吸附工作平台及光刻设备的制作方法

1.本实用新型涉及一种吸附工作平台及光刻设备。


背景技术：

2.光刻，也就是光学蚀刻，是将光照射在光反应材料上，使光反应材料发生反应，通常是依照特定的图案将光照射在光反应材料上以得到需要的结构。光刻一般也称为曝光，进行光刻的设备即光刻机或曝光机。
3.常见的被光刻对象为涂覆有光反应材料的网版、干膜或玻璃等。网版是将纱网固定在木框或钢框上，并在纱网上涂上光反应材料，该网版在经过曝光以及后续的处理后，可以用于印刷布匹。干膜是涂有光反应材料的薄膜，通常用于制造pcb板。涂有光反应材料的玻璃通常是用于制备显示屏。
4.在光刻时，网版一般通过气缸夹紧边框固定在工作平台的台面上，而干膜或玻璃若通过气缸夹紧会被夹翘起或者压碎，目前，一般通过吸气平台进行吸附。但是，当被光刻对象的尺寸相对较小时，被光刻对象无法覆盖工作台面上的所有气孔，则会造成部分气孔一直在进气，无法形成负压或者负压较小，泵体对被光刻对象的吸附力远小于泵体的吸力，被光刻对象无法被紧紧吸附，工作平台的实用性较差。


