盘，所述承载盘固定连接在底盘的顶面上，所述承载盘上开设有若干用于夹持陶瓷基片的夹持槽，所述承载盘内部还固定连接有进水管和出水管，所述进水管的出水口开设在每个夹持槽的侧壁上，所述出水管的进水口开设在每个夹持槽的底面上，所述夹持槽内部固定连接有过滤棉和滤板，陶瓷基片夹持在过滤棉和滤板的上方。2.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷基片表面处理的研磨机构，其特征在于：所述底盘顶面上固定连接有若干支撑柱，所述支撑柱固定连接在承载盘和底盘之间。3.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷基片表面处理的研磨机构，其特征在于：所述底盘顶面开设有积水槽，所述积水槽通过排水孔连通底盘的下方，所述出水管的出水口伸出到承载盘的外部后向下正对积水槽。4.根据权利要求3所述的一种用于陶瓷基片表面处理的研磨机构，其特征在于：所述积水槽顶部设置有盖板，所述出水管的出水口穿过盖板后伸入到积水槽内。5.根据权利要求4所述的一种用于陶瓷基片表面处理的研磨机构，其特征在于：所述盖板扣合在积水槽上。

技术总结
本实用新型公开了一种用于陶瓷基片表面处理的研磨机构，包括用于承载陶瓷基片的承载装置，所述承载装置包括承载盘和底盘，所述承载盘固定连接在底盘的顶面上，所述承载盘上开设有若干用于夹持陶瓷基片的夹持槽，所述承载盘内部还固定连接有进水管和出水管，所述进水管的出水口开设在每个夹持槽的侧壁上，所述出水管的进水口开设在每个夹持槽的底面上，所述夹持槽内部固定连接有过滤棉和滤板，陶瓷基片夹持在过滤棉和滤板的上方；本实用新型可以提高研磨精度，节省成本。节省成本。节省成本。


技术研发人员：葛迪云 戴海兵 刘伟
受保护的技术使用者：焦作市金川电子科技有限公司
技术研发日：2021.10.27
技术公布日：2022/2/25