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人造大理石用高强度抗菌的保护膜及制备方法与流程

2021-12-12 23:30:00 来源:中国专利 TAG:

1.本发明涉及一种人造大理石用高强度抗菌的保护膜及其制备方法,属于膜材料加工技术领域。


背景技术:

2.人造大理石是用天然大理石或花岗岩的碎石为填充料,用水泥、石膏和不饱合聚酯树脂为粘剂,经搅拌成型、研磨和抛光后制成。所以人造大理石有许多天然大理石的特性。比如人造大理石由于可人工调节,所以花色繁多、柔韧度较好、衔接处理不明显、整体感非常的强,而且绚丽多彩,具有陶瓷的光泽,外表硬度高、不易损伤、耐腐蚀、耐高温,而且非常容易清洁。
3.人造大理石桌面用pe保护膜,pe是结构最简单的高分子有机化合物。pe保护膜以聚乙烯(pe)塑料薄膜为基材,根据密度的不同分为高密度聚乙烯保护膜、中密度聚乙烯和低密度聚乙烯。pe保护膜需具备如下性能:
4.1、保护膜对人造大理石桌面呈惰性。
5.2、保护膜对人造大理石桌面具有良好的粘附性能,在材料搬运及加工过程中,保护膜不会起翘、脱落;
6.3、保护膜具有较好的耐候性及持粘力稳定性,经数日或久贴剥离力增长不显著,易于揭去,在揭去时人造大理石桌面上没有残胶留存,无留影;
7.4、优异的抗菌和紫外吸收性能。
8.现有技术的人造大理石桌面用pe保护膜的惰性、粘附性能良好,但耐候性和持粘力稳定性一般,时间久以后,剥离时容易残留,且抗菌和紫外吸收性能不能满足高品质使用需求。实际应用中亟待解决这一技术问题。


技术实现要素:

9.本发明的目的在于解决现有技术的不足,提供一种人造大理石用高强度抗菌的保护膜。该保护膜具有较好的耐候性及持粘力稳定性,经数日或久贴剥离力增长不显著,易于揭去,在揭去时人造大理石桌面上没有残胶留存,无留影,且具有良好的抗菌和紫外吸收性能。
10.本发明的目的之二在于提供一种人造大理石用高强度抗菌的保护膜的制备方法。
11.本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
12.一种人造大理石用高强度抗菌的保护膜,其特征在于:原料的重量份组成如下:聚乙烯80

100份,聚烯烃20

30份,2,5

呋喃二甲酸2

5份,抗氧化剂0.5

1.5份,增塑剂0.5

1.5份,润滑剂0.5

1.0份,抗菌剂2

4份,紫外吸收剂1

2份。
13.环烯烃聚合物(cop)是一种具有环状结构的非晶性透明高分子材料,是降冰片烯单体通过茂金属催化剂开环易位聚合后,再对其中的不饱和双键进行氢化得到的聚合物。
14.cop材质主要特点:高透明性、高光泽;高耐热,水蒸汽气密性好;属高耐热性透明
树脂,玻璃化温度达140~170℃;高刚性和高强度;优异的挤出成型性及热成型性;与聚烯烃的亲和性好,优良的生物适应性和化学惰性,耐水解性、耐极性有机溶剂性、耐酸性及耐碱性。本技术的发明人将其用于加工人造大理石用高强度抗菌的保护膜,充分运用了cop材质的主要特点,效果显著。
15.2,5

呋喃二甲酸(2,5

fdca)的分子结构中含有芳香环,用于合成高分子材料可有效提高其耐热性能和机械性能。同时,含有呋喃环的聚酯材料的氧气阻隔性相对用于包装材料的pe可以提高2~10倍,但2,5

fdca的使用也存在缺点,共剂过程中温度的升高导致颜色较深,另外其分子量偏低而导致的拉伸模量低、拉伸强度低等。本技术的发明人通过实践发现,聚乙烯、聚烯烃和2,5

呋喃二甲酸三者组合使用,互相协同,克服了前述缺陷。且制备的保护膜强度、韧性性能优良,具有较好的耐候性及持粘力稳定性,经数日或久贴剥离力增长不显著,易于揭去,在揭去时人造大理石桌面上没有残胶留存,无留影。
16.优选的,聚乙烯90

