一种双面卷绕镀膜机的制作方法

1.本发明涉及镀膜设备技术领域，具体地说，涉及一种双面卷绕镀膜机。


背景技术：

2.现有的卷绕镀膜机基本上是仅能用于单面单功能镀膜的单面镀膜设备，其主要包括真空室、抽真空系统，以及位于真空室内的镀膜鼓、卷绕系统、蒸发系统和导辊系统，其中，卷绕系统包括放卷机构和收卷机构，镀膜鼓和蒸发系统只设置有一组。
3.随着镀膜的广泛应用，某些领域需要镀制特殊、双面、超厚膜，目前市场上并无完善的镀膜设备能够实现，急需一种能完成镀制特殊、双面、超厚膜的镀膜设备。


技术实现要素：

4.本发明的目的在于，提供一种双面卷绕镀膜机，以解决上述的技术问题。
5.为解决上述问题，本发明所采用的技术方案是：
6.一种双面卷绕镀膜机，包括真空室、抽真空系统，以及位于真空室内的镀膜鼓、卷绕系统、蒸发系统和导辊系统，其特征在于：所述真空室的内腔由隔离板分隔为四个腔室；所述卷绕系统包括分别位于真空室两个相对顶角腔室内的第一卷绕机构、第二卷绕机构；所述第一卷绕机构包括第一卷绕辊和位于第一卷绕辊一侧的卷绕距离调整辊，所述第二卷绕机构包括第二卷绕辊和位于第二卷绕辊一侧的卷绕距离调整辊；所述蒸发系统设有两组，分别位于真空室另外两个相对顶角腔室内；所述镀膜鼓设置有两个，包括第一镀膜鼓、第二镀膜鼓，两个镀膜鼓分别位于两组蒸发系统的上方；两个镀膜鼓的下方分别设置有蒸发屏蔽窗口；所述导辊系统包括若干个导辊、展平辊、平衡辊以及展平辊组件。
7.优选的，所述真空室设置有若干个观察窗；所述真空室内的隔离板均为采用冷水降温的水冷隔离板。
8.优选的，所述第一卷绕机构与第一镀膜鼓之间的两个导辊之间设置有厚度检测装置；所述第一镀膜鼓与第二镀膜鼓之间依次设置有展平辊和平衡辊；所述第一镀膜鼓与展平辊之间设置有导辊；所述平衡辊与第二镀膜鼓之间的两个导辊之间也设置有厚度检测装置；所述展平辊组件位于第二镀膜鼓与第二卷绕机构之间，包括展平辊和分别设在展平辊前后两侧的导辊。
9.优选的，所述的第一镀膜鼓、第二镀膜鼓均设置有用于冷却液循环流通的夹层；在两个镀膜鼓的表面涂覆陶瓷材料，且与墙板安装孔采用电气绝缘处理，以施加偏压。
10.优选的，所述展平辊组件与第二卷绕机构之间设置有等离子基材处理器。
11.优选的，所述抽真空系统设置有两组，分别位于两组蒸发系统所在腔室的外部，其采用的抽真空泵为分子泵或者扩散泵。
12.优选的，所述蒸发系统包括能调节高度的蒸发源、位于蒸发源两侧的离子源、气体供应装置和将膜层材料送入蒸发源的送料机构。
13.优选的，所述蒸发系统设置有冷却液循环通道，并能在运载装置的驱动下移出真
空室清理换料，且与运载装置、真空室之间采用电气绝缘处理。
14.优选的，所述蒸发源为电阻蒸发源、感应加热蒸发源或电子枪蒸发源；所述离子源为阳极层条形离子源或射频离子源；所述气体供应装置为氩气供应装置或者氧气供应装置。
15.优选的，所述蒸发屏蔽窗口设有翻转驱动装置，且内设用于冷却液循环流通的空腔或夹层；所述蒸发屏蔽窗口与墙板安装孔间采用电气绝缘处理，以施加偏压。
16.有益效果：与现有技术相比，本发明通过采用两个可逆卷绕系统和两组镀膜鼓、蒸发系统，来实现薄膜基材的双面卷绕和双面镀膜，从而能够满足市场上对于镀制特殊、双面、超厚膜的需求，具有良好的市场前景。
附图说明
17.图1为本发明的实施例1的结构示意图；
18.图2为本发明的实施例2的结构示意图。
具体实施方式
19.下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步说明。
20.实施例1：
21.参照图1，本实施例所述的双面卷绕镀膜机，包括真空室1、抽真空系统16，以及位于真空室1内的镀膜鼓、卷绕系统、蒸发系统和导辊系统。
22.所述真空室1采用不锈钢(或碳钢)制成，设置有若干个观察窗2。所述真空室1的内腔由隔离板3分隔为四个腔室，用于隔离卷绕区、蒸发区，形成不同真空度分布区域，便于镀膜真空度稳定。所述隔离板3均为采用冷水降温的水冷隔离板，具体地说，隔离板3内部设置空腔或者夹层，并设置与空腔或夹层相连通的进水口、出水口，通过冷水在其空腔或夹层内的循环流动实现冷水降温，从而有效吸收真空室内部的热量。