技术实现要素：

5.本实用新型的目的在于提供能够紧紧吸附各种尺寸工件的吸附工作平台。为达到上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种吸附工作平台，用于光刻设备以吸附工件，所述光刻设备还包括机架和安装在所述机架上的光学装置，所述机架可相对所述吸附工作平台运动，所述吸附工作平台包括吸气平台及与所述吸气平台连接的泵体，所述吸气平台包括具有工作面的吸气平台本体、贯穿所述吸气平台本体设置且与所述泵体连通的若干吸气孔、以及用以封堵所述吸气孔的封堵结构，所述封堵结构封堵部分所述吸气孔形成封堵区域，以使得未被封堵的所述吸气孔在所述工作面上形成吸附区域，从而吸附工件。
6.进一步地，所述封堵结构包括若干封堵组件，每个所述吸气孔内设置有一个所述封堵组件。
7.进一步地，于所述吸气平台的高度方向，所述吸气孔设置有第一开口和第二开口，所述第一开口形成在所述工作面上，所述封堵组件包括设置在所述第一开口和所述第二开口之间的封堵件、以及用以将所述封堵件限位在所述第一开口和所述第二开口之间的弹性件。
8.进一步地，所述封堵件的最大尺寸大于所述第一开口和第二开口的尺寸，所述封堵件和所述第一开口之间具有第一间隙，所述封堵件和所述第二开口之间具有第二间隙。
9.进一步地，所述泵体吸气工作时，所述封堵区域中的封堵件朝向所述第二开口移动并封堵所述第二开口，所述封堵件和所述第二开口处形成负压；所述吸附区域中的工件封堵所述第一开口，所述工件和所述第一开口处形成负压。
10.进一步地，所述封堵件为球体。
11.进一步地，所述封堵组件还包括与所述平台本体连接的支撑件，所述支撑件和所述封堵件相对设置在所述弹性件的两端，所述支撑件上形成有连通所述泵体和所述吸气孔的通道。
12.进一步地，所述封堵结构包括至少一个吸附垫，所述吸附垫可覆盖在所述工作面上与所述吸气孔之间形成负压，以封堵所述吸气孔。
13.进一步地，所述吸附垫的材质为玻璃或亚克力。
14.本实用新型还提供一种光刻设备，包括如上所述的吸附工作平台。
15.本实用新型的有益效果在于：吸附工作平台通过设置封堵结构，将工作面分为吸气孔被封堵形成的封堵区域和吸附工件的吸附区域，从而在泵体吸气时，整个工作面上的所有吸气孔都能形成负压，实现泵体对被工件的吸附力等于或略小于泵体的吸力，使得工件被紧紧吸附并保持平整，便加工，该结构能够紧紧吸附各种尺寸工件且可将工件放置在工作面的任意区域，提高了吸附工作吸气平台的实用性。
16.上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
17.图1为本技术所示的工作平台的结构示意图；
18.图2为本技术第一实施例中所示的工作平台的部分结构剖面图；
19.图3为本技术第一实施例中未覆盖工件且在泵体吸气工作的工作平台的部分结构剖面图；
20.图4为本技术第一实施例中覆盖工件且在泵体吸气工作的工作平台的部分结构剖面图；
21.图5为本技术第二实施例中所示的工作平台的结构示意图；
22.图6为本实用新型所示的光刻设备的结构示意图。
具体实施方式
23.下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
24.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的机构或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
25.此外，下面所描述的本实用新型不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
26.请参见图1，本技术所示的吸附工作平台100，用于光刻设备以吸附工件200 (如图4所示)，其包括吸气平台1及与吸气平台1连接的泵体(未图示)。
27.吸气平台1包括吸气平台本体11及贯穿吸气平台本体11设置且与泵体连通的若干吸气孔12。吸气平台本体11具有工作面111和与工作面111相对设置的底面112，吸气孔12连通工作面111和底面112。吸气平台本体11为长方体形状，且吸气平台本体11的形状和具体尺寸在此不做限定，可根据实际需要进行设置。若干吸气孔12等间距排布在工作面111上，但不仅限于此，若干吸气孔12也可随机排布在工作面111上。本实施例中，吸气孔12的横截面为圆形，但不仅限于此，吸气孔12的横截面也可为其他形状，在此不一一列举。关于吸气孔12的具体数量和具体尺寸和相邻吸气孔12之间的间距，在此不做具体限定，根据实际需要设置即可。吸气孔12与泵体连通，启动泵体，可实现向吸气孔12内吹气或吸气。吸气平台1的底面112可围设形成有与若干吸气孔12连通的腔室(未图示)，该腔室可通过管道(未图示)与泵体连接，从而实现泵体同步向若干吸气孔12内吹气或吸气。关于吸气孔12和泵体的连接方式在此不一一列举。需要说明的是，吸气平台1的高度方向如图1中方向a所示。
28.请参见图2，于吸气平台1的高度方向，吸气孔12设置有第一开口121和第二开口122，第一开口121形成在工作面111上，第二开口122形成在吸气平台本体11内，很显然，吸气孔12还设置有第三开口(未图示)，第三开口形成在底面112上，从而实现经过第一开口121和第三开口贯穿吸气平台本体11。
29.工件200放置在工作面111上，吸气孔12与泵体连接并启动泵体吸气，工件200与吸气孔12形成负压，从而将工件200紧紧吸附在吸气平台1上，即可以将工件200固定，又可以使工件200保持平整，方便加工。为了保证泵体对工件200的吸附力等于或略小于气泵的吸力，则工件200需要覆盖工作面111 上的所有吸气孔12，若工件200的尺寸小于工作面111，使得部分吸气孔12裸露，在泵体吸气时，会造成该部分吸气孔12一直在进气，无法形成负压或者负压较小，导致泵体对工件200的吸附力远小于泵体的吸力，工件200无法被紧紧吸附。
30.吸气平台1一般具有特定尺寸，为了满足对不同尺寸的工件200的吸附，吸气平台1还包括用以封堵吸气孔12的封堵结构，封堵结构封堵部分吸气孔12 形成封堵区域，以使得未被封堵的吸气孔12在工作面11上形成吸附区域，从而在整个所有吸气孔12都形成负压，吸附力等于或略小于气泵的吸力，高效率地吸附工件200。很显然，封堵区域为未被工件200覆盖的吸气孔12形成的区域。
