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镀膜机的设备监测方法、装置及镀膜机与流程

2022-02-20 00:35:44 来源:中国专利 TAG:


1.本技术涉及镀膜机技术领域,具体而言,本技术涉及一种镀膜机的设备监测方法、装置及镀膜机。


背景技术:

2.通常,真空镀膜设备腔室内设有镀膜伞架、修正板、挡板及坩埚等设备机构。其中,在真空镀膜设备腔室内设置一个蒸发源,及该镀膜伞架设置在蒸发源的上方。在镀膜过程中,镀膜伞架可转动使得分布在镀膜伞架各处的基片的膜厚均匀。在镀膜伞架与蒸发源之间设置修正板,通过修正板遮挡蒸发源上方的蒸发物,减少了膜层厚度随镀膜伞架的位置造成的差异。
3.此外,镀膜机中设有多个挡板结构,包括有位于蒸发源上方的挡板及位于离子源上方的挡板。在镀膜前,蒸发源中的融料加热至熔融状态,控制位于蒸发源上方的挡板遮盖蒸发源,以防融料蒸发,使得融料加热至稳定可镀膜状态后,收起该挡板。以及,针对安装有离子源辅助镀膜的镀膜机,在离子源的准备阶段挡板起遮挡的作用,待离子源状态稳定至可镀膜状态后收起该挡板,开始薄膜沉积过程。
4.在镀膜过程中,镀膜伞架进行公转和/或自转,修正板和挡板需调整到指定位置,方能保证镀膜的高效率和产品的高质量。但实际中,常发生在镀膜过程中挡板和修正板未调整到指定位置上,以及镀膜伞架转动异常,大大影响了镀膜效果。目前,主要依靠人工观察进行判断,无法及时发现镀膜机腔室内设备机构的异常情况,如挡板和修正板的位置异常及镀膜伞架的运动异常。


技术实现要素:

5.本技术针对现有方式的缺点,提出一种镀膜机的设备监测方法、装置及镀膜机,用以解决现有技术无法及时发现镀膜机腔室内设备机构的异常情况的技术问题。
6.第一个方面,本技术实施例提供了一种镀膜机的设备监测方法,包括:
7.获取在镀膜过程中镀膜机腔室内的多媒体数据;
8.根据所述多媒体数据,确定所述镀膜机腔室内的待测机构的状态信息;
9.当检测到所述待测机构的状态信息满足预设的异常状态条件时,发出相应的第一告警信息。
10.在一些实施例中,所述待测机构包括镀膜伞架、修正板及挡板,通过如下步骤检测所述待测机构的状态信息是否满足预设的异常状态条件,包括:
11.根据所述多媒体数据,确定所述镀膜伞架的伞架转动信息、所述修正板的修正板位置信息以及所述挡板的挡板位置信息;
12.当检测到所述伞架转动信息、所述修正板位置信息及所述挡板位置信息中的至少一项满足对应预设的异常状态条件时,发出相应的第一告警信息,所述异常状态条件包括与所述伞架转动信息对应的异常转动条件、与所述修正板位置信息对应的第一异常位置条
件及与所述挡板位置信息对应的第二异常位置条件。
13.在一些实施例中,所述根据所述多媒体数据,确定所述镀膜伞架的伞架转动信息、所述修正板的修正板位置信息以及所述挡板的挡板位置信息,包括:
14.对所述多媒体数据进行图像识别,以提取出镀膜伞架图像、修正板图像及挡板图像;
15.遍历预设的模板库,分别将所述修正板图像和所述挡板图像进行模板匹配,以获得所述修正板的修正板位置信息及所述挡板的挡板位置信息;
16.根据连续的至少两帧的镀膜伞架图像帧,确定所述镀膜伞架的运动轨迹及所述运动轨迹对应的伞架转动信息。
17.在一些实施例中,所述根据连续的至少两帧的镀膜伞架图像帧,确定所述镀膜伞架的运动轨迹及所述运动轨迹对应的伞架转动信息,包括:
18.确定位于所述镀膜伞架上的伞架参照点;
19.获取连续的至少两帧的镀膜伞架图像帧中所述伞架参照点的位移信息,以便于根据所述位移信息拟合成所述伞架参照点的运动轨迹;
20.将所述伞架参照点的运动轨迹与规划轨迹进行匹配,生成对应的伞架转动信息,所述规划轨迹基于预设转动信息构建而成,所述预设转动信息包括预设转动类型及预设转动类型对应的转速。
21.在一些实施例中,所述异常转动条件包括所述伞架转动信息与预设转动信息不相符;
22.所述第一异常位置条件包括所述修正板位置信息与指定修正板位置不相符;
23.所述第二异常位置条件包括所述挡板位置信息与指定挡板位置不相符。
24.在一些实施例中,所述方法还包括:
25.基于当前的检测结果确定检测计划,所述检测结果包括机构状态信息,所述检测计划包括当前检测与下一次检测之间的检测间隔时间;
26.按照所述检测计划,重新对所述镀膜机腔室内的待测机构的状态信息进行获取后检测;
27.完成所述检测计划后,更新所述检测计划。
28.在一些实施例中,所述基于检测结果确定检测计划,包括:
29.当检测到所述伞架转动信息、所述修正板位置信息及所述挡板位置信息中的任意一项满足所述异常状态条件时,则标识对应的机构状态信息为第一类机构状态,确定相应的第一检测间隔时间;
