一种一体黑抗UV显示模组的制作方法

技术特征：
1.一种一体黑抗uv显示模组，其特征在于，包括：显示模组主体，所述显示模组主体包括依次设置的背光模组、下偏光片、显示面板和上偏光片；第一slr膜，所述第一slr膜包括镀设在所述上偏光片上的hc层和镀设在hc层上的纳米镀层；第二slr膜，所述第二slr膜包括基板、镀设在所述基板的hc层和镀设在hc层的纳米镀层，且所述第二slr膜的纳米镀层与所述第一slr膜粘接；触摸屏，所述触摸屏包括盖板和依次设置在所述盖板上的抗uv膜、油墨层、触摸传感器，其中所述触摸传感器与所述第二slr膜贴合。2.根据权利要求1所述的一体黑抗uv显示模组，其特征在于，所述第一slr膜的hc层的厚度为4-6μm。3.根据权利要求2所述的一体黑抗uv显示模组，其特征在于，所述第一slr膜的纳米镀层的厚度为0.3-0.5μm。4.根据权利要求3所述的一体黑抗uv显示模组，其特征在于，所述第一slr膜的纳米镀层的材质为sio2、sin、tio2、zro2、mgf2、al2o3、sio或zns。5.根据权利要求4所述的一体黑抗uv显示模组，其特征在于，所述第一slr膜的hc层和纳米镀层均延伸至所述上偏光片的边沿。6.根据权利要求1-5中任一项所述的一体黑抗uv显示模组，其特征在于，所述触摸传感器包括镀在所述抗uv膜上且构成接收通道的第一ito导电层和镀在菲林上且构成驱动通道的第二ito导电层，其中所述菲林的未设置所述第二ito导电层的一侧通过光学胶粘接在所述第一ito导电层上。7.根据权利要求6所述的一体黑抗uv显示模组，其特征在于，所述第一ito导电层包括镀在所述抗uv膜上的ito导电层本体、镀在所述ito导电层本体外围的金属走线和搭接所述ito导电层本体、所述金属走线的搭接位，所述金属走线和所述搭接位与所述油墨层重叠。8.根据权利要求1-5中任一项所述的一体黑抗uv显示模组，其特征在于，所述第一slr膜和所述第二slr膜之间采用空气贴合结构。9.根据权利要求1-5中任一项所述的一体黑抗uv显示模组，其特征在于，所述基板为tac基板。10.根据权利要求1-5中任一项所述的一体黑抗uv显示模组，其特征在于，所述触摸传感器与所述第二slr膜通过光学胶贴合。

技术总结
本实用新型公开一体黑抗UV显示模组，包括：显示模组主体，包括依次设置的背光模组、下偏光片、显示面板和上偏光片；第一SLR膜，包括镀设在上偏光片上的HC层和镀设在HC层上的纳米镀层；第二SLR膜，包括基板、镀设在基板的HC层和镀设在HC层的纳米镀层，且第二SLR膜的纳米镀层与第一SLR膜粘接；触摸屏，包括盖板和依次设置在盖板上的抗UV膜、油墨层、触摸传感器，其中触摸传感器与第二SLR膜贴合。本实用新型中，第一SLR膜镀在上偏光片上，使第一SLR膜减少一层基板的厚度，从而有效减少显示模组的厚度，同时降低显示模组的成本，使产品竞争更有优势。优势。优势。


技术研发人员：邹建华
受保护的技术使用者：信利光电股份有限公司
技术研发日：2021.06.29
技术公布日：2022/1/25