一种弧靶用磁铁组的制作方法

1.本实用新型涉及真空电弧离子镀技术领域，尤其涉及一种弧靶用磁铁组。


背景技术：

2.目前，市面上的弧靶所用的磁铁组大多磁力范围小，磁场小，弧靶使用这类的磁铁组工作时弧光范围小，距离近，镀膜效率低，镀膜效果差。


技术实现要素：

3.本实用新型目的在于解决现有技术的问题，提供一种磁力范围大，磁场大的，能提高镀膜效率及镀膜质量的弧靶用磁铁组。
4.本实用新型的技术方案：一种弧靶用磁铁组，其特征在于：包括底座、支架、上盖、若干磁铁；所述支架呈圆柱形，其端面上开设若干安装孔用于安装所述磁铁；所述安装孔分为若干组，均布的开设在所述支架上；相邻两组的安装孔之间呈错位分布；所述支架中部开设通孔ⅰ；所述支架安装在所述底座上，使用上盖固定。
5.进一步，所述安装孔的组数大于等于2。
6.进一步，所述底座上设有凸起，凸起上均布若干螺纹孔；所述凸起与所述通孔ⅰ相匹配；所述底座中部开设螺纹通孔。
7.进一步，所述上盖中部开设通孔ⅱ，其上还开设若干与螺纹孔相匹配的孔ⅲ；所述上盖使用螺丝与所述底座连接。
8.进一步，所述安装孔的数量等于所述磁铁的数量。
9.进一步，三个相互相邻的安装孔围成等边三角形。
10.本实用新型的有益效果：本实用新型采用多组相互错位的安装孔安装磁铁，形成多圈的磁铁组结构，可以让弧光工作范围扩大，有效工作距离增加，提高了镀膜效率，并且使得材料利用率更高，颜色的重复再现性更好；同时磁铁在支架中均布，每三个相互相邻的磁铁之间形成等边三角形分布，使得磁力线形成点面匹配的作用，保证工作中弧光在点和面之间快速切换，保证靶材烧蚀效果能够平稳而同步、同平面消耗，提高了材料的利用效率。
附图说明
11.图1为采用两组安装孔结构的磁铁组爆炸图。
具体实施方式
12.如图所示：一种弧靶用磁铁组，其特征在于：包括底座1、支架2、上盖3、若干磁铁4；所述支架2呈圆柱形，其端面上开设若干安装孔21用于安装所述磁铁4；所述安装孔21分为两组，分别为一组和二组，均布的开设在所述支架2上；一组和二组的安装孔21之间呈错位分布；所述支架2中部开设通孔ⅰ22；所述支架2安装在所述底座1上，使用上盖3固定；所述底
座1上设有凸起11，凸起11上均布若干螺纹孔111；所述凸起11与所述通孔ⅰ22相匹配；所述底座1中部开设螺纹通孔12；所述上盖3中部开设通孔ⅱ31，其上还开设若干与螺纹孔111相匹配的孔ⅲ32；所述上盖3使用螺丝5与所述底座1连接；所述安装孔21的数量等于所述磁铁4的数量。
13.以上所述的实施例仅仅是对本实用新型的优选实施方式进行描述，并非对本发明的范围进行限定，在不脱离本发明设计精神的前提下，本领域普通技术人员对本发明的技术方案作出的各种变形和改进，均应落入本发明权利要求书确定的保护范围内。


技术特征：
1.一种弧靶用磁铁组，其特征在于：包括底座、支架、上盖、若干磁铁；所述支架呈圆柱形，其端面上开设若干安装孔用于安装所述磁铁；所述安装孔分为若干组，均布的开设在所述支架上；相邻两组的安装孔之间呈错位分布；所述支架中部开设通孔ⅰ；所述支架安装在所述底座上，使用上盖固定。2.根据权利要求1所述的一种弧靶用磁铁组，其特征在于：所述安装孔的组数大于等于2。3.根据权利要求1所述的一种弧靶用磁铁组，其特征在于：所述底座上设有凸起，凸起上均布若干螺纹孔；所述凸起与所述通孔ⅰ相匹配；所述底座中部开设螺纹通孔。4.根据权利要求1所述的一种弧靶用磁铁组，其特征在于：所述上盖中部开设通孔ⅱ，其上还开设若干与螺纹孔相匹配的孔ⅲ；所述上盖使用螺丝与所述底座连接。5.根据权利要求1所述的一种弧靶用磁铁组，其特征在于：所述安装孔的数量等于所述磁铁的数量。6.根据权利要求1所述的一种弧靶用磁铁组，其特征在于：三个相互相邻的安装孔围成等边三角形。

技术总结
一种弧靶用磁铁组，其特征在于：包括底座、支架、上盖、若干磁铁；所述支架呈圆柱形，其端面上开设若干安装孔用于安装所述磁铁；所述安装孔分为若干组，均布的开设在所述支架上；相邻两组的安装孔之间呈错位分布；所述支架中部开设通孔Ⅰ；所述支架安装在所述底座上，使用上盖固定；本实用新型采用多组相互错位的安装孔安装磁铁，形成多圈的磁铁组结构，可以让弧光工作范围扩大，有效工作距离增加，提高了镀膜效率，并且使得材料利用率更高，颜色的重复再现性更好。现性更好。现性更好。


技术研发人员：向必忠 温海涛
受保护的技术使用者：厦门铭意真空科技有限公司
技术研发日：2021.07.26
技术公布日：2021/12/31