30.当检测到所述伞架转动信息、所述修正板位置信息及所述挡板位置信息中的任意两项满足所述异常状态条件时,则标识对应的机构状态信息为第二类机构状态,确定相应的第二检测间隔时间;或,
31.当检测到所述伞架转动信息、所述修正板位置信息及所述挡板位置信息均满足所述异常状态条件时,则标识对应的机构状态信息为第三类机构状态,确定相应的第三检测间隔时间;
32.其中,所述第一检测间隔时间大于所述第二检测间隔时间,所述第二检测间隔时间大于所述第三检测间隔时间。
33.在一些实施例中,所述方法还包括:
34.当检测到其状态信息满足所述异常状态条件的待测机构的数量不小于上一次检测中满足所述异常状态条件的待测机构的数量时,发出第二告警信息。
35.第二个方面,本技术实施例提供了一种镀膜机的设备监测装置,包括:
36.多媒体数据获取模块,用于获取在镀膜过程中镀膜机腔室内的多媒体数据;
37.状态信息获取模块,用于根据所述多媒体数据,确定所述镀膜机腔室内的待测机构的状态信息;
38.检测模块,用于当检测到所述待测机构的状态信息满足预设的异常状态条件时,发出相应的第一告警信息。
39.第三个方面,本技术实施例提供了一种镀膜机,包括:如上述实施例所述的镀膜机的设备监测装置。
40.相比现有技术,本技术实施例提供了一种镀膜机的设备监测方法及装置,具有如下有益效果:
41.通过获取在镀膜过程中镀膜机腔室内的多媒体数据,根据所述多媒体数据,确定所述镀膜机腔室内的待测机构的状态信息,当检测到所述待测机构的状态信息满足预设的异常状态条件时,发出相应的第一告警信息,这样在实时监测到镀膜机腔室内设备机构中的至少一个机构处于异常运行状态时,及时告警且及时修正。因此,本技术能够解决现有技术在镀膜过程中无法及时发现镀膜机腔室内设备机构的异常情况的技术问题,实现及时提醒工作人员进行检修与维护,从而提高了镀膜的效率,同时提高了基片膜厚的均匀性,以提高了基片的镀膜质量。
42.本技术实施例提供了一种镀膜机,通过设置上述的镀膜机的设备监测装置,实现实时监测镀膜机腔室内设备机构的运行情况,能够及时发现镀膜机的工作异常情况,并及时发出告警,以提醒工作人员进行检修与维护,提高了镀膜机的镀膜效率,以及提高了基片的镀膜质量。
43.本技术附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出,这些将从下面的描述中变得明显,或通过本技术的实践了解到。
附图说明
44.本技术上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
45.图1为本技术实施例提供的一种镀膜机的设备监测方法的流程示意图;
46.图2为本技术实施例提供的镀膜伞架、修正板及挡板的设备监测方法的流程示意图;
47.图3为本技术实施例提供的一种镀膜机的设备监测装置的结构示意图。
具体实施方式
48.下面结合本技术中的附图描述本技术的实施例。应理解,下面结合附图所阐述的实施方式,是用于解释本技术实施例的技术方案的示例性描述,对本技术实施例的技术方案不构成限制。
49.本技术领域技术人员可以理解,除非特意声明,这里使用的单数形式“一”、“一个”、“所述”和“该”也可包括复数形式。应该进一步理解的是,本技术实施例所使用的术语“包括”以及“包含”是指相应特征可以实现为所呈现的特征、信息、数据、步骤、操作、元件和/或组件(代理人应根据实际方案适应性调整),但不排除实现为本技术领域所支持其他特征、信息、数据、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组合等。应该理解,当我们称一个元件被“连接”或“耦接”到另一元件时,该一个元件可以直接连接或耦接到另一元件,也可以指该一个元件和另一元件通过中间元件建立连接关系。此外,这里使用的“连接”或“耦接”可以包括无线连接或无线耦接。这里使用的术语“和/或”指示该术语所限定的项目中的至少一个,例如“a和/或b”指示实现为“a”,或者实现为“b”,或者实现为“a和b”。
50.为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本技术实施方式作进一步地详细描述。
51.下面首先对本技术设计的镀膜机的结构进行说明:
