一种高耐磨性的全抛釉料的制作方法

1.本发明涉及一种高耐磨性的全抛釉料，属于建筑陶瓷领域，特别适合于家庭及公众场合的耐磨抛釉砖。


背景技术：

2.目前，全抛釉地砖由于具有生产工艺简单，色彩丰富，釉面平整明亮的特点而成为地砖行业的主流，然而和抛光砖比较其最大的缺点是耐磨性较差，所以在一些公众场合全抛釉地砖的应用受到限制。


技术实现要素：

3.本发明为改进现有技术的不足而提供一种高耐磨性的全抛釉料，其方案如下：一种高耐磨性的全抛釉料，其釉料配方具有以下特征：（1）.釉料配方中氧化硅单质和氧化铝单质质量分数之和大于等于25%;（2）.釉料配方中包括氧化钡含量大于20%的熔块，该熔块成份以氧化物质量分数计包括：sio
2 35-55%、al2o
3 5-20%、k2o 2-15%、na2o 0-15%、bao 20-50% 、cao 0-8%、mgo 0-5%。
4.上述高耐磨性的全抛釉料，其釉料配方中的氧化铝单质包括氧化铝的各种同质异构体和刚玉的各种同质异构体，氧化硅单质包括石英和氧化硅的各种同质异构体。
5.上述高耐磨性的全抛釉料，其熔块成份以氧化物质量分数计包括：sio
2 35-45%、al2o
3 5-12%、k2o 2-10%、na2o 0-10%、bao 25-45% 、cao 0-8%、mgo 0-5%、sro 0-5%。
6.上述高耐磨性的全抛釉料，其熔块成份以氧化物质量分数计包括：sio
2 35-45%、al2o
3 5-12%、k2o 5-10%、na2o 0-5%、bao 30-45% 、cao 0-8%、mgo 0-5%、sro 0-5%。
7.在陶瓷釉料配方体系中氧化硅和氧化铝是网络体，碱金属氧化物和碱土金属氧化物是熔剂，高温下碱金属和碱土金属氧化物破坏网络体的网状结构从而降低釉料的熔融温度使釉料烧结，所以釉料中氧化硅和氧化铝质量分数占比越高釉层的硬度越高，耐磨性越好，但是其烧结温度也随之提高。
8.本人在长期的实验中发现熔块的助熔效果远大于生料，这得益于有些生料比如碳酸钡在以碳酸钡形式加入时是弱熔剂，但是在熔块中经过高温熔融后则变为以氧化钡形态的强熔剂，以熔块为基础的配方体系可最大限度的提高氧化硅和氧化铝的质量分数，从而达到提高釉料强度的效果。
9.采用上述技术的高耐磨性的全抛釉料，和现有技术相比，本发明可取得如下优点：1.釉料烧后耐磨等级大于等于4级;2.釉料烧后毛细孔少;3.釉料配方简单，成分稳定，可节约生产成本。
10.具体实施方式：本发明结合实施例详细说明如下：实施例1：
熔块1：氧化物成份质量分数为：sio
2 35-50%、al2o
3 6-12%、cao 0-3%、mgo 0-3%、k2o 5-10%、na2o 0-10%、bao 30-45%、sro 0-5%。
11.高耐磨性的全抛釉料配方如下表：实施例2：熔块2：氧化物成份质量分数为：sio
2 35-50%、al2o
3 6-12%、cao 0-3%、mgo 0-3%、k2o 5-10%、na2o 0-10%、bao 25-45%、sro 5-20%。
12.高耐磨性的全抛釉料配方如下表：在以上实施例配方中通过添加氧化锌、碳酸钡、碳酸锶等方法所作的改变均属本发明的范围。


技术特征：
1.一种高耐磨性的全抛釉料，其特征在于釉料配方具有以下特征：(1).釉料配方中氧化硅单质和氧化铝单质质量分数之和大于等于25%; (2).釉料配方中包括氧化钡含量大于20%的熔块，该熔块成份以氧化物质量分数计包括：sio
2 35-55%、al2o
3 5-20%、k2o 2-15%、na2o 0-15%、bao 20-50% 、cao 0-8%、mgo 0-5%。2.根据权利要求1所述的高耐磨性的全抛釉料，其特征在于所述釉料配方中的氧化铝单质包括氧化铝的各种同质异构体和刚玉的各种同质异构体，氧化硅单质包括石英和氧化硅的各种同质异构体。3.根据权利要求1所述的高耐磨性的全抛釉料，其特征在于所述熔块成份以氧化物质量分数计包括：sio
2 35-45%、al2o
3 5-12%、k2o 2-10%、na2o 0-10%、bao 25-45% 、cao 0-8%、mgo 0-5%、sro 0-5%。4.根据权利要求1所述的高耐磨性的全抛釉料，其特征在于所述熔块成份以氧化物质量分数计包括：sio
2 35-45%、al2o
3 5-12%、k2o 5-10%、na2o 0-5%、bao 30-45% 、cao 0-8%、mgo 0-5%、sro 0-5%。5.根据权利要求1所述的高耐磨性的全抛釉料，其特征在于所述熔块成份以氧化物质量分数计包括：sio
2 35-45%、al2o
3 5-12%、k2o 5-10%、na2o 0-5%、bao 30-45% 。

技术总结
本发明公开一种高耐磨性的全抛釉料，由于采用了高氧化钡含量的熔块，有效提高了釉料配方中氧化硅单质和氧化铝单质的添加量，从而提高了釉层的硬度，较好的解决了全抛釉地砖耐磨性差的缺陷。性差的缺陷。


技术研发人员：程家麒
受保护的技术使用者：程家麒
技术研发日：2020.08.13
技术公布日：2022/2/23