一种处理混合电镀废水的絮凝沉淀池的制作方法

技术特征：
1.一种处理混合电镀废水的絮凝沉淀池，其特征在于：包括第一区域以及第二区域，所述第一区域与所述第二区域为一整体，所述第一区域包括絮凝池以及第一沉淀池，所述第二区域包括ph调节池以及第二沉淀池，所述第一区域用于对废水的ph值进行第一次调节，所述第二区域位于所述第一区域一侧，且所述第一区域与所述第二区域之间设有一溢流堰，废水从第一区域经过所述溢流堰上方到达所述第二区域，所述第二区域用于对废水的ph值进行第二次调节，且通过ph值的调节对废水进行反复沉淀。2.根据权利要求1所述的一种处理混合电镀废水的絮凝沉淀池，其特征在于：所述絮凝池一侧设有一进水口，所述进水口处设有第一挡板，废水从所述进水口经过所述第一挡板进入所述絮凝池，所述第一沉淀池位于所述絮凝池另一侧，且二者之间设有第二挡板，所述絮凝池上端设有第一横板，所述第一横板上设有搅拌器以及自动加药装置，通过预先设置的ph范围对所述自动加药装置进行控制，使药液进入池体内与废水结合。3.根据权利要求1所述的一种处理混合电镀废水的絮凝沉淀池，其特征在于：所述ph调节池内设有相同的所述自动加药装置以及所述搅拌器，所述ph调节池上端设有第二横板，所述自动加药装置以及所述搅拌器均安装在所述第二横板表面，所述ph调节池与所述第二沉淀池之间设有第三挡板，经过所述第一区域处理后废水，从所述溢流堰上端流入所述ph调节池，进行再次处理。4.根据权利要求2或3所述的一种处理混合电镀废水的絮凝沉淀池，其特征在于：所述搅拌器选用单片双叶的机械搅拌器，分别对所述絮凝池与所述ph调节池中的药水搅拌以及ph调节。5.根据权利要求2或3所述的一种处理混合电镀废水的絮凝沉淀池，其特征在于：所述自动加药装置包括控制台、储药仓、加药管以及ph探针，所述储药仓位于所述搅拌器一侧，所述控制台位于所述储药仓外壁，所述加药管一端与所述储药仓出口端相连，所述加药管另一端伸入池体内部，所述储药仓出口端设有一阀体，所述阀体与所述控制台通过电连接，所述ph探针位于所述絮凝池与所述ph调节池的出水端，且所述ph探针与所述控制台通过电连接，所述ph探针探测池中的ph值变化，将数值反馈到所述控制台，所述控制台打开所述阀体，所述储药仓将药液从加药管输送至池中，当池中ph值达到要求后，所述阀体自动关闭。6.根据权利要求2所述的一种处理混合电镀废水的絮凝沉淀池，其特征在于：所述第二挡板与所述第三挡板分别在下端设置出水端，水流经过两挡板下端的出水端，保证搅拌ph达到所需要求以及防止形成的絮凝物堵塞在池中。7.根据权利要求1所述的一种处理混合电镀废水的絮凝沉淀池，其特征在于：所述第一沉淀池与第二沉淀池内一侧分别设有第一泥斗与第二泥斗，且所述第一沉淀池和第二沉淀池的池底设有一坡道，所述絮凝体经过坡道，并在水利作用下，自动进入各自池中后端的泥斗。8.根据权利要求7所述的一种处理混合电镀废水的絮凝沉淀池，其特征在于：所述第一泥斗与所述第二泥斗一侧分别设有排污口，所述排污口分别通过管道与外界的泵体相连，进行排污处理。9.根据权利要求1所述的一种处理混合电镀废水的絮凝沉淀池，其特征在于：所述第一区域的ph值主要针对cr(oh)3与zn(oh)2这类最佳沉淀值，在这一区域内的氢氧化物沉淀进行去除，所述第二区域的ph值主要针对cu(oh)2与ni(oh)2这类最佳沉淀值，在这一区域内
的氢氧化物沉淀进行去除。

技术总结
本发明公开了一种处理混合电镀废水的絮凝沉淀池，包括第一区域以及第二区域，所述第一区域与所述第二区域为一整体，所述第一区域包括絮凝池以及第一沉淀池，所述第二区域包括PH调节池以及第二沉淀池，所述第一区域用于对废水的PH值进行第一次调节，所述第二区域位于所述第一区域一侧，且所述第一区域与所述第二区域之间设有一溢流堰，废水从第一区域经过所述溢流堰上方到达所述第二区域，所述第二区域用于对废水的PH值进行第二次调节，且通过PH值的调节对废水进行反复沉淀，本发明针对中小型电镀废水的混合排放情况，利用一池设计减少占地面积与管线复杂程度，并通过自流设计减少抬升成本，配合pH探针实时监测，实现加药的自动化控制。化控制。化控制。


技术研发人员：罗婷 梁伟豪
受保护的技术使用者：盐城工学院
技术研发日：2021.10.12
技术公布日：2022/1/4