52.本技术的镀膜机包括但不限于:镀膜伞架、修正板、挡板、摄像设备及镀膜机的设备监测装置。镀膜机腔室内设有镀膜伞架、修正板、挡板及坩埚等设备机构,摄像设备及镀膜机的设备监测装置可设于镀膜机腔室内亦可设于腔室外,本技术对摄像设备及镀膜机的设备监测装置的安装位置不作限定。其中,用于承载基片的镀膜伞架挂设于镀膜机腔室的顶部,镀膜伞架置于蒸发源的上方,在镀膜伞架与蒸发源之间设有修正板,挡板位于蒸发源上方及位于离子源上方。在镀膜过程中,镀膜伞架转动可使分布在镀膜伞架各处的基片的膜厚均匀,通过调整修正板到指定位置,用以遮挡蒸发源上方的蒸发物,减少了膜层厚度随镀膜伞架的位置造成的差异,通过在镀膜前准备阶段调整挡板到指定位置,起到遮挡的作用,如遮挡蒸发源的融料蒸发,并在镀膜过程中收起该挡板。摄像装置,用于在镀膜过程中镀膜机腔室内的镀膜伞架、修正板、挡板及坩埚等设备机构运行情况的视频、图像等多媒体数据。摄像设备与镀膜机的设备监测装置连接,用以将多媒体数据发送至镀膜机的设备监测装置,以便于镀膜机的设备监测装置检测如镀膜伞架、坩埚等运动设备是否正常转动,以及如修正版和挡板等非运动设备是否调整到指定位置。摄像装置与镀膜机的设备监测装置的连接,可以通过有线网络或者无线网络连接,其中,有线网络包括但不限于:通用串行总线,无线网络包括但不限于:wifi、蓝牙等。
53.进一步,本技术的镀膜机还包括监控平台,监控平台与镀膜机的设备监测装置通讯连接,以便于接收镀膜机的设备监测装置发送的设备运行情况、机构状态信息、告警信息等实时信息,使得及时对镀膜机腔室内的设备机构进行调整。监控平台还用于向镀膜机的设备监测装置或摄像装置下发用于控制摄像装置的控制指令,该控制指令用以调整摄像装置的拍摄角度、位置等参数。优选地,监控平台与镀膜伞架、修正板及挡板等镀膜机设备连接,用于根据来自镀膜机的设备监测装置的实时信息,控制设备的动作,如镀膜伞架、坩埚的转动以及修正板、挡板的位置,提升了实时监控与控制流程的智能化程度。其中,监控平台可设置于云端,工作人员可以通过电脑、平板以及手机等终端访问监控平台进行数据查看及控制处理,如,可以通过手机应用远程登录控制。
54.参见图1,为本技术实施例提供的一种镀膜机的设备监测方法的流程示意图,所述方法包括步骤s101至s103。
55.s101、获取在镀膜过程中镀膜机腔室内的多媒体数据。
56.在本技术中,通过摄像设备获取在镀膜过程中镀膜机腔室内的镀膜伞架、坩埚、修正板和挡板等设备机构的运行情况的视频、图像等多媒体数据。摄像设备可设置在镀膜机腔室内,亦可设置在镀膜机腔室外,即通过镀膜机侧壁的可视窗口拍摄镀膜机腔室内的设备机构运行的多媒体数据,本技术不对摄像设备的安装位置作出限定。
57.s102、根据所述多媒体数据,确定所述镀膜机腔室内的待测机构的状态信息。
58.需要说明的是,本技术通过摄像设备获取镀膜机腔室内的多媒体数据,对多媒体数据中的视频图像帧进行图像识别,获得待测机构的图像。进而根据图像识别得到的待测机构的图像,确定待测机构的状态信息,该状态信息包括运动设备机构的转动信息及非运动设备机构的位置信息。其中,图像识别是指利用计算机对图像进行处理、分析和理解,以识别各种不同模式的目标和对象的技术,是应用深度学习算法、计算机视觉算法等人工智能算法的一种实践应用。图像识别一般存在三种识别方式,分别为文字识别、数字图像处理与识别、物体识别。由于对镀膜机来说,其腔室内设备机构的设置区域是固定的,因此在本技术的实施例中,可应用物体识别来识别待测机构所在区域,从而能够实现镀膜机腔室内待测机构的准确识别。
59.s103、当检测到所述待测机构的状态信息满足预设的异常状态条件时,发出相应的第一告警信息。
60.本技术实施例提供了一种镀膜机的设备监测方法,通过获取在镀膜过程中镀膜机腔室内的多媒体数据,根据所述多媒体数据,确定所述镀膜机腔室内的待测机构的状态信息,当检测到所述待测机构的状态信息满足预设的异常状态条件时,发出相应的第一告警信息,这样在实时监测到镀膜机腔室内设备机构中的至少一个机构处于异常运行状态时,及时告警且及时修正。因此,本技术能够解决现有技术在镀膜过程中无法及时发现镀膜机腔室内设备机构的异常情况的技术问题,实现及时提醒工作人员进行检修与维护,从而提高了镀膜的效率,同时提高了基片膜厚的均匀性,以提高了基片的镀膜质量。
61.在一具体实施例中,镀膜机腔室内的待测机构以镀膜伞架、修正板及挡板为例,参见图2,为本技术实施例提供的镀膜伞架、修正板及挡板的设备监测方法的流程示意图,所述方法包括步骤s201至s203。
62.s201、获取在镀膜过程中镀膜机腔室内的多媒体数据。
63.s202、根据所述多媒体数据,确定所述镀膜机腔室内的镀膜伞架的伞架转动信息、修正板的修正板位置信息以及挡板的挡板位置信息。