23.所述卷绕系统包括分别位于真空室1内右上角腔室内的第一卷绕机构和位于真空室1的左下角腔室内第二卷绕机构。所述第一卷绕机构包括第一卷绕辊41和位于第一卷绕辊41一侧的卷绕距离调整辊11，所述第二卷绕机构包括第二卷绕辊42和位于第二卷绕辊42一侧的卷绕距离调整辊11。两个卷绕系统均为可逆卷绕系统，整个薄膜运行可逆、倒卷，即：第一卷绕辊41和第二卷绕辊42都可以用于收卷、放卷，当第一卷绕辊41用于放卷时，则第二卷绕辊42用于收卷；当第二卷绕辊42用于放卷时，则第一卷绕辊41用于收卷，从而实现双面卷绕。所述卷绕距离调整辊11的作用是实现两个卷绕辊的定距收、放卷。
24.所述蒸发系统设有两组，分别位于真空室1的左上角腔室、右下角腔室内；所述镀膜鼓设置有两个，包括第一镀膜鼓51、第二镀膜鼓52，两个镀膜鼓分别位于两组蒸发系统的上方，其中第一镀膜鼓51位于左上角腔室上部，第二镀膜鼓52位于右下角腔室上部。所述导辊系统包括若干个导辊15、展平辊14、平衡辊10以及展平辊组件。
25.所述的第一镀膜鼓51、第二镀膜鼓52均设置有用于冷却液循环流通的夹层，夹层内通冷冻液进行冷却。在两个镀膜鼓的表面涂覆陶瓷材料(或者表面镀硬铬并抛光处理)。同时，两个镀膜鼓与墙板安装孔均采用电气绝缘处理，以施加偏压，保证基材接触良好，增强导热、冷却效果。
26.两个镀膜鼓的下方分别设置有蒸发屏蔽窗口8，所述蒸发屏蔽窗口8的功能是膜层材料蒸发后通过窗口在基材上形成镀层，其余被阻挡在窗口外，以防止污染镀膜鼓。两个蒸发屏蔽窗口8均设有翻转驱动装置，以便于清理维护。同时，两个蒸发屏蔽窗口8都内设用于冷却液循环流通的空腔或夹层，夹层内通冷却液，吸收热量，降低蒸发区温度，而且，两个蒸发屏蔽窗口8与墙板安装孔都采用电气绝缘处理，以施加偏压。
27.所述第一卷绕机构与第一镀膜鼓51之间的两个导辊15之间设置有厚度检测装置9。所述第一镀膜鼓51与第二镀膜鼓52之间依次设置有展平辊14和平衡辊10，平衡辊10的作用是用于在镀膜过程中调节两个镀膜鼓之间基材的张力。所述第一镀膜鼓51与展平辊14之间设置有导辊。所述平衡辊10与第二镀膜鼓52之间的两个导辊之间也设置有厚度检测装置9。所述展平辊组件位于第二镀膜鼓52与第二卷绕机构之间，包括展平辊和分别设在展平辊前后两侧的导辊，其作用是能实现薄膜基材双向展平。
28.所述展平辊组件与第二卷绕机构之间设置有等离子基材处理器12，用于处理基材表面，改善基材表面的微观结构，增强镀层性能。
29.所述抽真空系统16设置有两组，分别位于两组蒸发系统所在腔室的外部，其采用的抽真空泵为分子泵或者扩散泵。
30.所述蒸发系统包括能调节高度的蒸发源61、位于蒸发源61两侧的离子源、气体供应装置和将膜层材料送入蒸发源61的送料机构7。所述蒸发源61为电阻蒸发源、感应加热蒸发源、电子枪蒸发源或其他蒸发源，用于蒸发镀膜材料。所述蒸发系统设置有冷却液循环通道，并能在运载装置(比如台车等)的驱动下移出真空室1清理换料，且与运载装置、真空室1之间采用电气绝缘处理。所述蒸发源61的高度调节可以采用丝杆升降调节等现有技术中常规技术手段。
31.所述离子源62的作用是用于改善镀层质量，采用阳极层条形离子源、射频离子源或其他类型离子源。所述气体供应装置为氩气供应装置或者氧气供应装置。
32.实施例2：
33.参照图2，本实施例所述的双面卷绕镀膜机的结构与实施例1的双面卷绕镀膜机结构互为镜像关系，即：本实施例中，所述第一卷绕机构位于真空室1内左上角腔室内的，所述第二卷绕机构位于真空室1的右下角腔室内；所述的两组蒸发系统分别位于真空室1的右上角腔室、左下角腔室内，第一镀膜鼓51位于右上角腔室上部，第二镀膜鼓52位于左下角腔室上部。
34.本发明中未详述的相关技术内容为本技术领域的常规技术手段或者公知常识。
35.以上仅为本发明的实施方式，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构，直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理在本发明的专利保护范围之内。