一种一体黑抗UV显示模组的制作方法

一种一体黑抗uv显示模组
技术领域
1.本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种一体黑抗uv显示模组。


背景技术：

2.随着显示技术的不断发展，消费者对显示装置的外观及耐用性要求越来越高。而显示模组作为显示装置的重要组成部件之一，其性能对显示装置的质量起着至关重要的影响。
3.如图1所示，目前的显示模组主要包括显示模组主体和触摸屏，显示模组主体和触摸屏之间通过空气贴合方式固定，以降低成本。而对于该种方式制作的显示模组，其通过设置slr膜，实现在息屏时的一体黑显示效果，即在显示模组主体和触摸屏的空气接触面均贴设slr膜，通过slr膜反射光线，实现显示模组息屏时的一体黑显示效果。
4.但是，通过上述方式制作的显示模组，其厚度较厚，成本较高。


技术实现要素：

5.本实用新型公开一种一体黑抗uv显示模组，用于解决现有技术中，显示模组的厚度较厚且成本较高的问题。
6.为了解决上述问题，本实用新型采用下述技术方案：
7.提供一种一体黑抗uv显示模组，包括：
8.显示模组主体，所述显示模组主体包括依次设置的背光模组、下偏光片、显示面板和上偏光片；
9.第一slr膜，所述第一slr膜包括镀设在所述上偏光片上的hc层和镀设在hc层上的纳米镀层；
10.第二slr膜，所述第二slr膜包括基板、镀设在所述基板的hc层和镀设在hc层的纳米镀层，且所述第二slr膜的纳米镀层与所述第一slr膜粘接；
11.触摸屏，所述触摸屏包括盖板和依次设置在所述盖板上的抗uv膜、油墨层、触摸传感器，其中所述触摸传感器与所述第二slr膜贴合。
12.可选的，所述第一slr膜的hc层的厚度为4-6μm。
13.可选的，所述第一slr膜的纳米镀层的厚度为0.3-0.5μm。
14.可选的，所述第一slr膜的纳米镀层的材质为sio2、sin、tio2、zro2、mgf2、al2o3、sio或zns。
15.可选的，所述第一slr膜的hc层和纳米镀层均延伸至所述上偏光片的边沿。
16.可选的，所述触摸传感器包括镀在所述抗uv膜上且构成接收通道的第一ito导电层和镀在菲林上且构成驱动通道的第二ito导电层，其中所述菲林的未设置所述第二ito导电层的一侧通过光学胶粘接在所述第一ito导电层上。
17.可选的，所述第一ito导电层包括镀在所述抗uv膜上的ito导电层本体、镀在所述ito导电层本体外围的金属走线和搭接所述ito导电层本体、所述金属走线的搭接位，所述
金属走线和所述搭接位与所述油墨层重叠。
18.可选的，所述第一slr膜和所述第二slr膜之间采用空气贴合结构。
19.可选的，所述基板为tac基板。
20.可选的，所述触摸传感器与所述第二slr膜通过光学胶贴合。
21.本实用新型采用的技术方案能够达到以下有益效果：
22.在该一体黑抗uv显示模组中，由于第一slr膜镀在上偏光片上，因此使第一slr膜减少一层基板的厚度，从而有效减少显示模组的厚度；同时降低显示模组的成本，使产品竞争更有优势。
23.将第一ito导电层镀设在抗uv膜上，可以省去一层菲林，从而进一步减少显示模组的厚度，降低显示模组的制作成本。
附图说明
24.为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，构成本实用新型的一部分，本实用新型的示意性实施例及其说明解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：
25.图1为现有技术公开的显示模组的结构示意图；
26.图2为本实用新型实施例公开的显示模组的结构示意图；
27.图3为本实用新型实施例公开的显示模组的光线反射图；
28.图4为本实用新型实施例公开的盖板的结构示意图；
29.图5为图4的a部放大图。
30.其中，附图1-5中具体包括下述附图标记：
31.显示模组主体-1；第一slr膜-2；第二slr膜-3；触摸屏-4；光学胶-5；光学胶-6；光学胶-7；hc层-21；纳米镀层-22；基板-31；hc层-32；纳米镀层-33；盖板-41；抗uv膜-42；油墨层-43；触摸传感器-44；第一ito导电层-441；第二ito导电层-442；菲林-443；ito导电层本体-445；金属走线-446；搭接位-447。
具体实施方式
32.为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型具体实施例及相应的附图对本实用新型技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