64.需要说明的是,本技术对多媒体数据中的视频图像帧进行图像识别,获得镀膜伞架图像、修正板图像和挡板图像。进而根据图像识别得到的挡板图像、修正板图像和镀膜伞架图像,确定镀膜伞架的伞架转动信息、修正板的修正板位置信息以及挡板的挡板位置信息。在本实施例中,通过识别镀膜伞架所在区域、修正板所在区域和挡板所在区域,从而能够实现镀膜机腔室内镀膜伞架、修正板和挡板的准确识别。
65.在一些实施例中,步骤s202包括:
66.对所述多媒体数据进行图像识别,以提取出镀膜伞架图像、修正板图像及挡板图像;
67.遍历预设的模板库,分别将所述修正板图像和所述挡板图像进行模板匹配,以获得所述修正板的修正板位置信息及所述挡板的挡板位置信息;
68.根据连续的至少两帧的镀膜伞架图像帧,确定所述镀膜伞架的运动轨迹及所述运动轨迹对应的伞架转动信息。
69.在一优选实施例中,现有技术中常采用阈值分割算法进行图像分割识别,但若镀膜机腔室内挡板和修正板的颜色灰度与腔室背景颜色灰度差异不明显,则常导致图像分割不明显,影响了处理效率和准确度。故,本实施例将所述多媒体数据输入到预设的语义分割模型,以输出镀膜伞架图像、修正板图像及挡板图像。采用语义分割模型对镀膜机腔室内的镀膜伞架、修正板和挡板进行图像识别,实现在镀膜伞架、修正板和挡板所在的目标区域快速提取视频图像帧中的镀膜伞架、修正板和挡板的图像,这样设备机构的图像识别受设备机构与背景环境的灰度色差的影响较小,使得目标设备机构的图像提取的准确度更高。
70.在上述实施例的基础上,在一些实施例中,所述方法包括所述语义分割模型的构建,步骤如下:
71.采集在镀膜过程中镀膜机腔室内的视频图像样本;
72.对所述视频图像样本中的每一个像素进行分类,并标记各个像素对应的类别,所述类别包括镀膜伞架、修正板及挡板;
73.利用标记后的视频图像样本对预设学习模型进行训练,获得语义分割模型。
74.在本实施例中,将在镀膜过程中镀膜机腔室内的视频数据中的若干图像帧作为视频图像样本,按照镀膜伞架、修正板及挡板在镀膜机腔室内的所在区域对视频图像样本中的对应区域的每一个像素进行分类和标记,进而,将标记后的视频图像样本输入到预设学习模型进行训练,得到镀膜机腔室内图像的语义分割模型,该学习模型可以是卷积神经网络、循环神经网络等神经网络模型。示例性的,语义分割模型的训练过程包括对输入的标记后的视频图像样本进行迭代计算,通过模型的多层网络结构处理输入样本,计算模型的输出指与目标值的损失值,利用反向传播梯度算法计算模型的参数,根据更新规则来更新网络中的权重值,但不限于此。
75.在一些实施例中,针对在镀膜过程中无需运动的设备机构,可通过匹配模板库的图像模板,来获得该设备机构的位置信息,以此检测该设备机构是否正常运行。具体的,以修正板和挡板为例,所述遍历预设的模板库,分别将所述修正板图像和所述挡板图像进行模板匹配,以获得所述修正板的修正板位置信息及所述挡板的挡板位置信息,包括:
76.将由图像识别到的修正板图像与预设的模板库中的修正板图像模板进行匹配,获得模板库中与修正板图像匹配度最高的修正板图像模板中修正板的位置信息作为当前的修正板位置信息;
77.将由图像识别到的挡板图像与预设的模板库中的挡板图像模板进行匹配,获得模板库中与挡板图像匹配度最高的挡板图像模板中挡板的位置信息作为当前的挡板位置信息。
78.在本实施例中,模板库的构建包括:预先采集修正板和挡板多个状态时刻下的图像,对采集到的图像进行灰度化、过滤等图像处理;进而对处理后的修正板图像标识相应的修正板位置信息、修正板开闭状态等状态信息,得到修正板图像模板;对处理后的挡板图像标识相应的挡板位置信息、挡板开闭状态等状态信息,得到挡板图像模板,以此完成模板库的构建。需要说明的是,修正板位置信息包括修正板的位置、高度、与预设参照物形成的角度、旋转角度等信息,挡板位置信息包括挡板的位置、高度、与预设参照物形成的角度、旋转
角度等信息。因此,本实施例无需构建图像边缘识别模型等模型来具体识别修正板和挡板的位置及状态,降低了计算复杂度。
79.在一些实施例中,针对在镀膜过程中需运动的设备机构,可通过该设备机构的运动轨迹与规划轨迹是否进行匹配,来获得该设备机构的转动信息,以此检测该设备机构是否正常运行。具体的,以镀膜伞架为例,所述根据连续的至少两帧的镀膜伞架图像帧,确定所述镀膜伞架的运动轨迹及所述运动轨迹对应的伞架转动信息,包括:
80.确定位于所述镀膜伞架上的伞架参照点;
81.获取连续的至少两帧的镀膜伞架图像帧中所述伞架参照点的位移信息,以便于根据所述位移信息拟合成所述伞架参照点的运动轨迹;
82.将所述伞架参照点的运动轨迹与规划轨迹进行匹配,生成对应的伞架转动信息,所述规划轨迹基于预设转动信息构建而成,所述预设转动信息包括预设转动类型及预设转动类型对应的转速。