31.请参见图2至图4，本技术第一实施例中的封堵结构包括若干封堵组件13，每个吸气孔12内设置有一个封堵组件13。封堵组件13可在吸气孔12内移动并封堵吸气孔12。具体的，封堵组件13可移动至第二开口122并封堵第二开口 122。
32.封堵组件13包括设置在第一开口121和第二开口122之间的封堵件131、用以将封堵件131限位在第一开口121和第二开口122之间的弹性件132、以及与吸气平台本体11连接的支撑件133。本实施例中，封堵件131为球体，在其他实施例中，封堵件131还可以为椭圆形、方形或者一端具有弧形面的不规则结构，在此不一一列举。封堵件131的最大尺寸大于第一开口121和第二开口 122的尺寸，从而被第一开口121和第二开口122限制在两者之间，具体的，当封堵件131为球体时，球体的直径大于第一开口121和第二开口122的尺寸。
33.弹性件132可为弹簧等具有弹性力的结构，支撑件133和封堵件131相对设置在弹性件132的两端，支撑件133位于第三开口处，支撑件133可与吸气平台本体11一体成型设
置，简化结构，支撑件133上形成有连通泵体和吸气孔的通道1331，第三开口为通道1331在底面112的开口。在其他实施例中，支撑件133也可固定连接在吸气平台本体11上，在此不做具体限定。支撑件133可为空心圆柱体结构或空心长方体结构等，在此不一一列举。
34.弹性件132可与支撑件133和封堵件131抵持接触，在重力作用下，弹性件132与支撑件133抵持，封堵件131与弹性件132抵持，使得封堵件131保持在第一开口121和第二开口122之间。弹性件132也可一端与支撑件133连接固定，另一端与封堵件131连接固定。
35.在泵体不工作时，弹性件132处于自然状态，封堵件131抵接在弹性件132 的一端，且封堵件131和第一开口121之间具有第一间隙，封堵件131和第二开口122之间具有第二间隙，即，此时封堵件131即没有封堵第一开口121，同时也没有封堵第二开口122，启动泵体，可使得气流在吸气孔12内流通。
36.请参见图3，在泵体吸气工作时，未被工件200覆盖的的吸气孔12形成封堵区域，其中的封堵件131朝向第二开口122移动并封堵第二开口122，封堵件 131和第二开口122处形成负压。具体的，在泵体吸气工作时，形成的气流从第一开口121进入吸气孔12，在气流的作用下，封堵件131朝向第二开口122移动，此时弹性件132压缩，气流通过支撑件133的通道1331，并从第三开口进入到泵体，直到封堵件131封堵第二开口122后，封堵件131停止移动，此时封堵件131和第二开口122处形成负压，从而将该吸气孔12封堵，其中，气流方向如箭头所示。泵体停止工作后，封堵件131在弹性件132的作用下，朝向第一开口121位置移动，并移动至第一开口121和第二开口122之间。
37.请参见图4，被工件200覆盖的的吸气孔12形成吸附区域，在泵体吸气工作时，因工件200封堵第一开口121，工件200和第一开口121处立即形成负压，封堵件131保持位置不变，在负压作用下，工件200被牢固吸附在工作面111 上。泵体停止工作后，工件200和第一开口121处的负压消失，其中，气流方向如箭头所示。
38.工件200和第一开口121处形成负压，将工件200吸附在工作面111上，未吸附工件200的吸气孔12中的封堵件131在吸气孔12内移动并封堵吸气孔 12，避免因部分吸气孔12未被工件200覆盖而一直在进气，无法形成负压或者负压较小，吸附力远小于泵体的吸力，从而实现泵体对被工件200的吸附力等于或略小于泵体的吸力，使得工件200被紧紧吸附。可吸附任意尺寸的工件200 且可将工件200放置在工作面111的任意区域，提高了吸附工作吸气平台100 的实用性。
39.请参见图5，本技术第二实施例中的封堵结构包括至少一个吸附垫14，吸附垫14可覆盖在工作面111上与吸气孔12之间形成负压，以封堵吸气孔12，从而将未被工件200覆盖的吸气孔12的覆盖封堵，将整个工作面111上的所有吸气孔12都能形成负压，实现泵体对工件200产生较大的吸附力，工件200和吸附垫14被紧紧吸附在工作面111上，吸附垫14的材质为玻璃或亚克力等材料，吸附垫14还可以为其他表面光滑且容易贴合的材料，在此不一一列举。
40.通常一个吸附工作平台100使用商处理的工件的尺寸只有固定的几种，而且在工作时都是偏向工作面111的一个角落固定，因此可以根据各尺寸工件定制两个吸附垫14即可，操作简单且成本低。
41.请参见图6，本实用新型还提供一种光刻设备001，其包括机座300、设置在机座300上的机架400、设置在机架400上的光学装置500、设置在机座300 上且如上所示的吸附工作
吸气平台100。
42.机架400采用龙门架的结构形式，机架400上沿x方向滑动安装在机座300 上，且机架400可外接动力装置(未图示)，从而动力装置驱动机架400沿x方向在机座300上移动。光学装置500可沿y方向和z方向相对机架400移动，从而可调节光学装置500所在位置，实现对位于吸附工作吸气平台100上的工件200的加工光刻。光学装置500安装在机架400上的方式和移动方式为现有技术，在此不再赘述。
43.光学装置500包括光源(未图示)、dmd(未图示)和镜头组件(未图示)，光源发射的光束投射到dmd上，并由dmd反射后，经过镜头组件形成，并照射工件200，进行刻蚀加工。关于光学装置500的结构为现有技术，在此不再赘述。
44.综上，吸附工作平台通过设置封堵结构，将工作面分为吸气孔被封堵形成的封堵区域和吸附工件的吸附区域，从而在泵体吸气时，整个工作面上的所有吸气孔都能形成负压，实现泵体对被工件的吸附力等于或略小于泵体的吸力，使得工件被紧紧吸附并保持平整，便加工，该结构能够紧紧吸附各种尺寸工件且可将工件放置在工作面的任意区域，提高了吸附工作吸气平台的实用性。
45.以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
46.以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。