用于确定辐射斑的中心的方法、传感器和平台设备与流程

技术特征：
1.一种用于确定由传感器辐照在表面上的辐射斑的中心的方法，所述传感器包括辐射源和检测器，所述方法包括以下步骤：
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利用辐射源将第一发射辐射束发射到所述表面上以在所述表面上形成所述辐射斑，其中布置在所述表面处的目标的至少一部分由所述辐射斑辐照，
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利用所述检测器接收第一反射辐射束，所述第一反射辐射束至少包括来自所述辐射斑的由所述目标反射的辐射，
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基于所述第一反射辐射束检测所述目标的存在，
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基于所述第一反射辐射束确定所述目标的第一测量位置，
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基于所述目标的所述第一测量位置确定如至少在第一方向上投影在所述表面上的所述辐射斑的中心。2.根据权利要求1所述的方法，其中
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布置有所述目标的所述表面是物体的上表面，
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当所述物体处于第一位置时确定所述目标的所述第一测量位置，其中，所述方法还包括以下步骤：
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当所述物体处于所述第一测量位置时在接收到所述第一反射辐射束之后，将所述物体布置在至少第二位置，处于至少第二位置的所述物体至少相对于所述第一位置被转动，
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利用所述辐射源发射至少第二发射辐射束到所述表面上以产生所述辐射斑，其中所述目标的至少一部分由所述辐射斑辐照，
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当所述物体处于至少第二位置时利用所述检测器接收至少第二反射辐射束，所述第二反射辐射束至少包括来自辐射斑的由所述目标反射的辐射，
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基于至少所述第二反射辐射束检测所述目标的存在，
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基于至少所述第二反射辐射束确定所述目标的至少第二测量位置，其中，基于所述目标的所述第一测量位置和至少所述第二测量位置两者来进行确定所述辐射斑的所述中心的步骤。3.根据权利要求2所述的方法，其中所述物体至少在所述第二位置相对于所述第一位置绕大致垂直于所述上表面的轴线被转动。4.根据前述任一权利要求所述的方法，其中还在至少第二方向上确定所述辐射斑的中心。5.根据权利要求2所述的方法，还包括通过非线性最小二乘拟合和线性回归中的至少一种确定所述辐射斑的中心的步骤。6.根据权利要求2至5中任一项所述的方法，其中将所述物体布置在至少所述第二位置的步骤包括使用由对准传感器获得的测量数据来对准所述物体。7.根据权利要求1所述的方法，其中，布置有所述目标的所述表面是物体保持器的表面，所述物体保持器被配置成保持待经受所述传感器的测量的物体。8.根据前述权利要求中一项或更多项所述的方法，还包括利用对准传感器确定所述目标的至少第一对准位置的步骤，其中，基于所述第一对准位置进一步进行所述辐射斑的所述中心的确定。9.根据前述权利要求中一项或更多项所述的方法，其中还基于所述目标的光学相互作
用参数来确定所述辐射斑的所述中心。10.一种校准包括辐射源和检测器的传感器的方法，所述方法包括：
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根据前述权利要求中一项或更多项所述的方法确定由所述传感器辐照在表面上的辐射斑的中心，以及
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配置处理单元以基于所述辐射斑的所确定的中心来：i.调整由所述传感器获得的测量结果或测量数据，和/或ii.对于待经受所述传感器的测量的物体，调整所述物体的表面的哪个区域将由所述辐射斑辐照。11.一种传感器，包括：
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辐射源，所述辐射源被配置成将第一发射辐射束发射到表面上以产生辐射斑，其中布置于所述表面处的目标的至少一部分被所述辐射斑辐照，
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检测器，所述检测器被配置成接收至少包括来自所述辐射斑的由所述目标反射的辐射的第一反射辐射束，
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处理单元，所述处理单元被配置成：i.基于所述第一反射辐射束检测所述目标的存在，ii.基于所述第一反射辐射束确定所述目标的第一测量位置，iii.基于所述目标的所述第一测量位置确定如至少在第一方向上被投影在所述表面上的所述辐射斑的中心。12.根据权利要求11所述的传感器，其中所述处理单元被配置成基于所述第一反射辐射束的特性超过阈值来检测所述目标的存在。13.一种平台设备，包括：
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根据权利要求11或权利要求12所述的传感器，
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物体保持器，所述物体保持器被配置成保持待经受所述传感器的测量的物体，
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物体输送装置，所述物体输送装置被配置成将物体布置在所述物体保持器上，
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控制单元，所述控制单元被配置成控制所述物体输送装置以：i.将所述物体布置在所述物体保持器上的第一位置，其中所述目标被布置在校准物体的上表面，以及ii.当所述物体处于所述第一位置时在所述传感器的所述检测器已接收到所述第一反射辐射束之后，将所述校准物体布置在至少第二位置，处于至少第二位置的所述物体至少相对于第一位置被转动，
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其中，所述传感器的所述处理单元还被配置成：i.至少基于第二反射辐射束来确定所述目标的至少第二测量位置，第二反射辐射束由所述检测器接收，并且至少包括当物体处于至少所述第二位置、且所述辐射源将至少第二发射辐射束发射到所述表面上以产生所述辐射斑使得所述目标的至少一部分被所述辐射斑辐照时来自所述辐射斑的由所述目标反射的辐射，ii.基于所述目标的所述第一测量位置和至少所述第二测量位置两者来确定所述辐射斑的中心。14.根据权利要求13所述的平台设备，其中，所述物体输送装置被配置成将所述物体布置在所述第二位置，使得所述校准物体相对于所述第一位置绕大致垂直于所述上表面的轴
线被转动。15.根据权利要求13或权利要求14所述的平台设备，还包括对准传感器，其中所述控制单元被配置成使用由所述对准传感器获得的测量数据来控制所述物体输送装置，以将所述物体布置在至少所述第二位置。

技术总结
一种用于确定由传感器辐照在表面上的辐射斑的中心的方法，所述传感器包括辐射源和检测器。所述方法包括以下步骤：利用辐射源将第一发射辐射束发射到所述表面上以在所述表面上形成所述辐射斑，其中布置在所述表面处的目标的至少一部分由所述辐射斑辐照；利用所述检测器接收第一反射辐射束，所述第一反射辐射束至少包括来自所述辐射斑的由所述目标反射的辐射；基于所述第一反射辐射束检测所述目标的存在；基于所述第一反射辐射束确定所述目标的第一测量位置；基于所述目标的第一测量位置确定如至少在第一方向上投影在所述表面上的所述辐射斑的中心。述辐射斑的中心。述辐射斑的中心。


技术研发人员：M
受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司
技术研发日：2020.06.10
技术公布日：2022/1/28