83.在本实施例中,预先根据预设转动类型及预设转动类型对应的转速,构建规划轨迹,以使在镀膜过程中,通过判断镀膜伞架上的伞架参照点的运动轨迹,以获得镀膜伞架的运动轨迹,并将镀膜伞架的运动轨迹与该规划轨迹进行匹配,即判断镀膜伞架的转动情况是否符合预设转动类型及预设转动类型的转速。其中,所述预设转动类型包括公转和/或自转,即预设转动类型为仅公转、仅自转及同时公转和自转,伞架转动信息包括伞架的转动类型及转动类型对应的转速。
84.具体的,获取连续的至少两帧的镀膜伞架图像帧中伞架参照点的位移信息,位移信息为伞架参照点的位置变化,即伞架参照点的三维坐标的变化。进一步,将伞架参照点的位移信息拟合成伞架参照点的运动轨迹,即获得镀膜伞架的运动轨迹,伞架参照点的运动轨迹上标记有各个时刻的伞架参照点的三维坐标。将拟合到的伞架参照点的运动轨迹与规划轨迹进行匹配,获取该运动轨迹与该规划轨迹之间的差异,使得由该差异检测出镀膜伞架的转动类型、转速等伞架转动信息,能够及时准确地发现镀膜伞架的异常情况。
85.示例性的,镀膜伞架被预先设定为同时公转和自转的转动类型,并将镀膜伞架上其中一个用于安装待镀膜基片的定位孔作为伞架参照点。获取当前帧及前三帧镀膜伞架图像帧,从中识别出该定位孔,并获取该定位孔在连续四帧的镀膜伞架图像帧中的三维坐标,以便于将上述定位孔的三维坐标拟合成空间的运动轨迹,以此推断出镀膜伞架的运动轨迹。进而,将选取的三个时刻下该定位孔的运动轨迹上的三维坐标与规划轨迹上的三维坐标进行匹配。若匹配,将镀膜伞架的伞架转动信息标记为同时公转和自转的转动类型,否则,将该伞架转动信息标记为非同时公转和自转的转动类型。优选的,可按照上述匹配结果进一步判断当前镀膜伞架的转动类型是否为自转或公转,从而具体记录伞架的转动类型,以便于工作人员根据记录信息快速对镀膜伞架进行检修与维护,提高了镀膜效率。更进一步,按照上述匹配结果,计算转速同步时间差、位移同步时间差等数据,以判断该镀膜伞架的公转转速和自转转速分别是否符合预设公转转速和预设自转转速,若是,则以预设公转转速和预设自转转速标识该伞架转动信息,否则,标识该伞架转动信息为非预设公转转速和/或预设自转转速,或是计算到的当前转速数据。
86.同理的,以坩埚为例,在镀膜过程中,融料置于坩埚中进行加热蒸发,坩埚缓慢转动。在本实施例中,确定坩埚上的参照点,根据连续的至少两帧的坩埚图像帧中该参照点的
位移信息,用以拟合该参照点的运动轨迹,即生成坩埚的运动轨迹,进而将该运动轨迹与由坩埚规定的转动类型及该转动类型对应的转速生成的规划轨迹进行匹配,从而获得坩埚的转动信息,以此监测坩埚是否按照规定正常转动。因此,本实施例通过比对运动设备机构上参照点的运动轨迹与规划轨迹之间的差异,能够快速、直观而准确地获知当前运动的设备机构是否按规定正常转动,提高了镀膜监测的及时性。
87.s203、当检测到所述伞架转动信息、所述修正板位置信息及所述挡板位置信息中的至少一项满足对应预设的异常状态条件时,发出相应的第一告警信息,所述异常状态条件包括与所述伞架转动信息对应的异常转动条件、与所述修正板位置信息对应的第一异常位置条件及与所述挡板位置信息对应的第二异常位置条件。
88.在一些实施例中,所述异常转动条件包括所述伞架转动信息与预设转动信息不相符;
89.所述第一异常位置条件包括所述修正板位置信息与指定修正板位置不相符;
90.所述第二异常位置条件包括所述挡板位置信息与指定挡板位置不相符。
91.在本技术中,在步骤s203之前,包括:
92.检测所述伞架转动信息、所述修正板位置信息及所述挡板位置信息是否满足对应预设的异常状态条件。
93.需要说明的是,在镀膜过程中,运动设备机构需按照规定转动,非运动设备机构需调整到指定位置,如修正板需调整到指定修正版位置、挡板需调整到指定挡板位置及镀膜伞架需按照预设转动信息转动,这样镀膜机内待测机构(如修正版、挡板及镀膜伞架)均处于正常运行状态。具体的,指定修正版位置包括修正板的位置、高度、与预设参照物形成的角度、旋转角度等信息,在修正版正常运行的情况下指定修正版位置中所有参数值需与修正板位置信息中所有参数值一一对应。指定挡板位置包括挡板的位置、高度、与预设参照物形成的角度、旋转角度等信息,在挡板正常运行的情况下指定挡板位置中所有参数值需与挡板位置信息中所有参数值一一对应。预设转动信息包括预设转动类型及预设转动类型对应的转速,在镀膜伞架正常转动的情况下预设转动信息中所有参数值需与镀膜伞架的伞架转动信息中所有参数值一一对应。
