一种光学曲面硅胶保护膜及其制备方法与流程

技术特征：
1.一种光学曲面硅胶保护膜，其特征在于，依次包括硅胶保护膜层，丙烯酸类硬化涂层，第二pet基层，聚氨酯型热固
‑
uv双段固化层，有机硅压敏胶层和隔离层。2.根据权利要求1所述的光学曲面硅胶保护膜，其特征在于，所述硅胶保护膜层的厚度为35～60μm，丙烯酸类硬化涂层厚度为2～5μm，第二pet基层厚度为12～50μm，聚氨酯型热固
‑
uv双段固化层厚度为30～70μm，有机硅压敏胶层厚度为20～50μm，隔离层厚度为50～100μm。3.根据权利要求1所述的光学曲面硅胶保护膜，其特征在于，所述聚氨酯型热固
‑
uv双段固化层主要由以下重量份的原料组分聚合而成：聚酯多元醇30～50份，异氰酸酯20～25份，扩链剂5～10份，自由基光引发剂1～3份，流平剂0.5～1份，有机铋型催化剂1～5份，有机溶剂18～35份。4.根据权利要求3所述的光学曲面硅胶保护膜，其特征在于，所述聚酯多元醇为聚丁二醇，重均分子量为1000～3000，所述异氰酸酸为六亚甲基二异氰酸酯。5.根据权利要求3所述的光学曲面硅胶保护膜，其特征在于，所述有机溶剂包括二甲基甲酰胺8～15份，甲苯占比5～10份，异丙醇5～10份。6.根据权利要求1所述的光学曲面硅胶保护膜，其特征在于，所述硅胶保护膜层包括第一pet基层和低粘有机硅压敏胶层，所述低粘有机硅压敏胶层的粘度范围为1～5g/inch。7.一种权利要求1～6中任意一项所述的光学曲面硅胶保护膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：在第一pet基层上涂布低粘有机硅压敏胶层，制成硅胶保护膜层；在第二pet基层的一面涂布丙烯酸类硬化涂层；在第二pet基层的另一面涂布聚氨酯型半固化涂层，热固成型；在聚氨酯型半固化涂层表面涂布有机硅压敏胶，制得有机硅压敏胶层，同时贴合隔离膜；将硅胶保护膜层的硅胶面贴合在丙烯酸类硬化涂层表面；采用uv对上述所有膜层进行进一步固化。8.根据权利要求7所述的光学曲面硅胶保护膜的制备方法，其特征在于，所述的硅胶保护膜层和有机硅压敏胶层均为160℃～170℃，5～6min交联固化。9.根据权利要求7所述的光学曲面硅胶保护膜的制备方法，其特征在于，所述丙烯酸类硬化涂层为uv固化。10.根据权利要求7所述的光学曲面硅胶保护膜的制备方法，其特征在于，所述聚氨酯型半固化涂层热固的温度为130～135℃，时间3～5min。

技术总结
本发明公开了一种光学曲面硅胶保护膜，依次包括硅胶保护膜层，丙烯酸类硬化涂层，第二PET基层，聚氨酯型热固


技术研发人员：金闯 刘小磊 华佳明
受保护的技术使用者：江苏斯迪克新材料科技股份有限公司
技术研发日：2021.08.26
技术公布日：2021/12/14