33.如图2所示，本实用新型的一体黑抗uv显示模组包括显示模组主体1、第一slr膜2、第二slr膜3和触摸屏4。显示模组主体1包括依次设置的背光模组、下偏光片、显示面板和上偏光片。第一slr膜2包括镀设在上偏光片上的hc层21(即hardcoating，硬化镀层)和镀设在hc层21上的纳米镀层22，由hc层21和纳米镀层22形成第一slr膜2。第二slr膜3包括基板31、镀设在基板31上的hc层32和镀设在hc层32上的纳米镀层33，第二slr膜3的纳米镀层33粘接在第一slr膜2的纳米镀层22上。触摸屏4包括盖板41以及依次设置在盖板41上的抗uv膜42、油墨层43和触摸传感器44，其中触摸传感器44与第二slr膜3贴合，抗uv膜42可以通过光学
胶5贴在盖板41上，油墨层43镀设在抗uv膜42上。
34.其中，slr膜，即super low reflection film，又称为超低反射光学膜，是一种表面做特殊处理的光学薄膜，利用光的干涉原理和涂膜技术，使其功能面的反射率低于0.1％，以有效地抑制光的反射。目前，为降低成本，显示模组本体1和触摸屏4之间采用空气贴合结构，此时在与空气层接触的两表面(即上偏光片的表面和触摸传感器44的表面)都贴上slr膜，那么因空气而额外产生的反射率将小于0.2％，接近于零，即空气层对光的反射基本不存在，可以视作空气层俨然不存在。这时，当显示模组息屏时，视觉上就会获得全贴合一体黑的效果。
35.在该一体黑抗uv显示模组中，由于第一slr膜2镀在上偏光片上，因此使第一slr膜2减少一层基板的厚度，从而有效减少显示模组的厚度。同时降低显示模组的成本，使产品竞争更有优势。
36.背光模组的结构与通常的相同，可以为直下式背光模组，也可以为侧入式背光模组等。显示面板可以为液晶显示面板，其结构也与通常的相同，在此不做详细赘述。
37.第一slr膜2的hc层21的厚度可以为4-6μm，优选为5um。第一slr膜2的纳米镀层22的厚度为0.3-0.5μm，优选为0.4μm。并且，第一slr膜2的纳米镀层22的材质可以为sio2(二氧化硅)、sin(氮化硅)、tio2(二氧化钛)、zro2(氧化锆)、mgf2(氟化镁)、al2o3(氧化铝)、sio(一氧化硅)或zns(硫化锌)。第一slr膜2的hc层21和纳米镀层22均延伸至上偏光片的边沿，即第一slr膜2的hc层21和纳米镀层22铺满上偏光片。如此设置，提高hc层21和纳米镀层22在上偏光片的固定牢固性，减少将上偏光片贴在显示面板时，hc层21和纳米镀层22被破坏的风险。
38.第二slr膜3的基板31的材质可以为tac(triacetatecellulose，三醋酸纤维素)，成本低，柔软性好。第二slr膜3的hc层32和纳米镀层33的厚度可以与第一slr膜2的hc层21和纳米镀层22的厚度相同，也可以不同，可以根据具体需求具体设定。并且第一slr膜2和第二slr膜3之间采用空气贴合方式粘接，以减少显示模组的制作成本。
39.触摸屏4的抗uv膜42可以基本避免紫外线照射到油墨，减少因油墨老化变色而导致显示模组息屏时一体黑效果变差的风险。然而抗uv膜42对光线的反射率一般在4％左右，如图3所示，其中图3中带有箭头的线条表示光线的传播，此时进入到显示模组内部的光线被第一slr膜2和第二slr膜3反射，实现显示模组息屏时的一体黑显示效果。触摸传感器44包括镀在抗uv膜42上且构成接收通道的第一ito导电层441和设有菲林443且构成驱动通道的第二ito导电层442，其中菲林443的未设置第二ito导电层442的一侧通过光学胶7粘接在第一ito导电层441上。将第一ito导电层441镀设在抗uv膜42上，可以省去一层菲林443，从而进一步减少显示模组的厚度，降低显示模组的制作成本。
40.将第一ito导电层441镀设在抗uv膜42上，其具体结构如图4、图5所示，包括镀设在抗uv膜42上的ito导电层本体445和镀在ito导电层本体445外围且通过搭接位447与ito导电层本体445搭接的金属走线446，金属走线446和搭接位447可以为银线且与油墨层43重叠，其中油墨层43的内侧边缘延伸至与ito导电层本体445重叠。第一ito导电层441的ito导电层本体445与通常的结构相同，在此不做详细赘述。
41.第二ito导电层442的结构与通常的相同，包括镀在菲林443上的ito导电层本体和镀在ito导电层本体外围且通过搭接位与ito导电层本体连通的金属导线，菲林443的未设
置第二ito导电层442的一侧通过光学胶6粘接在第一ito导电层441上。第二ito导电层442的ito导电层本体通过光学胶5与第二slr膜3的基板贴合，光学胶5具体可以为oca光学胶5，透光性好，且成本低。
42.上面结合附图对本实用新型的实施例进行了描述，但是本实用新型并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本实用新型的启示下，在不脱离本实用新型宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，均属于本实用新型的保护之内。