94.因此,当镀膜伞架的伞架转动信息与预设转动信息不相符时,则认为伞架转动信息满足异常转动条件,即当前镀膜伞架转动异常。当修正板位置信息与指定修正板位置不相符时,则认为修正板位置信息满足第一异常位置条件,即当前修正板的位置异常。当挡板位置信息与指定挡板位置不相符时,则认为挡板位置信息满足第二异常位置条件,即当前挡板的位置异常。这样,若当前镀膜伞架、修正板及挡板中至少一个处于异常状态,则发出相应的第一告警信息。其中,第一告警信息包括但不限于:异常设备机构的名称、该异常设备机构的信息(如镀膜伞架的伞架转动信息、修正板的修正板位置信息以及挡板的挡板位置信息)及机构状态信息,用以提醒当前镀膜机腔室内设备机构的异常运行情况,使得及时针对异常设备机构进行调整,以提高镀膜的效率。
95.此外,当检测到伞架转动信息、修正板位置信息及挡板位置信息均不满足对应异常状态条件,即当前镀膜伞架、修正板及挡板中无一处于异常状态,以上设备机构均正常运行,此时无需发出第一告警信息。
96.因此,本实施例通过获取在镀膜过程中镀膜机腔室内的多媒体数据,根据所述多
媒体数据,确定所述镀膜机腔室内的镀膜伞架的伞架转动信息、修正板的修正板位置信息以及挡板的挡板位置信息,从而当检测到所述伞架转动信息、所述修正板位置信息及所述挡板位置信息中的至少一项满足对应预设的异常状态条件时,发出相应的第一告警信息,这样在实时监测到镀膜伞架、修正板和挡板中的至少一个设备机构处于异常运行状态时,及时告警且及时修正。因此,本技术能够实现实时监测修正板和挡板是否调整到当前指定位置,以及实时监测镀膜伞架的运动情况,使得提醒工作人员进行检修与维护,从而提高了镀膜的效率,同时提高了基片膜厚的均匀性,以提高了基片的镀膜质量。
97.在一些实施例中,所述方法还包括:
98.基于当前的检测结果确定检测计划,所述检测结果包括机构状态信息,所述检测计划包括当前检测与下一次检测之间的检测间隔时间;
99.按照所述检测计划,重新对所述镀膜机腔室内的待测机构的状态信息进行获取后检测;
100.完成所述检测计划后,更新所述检测计划。
101.在本实施例中,由于在镀膜过程中,镀膜机内待测机构的状态可随操作时间或步骤发生变化,如镀膜伞架的伞架转动信息、修正板的修正板位置信息及挡板的挡板位置信息可能随镀膜时间或步骤而发生变化,因此需定时检测待测机构是否按照当前设定正常运行,从而提高了镀膜的效率,同时提高了基片的镀膜质量。具体的,根据当前检测到的检测结果确定本次检测与下一次检测的检测间隔时间,由该检测间隔时间制定检测计划。换言之,根据当前检测结果中设备机构的异常运行情况,设定其对应的监测频率,即该检测间隔时间,以确定检测计划,实现合理调度监控资源。进一步,在执行检测计划,并完成下一次检测后,按照下一次检测到的检测结果重新确定该检测间隔时间,以制定新的检测计划,这样合理分配监测频率,以生成高效率的检测计划,同时降低了监控资源的浪费,降低了计算量。
102.在上述实施例的基础上,在一些实施例中,以镀膜伞架、修正版及挡板为例,所述基于检测结果确定检测计划,包括:
103.当检测到所述伞架转动信息、所述修正板位置信息及所述挡板位置信息中的任意一项满足所述异常状态条件时,则标识对应的机构状态信息为第一类机构状态,确定相应的第一检测间隔时间;
104.当检测到所述伞架转动信息、所述修正板位置信息及所述挡板位置信息中的任意两项满足所述异常状态条件时,则标识对应的机构状态信息为第二类机构状态,确定相应的第二检测间隔时间;或,
105.当检测到所述伞架转动信息、所述修正板位置信息及所述挡板位置信息均满足所述异常状态条件时,则标识对应的机构状态信息为第三类机构状态,确定相应的第三检测间隔时间;
106.其中,所述第一检测间隔时间大于所述第二检测间隔时间,所述第二检测间隔时间大于所述第三检测间隔时间。
107.在本实施例中,检测结果包括机构状态信息,根据机构状态信息确定相应的检测间隔时间,以制定相应的检测计划。具体的,当镀膜伞架转动异常、修正板位置异常或挡板位置异常,则标识对应的机构状态信息为第一类机构状态,分配该第一类机构状态对应的
第一检测间隔时间。当镀膜伞架、修正板及挡板中任意两个设备机构运行异常,则标识对应的机构状态信息为第二类机构状态,分配该第二类机构状态对应的第二检测间隔时间。当镀膜伞架、修正板及挡板均运行异常,则标识对应的机构状态信息为第三类机构状态,分配该第三类机构状态对应的第三检测间隔时间。
108.这样,由于第三类机构状态的异常情况所可能导致的运行风险高于第二类机构状态的运行风险,且第二类机构状态的运行风险高于第一类机构状态的运行风险,因此按照设备机构异常的运行风险及严重程度,将对第三类机构状态的监测频率设为大于第二类机构状态的监测频率,且对第二类机构状态的监测频率设为大于第一类机构状态的监测频率。即,第三检测间隔时间小于第二检测间隔时间,第二检测间隔时间小于第一检测间隔时间,合理分配监测资源,实现了加大监测异常情况相对严重的场景的监测频率,提高了镀膜监测效率。
