一种全固态无机电致变色复合膜系智能玻璃组件及其制备方法与流程

技术特征：
1.一种全固态无机电致变色复合膜系智能玻璃组件，包括玻璃基底，其特征在于具有如下结构：在玻璃基底上从下到上依次有ito或fto薄膜层、厚100～500nm的wo3薄膜层、厚100～500nm的li 掺杂的alpo4薄膜层、厚100～500nm的nio基薄膜层、ito或fto薄膜层、玻璃基底。2.根据权利要求1所述一种全固态无机电致变色复合膜系智能玻璃组件，其特征在于：所述wo3薄膜为纯的wo3薄膜或wo3掺杂ti
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、ag

、mo
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离子的薄膜。3.根据权利要求1或2所述一种全固态无机电致变色复合膜系智能玻璃组件，其特征在于：所述nio基薄膜为纯的nio薄膜或nio掺杂li

、al
3
、na

、k

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2
、ca
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离子的薄膜。4.根据权利要求1或2所述一种全固态无机电致变色复合膜系智能玻璃组件，其特征在于：所述wo3薄膜层厚度为200～300nm、li 掺杂的alpo4薄膜层厚度为200～350nm、nio基薄膜层厚度为200～350nm。5.根据权利要求1或2所述一种全固态无机电致变色复合膜系智能玻璃组件，其特征在于：所述wo3薄膜层厚度为220～280nm、li 掺杂的alpo4薄膜层厚度为250～300nm、nio基薄膜层厚度为240～320nm。6.一种全固态无机电致变色复合膜系智能玻璃组件的制备方法，其特征在于包括如下步骤：（1）膜系电致变色层与离子存储层制备：以两片透明导电膜玻璃为基底，透明导电膜玻璃为ito或fto镀膜玻璃，在其中一片导电玻璃上以磁控溅射方法制备一层厚100～500nm的wo3基薄膜作为电致变色层，在另一片导电玻璃上以磁控溅射方法制备一层厚100～500nm的nio基薄膜作为离子存储层；（2）膜系无机离子传输层制备：以湿化学溶胶
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凝胶法分别在制备的wo3基与nio基薄膜上制备厚100～500nm的li 掺杂的alpo4薄膜作为离子传输层；（3）电致变色组件制备：将这两片玻璃以湿化学的li 掺杂的alpo4薄膜为介质贴合在一起，然后进行热处理固化玻璃组件中间的湿化学离子传输层，得到本发明所述的全固态无机电致变色复合膜系智能玻璃组件。7.根据权利要求6所述一种全固态无机电致变色复合膜系智能玻璃组件的制备方法，其特征在于：所述步骤（1）中磁控溅射功率为500～2200w，溅射压强为0.2~2.0pa；氩氧气体流量比为10:1～1:1。8.根据权利要求6或7所述一种全固态无机电致变色复合膜系智能玻璃组件的制备方法，其特征在于：所述步骤（2）所述的li 掺杂的alpo4薄膜制备方法包括：浸渍提拉、旋涂、刮涂、辊涂。9.根据权利要求6或7所述一种全固态无机电致变色复合膜系智能玻璃组件的制备方法，其特征在于：所述步骤（3）热处理的温度为150～400℃。

技术总结
本发明涉及一种全固态无机电致变色复合膜系智能玻璃组件及其制备方法，其特征在于：（1）以两片透明导电膜玻璃为基底，透明导电膜玻璃为ITO或FTO镀膜玻璃，在其中一片导电玻璃上以磁控溅射方法制备一层厚100～500nm的WO3基薄膜作为电致变色层，在另一片导电玻璃上以磁控溅射方法制备一层厚100～500nm的NiO基薄膜作为离子存储层；（2）以湿化学溶胶


技术研发人员：汤永康 甘治平 李刚 沈洪雪 王金磊
受保护的技术使用者：中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司
技术研发日：2021.09.25
技术公布日：2022/1/3