109.在一实施例中,当检测到所述伞架转动信息、所述修正板位置信息及所述挡板位置信息均不满足所述异常状态条件时,则标识对应的机构状态信息为正常机构状态,确定相应的第四检测间隔时间。其中,由于镀膜机腔室内设备机构处于正常运行状态,此时设备机构运行风险较低,则对正常机构状态的监测频率设为小于第一类机构状态的监测频率,第四检测间隔时间设为大于第一检测间隔时间,以此规划下一次检测计划,降低了监测频率,节省了监测资源。
110.需要说明的是,在当前的检测结果中满足异常状态条件的设备机构的数量小于上一次检测到的满足异常状态条件的设备机构的数量时,降低机构状态信息的运行风险的等级,即第三类机构状态降低为第二类机构状态、第一类机构状态或正常机构状态,第二类机构状态降低为第一类机构状态或正常机构状态,第一类机构状态降低为正常机构状态。同时,对应修改检测间隔时间,这样及时并针对性地调整监测频率,以优化检测计划,提高镀膜过程的监测效率。
111.示例性的,在上一次检测到伞架转动信息满足异常转动条件,以及修正板位置信息满足第一异常位置条件时,即镀膜伞架转动异常及修正板位置异常,挡板位置正常,此时标记机构状态信息为第二类机构状态,分配第二检测间隔时间,以此制定用于下一次检测的检测计划。执行该检测计划,使得在第二检测间隔时间后重新检测设备机构的状态,若检测到仅伞架转动信息满足异常转动条件,即镀膜伞架转动异常,修正板位置正常及挡板位置正常,此时将机构状态信息由第二类机构状态降级为第一类机构状态,同时将第二检测间隔时间修改为第一检测间隔时间,以此更新检测计划,使得在第一检测间隔时间后重新检测设备机构的状态。
112.在一些实施例中,所述方法还包括:
113.当检测到其状态信息满足所述异常状态条件的待测机构的数量不小于上一次检测中满足所述异常状态条件的待测机构的数量时,发出第二告警信息。
114.在本实施例中,不限于在设备机构的设定随时间、步骤等发生变化或在上一次检测出设备机构异常运行但仍未调整的情况,针对当前的检测结果中异常设备机构的数量不小于上一次检测到的异常设备机构的数量,镀膜机内设备机构的异常运行情况与此前相比更为严重或仍未改善,则发出额外的告警信息,即第二告警信息,用以表示当前设备机构的异常运行情况的严重性,需及时检修处理。因此,本实施例通过针对未及时调整为正常运行
状态的设备机构发出第二告警信息,实现及时预警并采取紧急措施,能及时降低异常操作对基片镀膜质量造成的损失。
115.示例性的,在上一次检测到仅镀膜伞架转动异常,修正板位置正常及挡板位置正常,此时标记机构状态信息为第一类机构状态,分配第一检测间隔时间。在第一检测间隔时间后重新检测设备机构的状态,由于当前时刻或镀膜步骤需对修正板位置进行调整。若当前检测到镀膜伞架转动正常,修正板位置异常,挡板位置异常,此时将机构状态信息由第一类机构状态升级为第二类机构状态,可认为当前修正板指定位置和挡板指定位置发生变化而工作人员未及时调整,以此更新检测计划。同理的,若当前检测到镀膜伞架转动异常,修正板位置正常,挡板位置正常,可认为工作人员未按照上一次检测结果及时调整镀膜伞架的转动情况,或当前镀膜伞架的转动信息发生变化而未及时调整,此时机构状态信息仍为第一类机构状态,以第一检测间隔时间确定检测计划。上述两种情况下,发出第二告警信息,以提供工作人员进行紧急监修。
116.优选的,本技术中可分别按照镀膜伞架、修正板及挡板的异常情况,确定检测间隔时间,则第一检测间隔时间、第二检测间隔时间和第三检测间隔时间并不固定,可通过设置镀膜伞架、修正板及挡板的权重及由异常设备机构对应的检测频率来确定。示例性的,镀膜伞架、修正板及挡板的权重依次降低,镀膜伞架、修正板及挡板的检测频率随权重依次降低,使得当检测到镀膜伞架、修正板异常时,按照镀膜伞架、修正板的权重和检测时间,计算对应的第二检测间隔时间。同理的,当检测到挡板、修正板异常时,按照挡板、修正板的权重和检测时间,计算对应的第二检测间隔时间。此时,镀膜伞架和修正板异常时对应的监测频率大于挡板和修正板异常时对应的监测频率,则镀膜伞架和修正板异常时对应的第二检测间隔时间小于挡板和修正板异常时对应的第二检测间隔时间。
117.参见图3,为本技术实施例提供的一种镀膜机的设备监测装置的结构示意图,所述镀膜机的设备监测装置300,包括:
118.多媒体数据获取模块301,用于获取在镀膜过程中镀膜机腔室内的多媒体数据;
119.状态信息获取模块302,用于根据所述多媒体数据,确定所述镀膜机腔室内的待测机构的状态信息;
120.检测模块303,用于当检测到所述待测机构的状态信息满足预设的异常状态条件时,发出相应的第一告警信息。
121.在一些实施例中,所述待测机构包括镀膜伞架、修正板及挡板,所述装置包括:
122.状态信息获取单元,用于根据所述多媒体数据,确定所述镀膜伞架的伞架转动信息、所述修正板的修正板位置信息以及所述挡板的挡板位置信息;
123.状态信息检测单元,用于当检测到所述伞架转动信息、所述修正板位置信息及所述挡板位置信息中的至少一项满足对应预设的异常状态条件时,发出相应的第一告警信息,所述异常状态条件包括与所述伞架转动信息对应的异常转动条件、与所述修正板位置信息对应的第一异常位置条件及与所述挡板位置信息对应的第二异常位置条件。
124.在一些实施例中,状态信息获取单元包括:
125.设备机构图像提取单元,用于对所述多媒体数据进行图像识别,以提取出镀膜伞架图像、修正板图像及挡板图像;
126.修正板和挡板的位置信息获取单元,用于遍历预设的模板库,分别将所述修正板
图像和所述挡板图像进行模板匹配,以获得所述修正板的修正板位置信息及所述挡板的挡板位置信息;
127.伞架转动信息获取单元,用于根据连续的至少两帧的镀膜伞架图像帧,确定所述镀膜伞架的运动轨迹及所述运动轨迹对应的伞架转动信息。
128.在一些实施例中,伞架转动信息获取单元包括:
129.伞架参照点确定单元,用于确定位于所述镀膜伞架上的伞架参照点;
130.参照运动轨迹拟合单元,用于获取连续的至少两帧的镀膜伞架图像帧中所述伞架参照点的位移信息,以便于根据所述位移信息拟合成所述伞架参照点的运动轨迹;
131.运动轨迹匹配单元,用于将所述伞架参照点的运动轨迹与规划轨迹进行匹配,生成对应的伞架转动信息,所述规划轨迹基于预设转动信息构建而成,所述预设转动信息包括预设转动类型及预设转动类型对应的转速。
132.在一些实施例中,所述异常转动条件包括所述伞架转动信息与预设转动信息不相符;
133.所述第一异常位置条件包括所述修正板位置信息与指定修正板位置不相符;
134.所述第二异常位置条件包括所述挡板位置信息与指定挡板位置不相符。
135.在一些实施例中,所述镀膜机的设备监测装置300,还包括:
136.检测计划制定单元,用于基于当前的检测结果确定检测计划,所述检测结果包括机构状态信息,所述检测计划包括当前检测与下一次检测之间的检测间隔时间;
137.检测计划执行单元,用于按照所述检测计划,重新对所述镀膜机腔室内的待测机构的状态信息进行获取后检测;
138.检测计划更新单元,用于完成所述检测计划后,更新所述检测计划。
139.在一些实施例中,检测计划制定单元包括:
140.第一机构状态标识单元,用于当检测到所述伞架转动信息、所述修正板位置信息及所述挡板位置信息中的任意一项满足所述异常状态条件时,则标识对应的机构状态信息为第一类机构状态,确定相应的第一检测间隔时间;
141.第二机构状态标识单元,用于当检测到所述伞架转动信息、所述修正板位置信息及所述挡板位置信息中的任意两项满足所述异常状态条件时,则标识对应的机构状态信息为第二类机构状态,确定相应的第二检测间隔时间;
142.第三机构状态标识单元,用于当检测到所述伞架转动信息、所述修正板位置信息及所述挡板位置信息均满足所述异常状态条件时,则标识对应的机构状态信息为第三类机构状态,确定相应的第三检测间隔时间;
143.其中,所述第一检测间隔时间大于所述第二检测间隔时间,所述第二检测间隔时间大于所述第三检测间隔时间。
144.在一些实施例中,所述镀膜机的设备监测装置300,还包括:
145.告警单元,用于当检测到其状态信息满足所述异常状态条件的待测机构的数量不小于上一次检测中满足所述异常状态条件的待测机构的数量时,发出第二告警信息。
146.本技术实施例的镀膜机的设备监测装置300可执行本技术实施例所提供的镀膜机的设备监测方法,两者的实现原理和有益效果相类似,本技术各实施例的装置中的各模块所执行的动作是与本技术各实施例的方法中的步骤相对应的,对于装置的各模块的详细功
能描述具体可以参见前文中所示的对应方法中的描述,此处不再赘述。
147.本技术实施例提供了一种镀膜机,包括:上述的镀膜机的设备监测装置300。通过设置上述的镀膜机的设备监测装置300,实现实时监测镀膜机腔室内设备机构的运行情况,能够及时发现镀膜机设备机构的异常情况,并及时发出告警,以提醒工作人员进行检修与维护,提高了镀膜机的镀膜效率,以及提高了基片的镀膜质量。
148.以上所述仅是本技术的部分实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本技术的保护范围。
再多了解一些

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