100份,聚烯烃25

30份,2,5

呋喃二甲酸3

5份,抗氧化剂1

1.2份,增塑剂1

1.2份,润滑剂0.5

0.75份,抗菌剂2

3份,紫外吸收剂1

1.5份。
17.优选的,聚乙烯100份,聚烯烃25份,2,5

呋喃二甲酸3份,抗氧化剂1份,增塑剂1份,润滑剂0.5份,抗菌剂3份,紫外吸收剂1份。
18.优选的,所述抗菌剂为有机抗菌剂或者无机抗菌剂。所述有机抗菌剂为羟苯甲酯,无机抗菌剂为硅胶负载锌

银抗菌剂。
19.优选的,所述聚乙烯为低密度聚乙烯,保护膜厚度:0.05

0.13毫米;剥离强度:0.06

0.07kn/m;抗拉强度:600

800mpa;断裂伸长率:150

180%;耐温性:小于或等于60℃。
20.优选的,所述聚乙烯为中密度聚乙烯,保护膜厚度:0.05

0.13毫米;剥离强度:0.08

0.11kn/m;拉伸强度:600

1000mpa;断裂伸长率:180

200%;耐温性:小于或等于60℃。
21.优选的,所述聚乙烯为高密度聚乙烯,保护膜厚度:0.05

0.13毫米;剥离强度:0.22

0.32kn/m;拉伸强度:600

1100mpa;断裂伸长率:180

220%;耐温性:小于或等于60℃。
22.一种人造大理石用高强度抗菌的保护膜的制备方法,按照所述重量份称取各原料,均匀混合搅拌后,加入共挤吹膜机中吹塑成型,冷却后收卷,得到所述透明超高强度pe膜。所述吹塑成型的温度为150

170℃。
23.本发明的有益效果是:
24.环烯烃聚合物(cop)是一种具有环状结构的非晶性透明高分子材料,是降冰片烯单体通过茂金属催化剂开环易位聚合后,再对其中的不饱和双键进行氢化得到的聚合物。
25.cop材质主要特点:高透明性、高光泽;高耐热,水蒸汽气密性好;属高耐热性透明树脂,玻璃化温度达140~170℃;高刚性和高强度;优异的挤出成型性及热成型性;与聚烯烃的亲和性好,优良的生物适应性和化学惰性,耐水解性、耐极性有机溶剂性、耐酸性及耐碱性。本技术的发明人将其用于加工人造大理石用高强度抗菌的保护膜,充分运用了cop材质的主要特点,效果显著。
26.2,5

呋喃二甲酸(2,5

fdca)的分子结构中含有芳香环,用于合成高分子材料可有效提高其耐热性能和机械性能。同时,含有呋喃环的聚酯材料的氧气阻隔性相对用于包装材料的pe可以提高2~10倍,但2,5

fdca的使用也存在缺点,共剂过程中温度的升高导致颜
色较深,另外其分子量偏低而导致的拉伸模量低、拉伸强度低等。本技术的发明人通过实践发现,聚乙烯、聚烯烃和2,5

呋喃二甲酸三者组合使用,互相协同,克服了前述缺陷。且制备的保护膜强度、韧性性能优良,具有较好的耐候性及持粘力稳定性,经数日或久贴剥离力增长不显著,易于揭去,在揭去时人造大理石桌面上没有残胶留存,无留影。且具有良好的抗菌和紫外吸收性能。
具体实施方式
27.下面通过具体实施例,对本发明的技术方案作进一步的具体说明。
28.实施例1:
29.一种人造大理石用高强度抗菌的保护膜,原料的重量份组成如下:聚乙烯80份,聚烯烃20份,2,5

呋喃二甲酸2份,抗氧化剂0.5份,增塑剂0.5份,润滑剂0.5份,抗菌剂2份,紫外吸收剂1份。所述聚乙烯为低密度聚乙烯,保护膜厚度:0.05

0.13毫米;剥离强度:0.06

0.07kn/m;抗拉强度:600

800mpa;断裂伸长率:150

180%;耐温性:小于或等于60℃。
30.实施例1人造大理石用高强度抗菌的保护膜的制备方法,按照所述重量份称取各原料,均匀混合搅拌后,加入共挤吹膜机中吹塑成型,冷却后收卷,得到所述透明超高强度pe膜。所述吹塑成型的温度为150℃。
31.实施例2
32.一种人造大理石用高强度抗菌的保护膜,其特征在于:原料的重量份组成如下:聚乙烯100份,聚烯烃30份,2,5

呋喃二甲酸5份,抗氧化剂1.5份,增塑剂1.5份,润滑剂1.0份,抗菌剂4份,紫外吸收剂2份。
33.所述聚乙烯为中密度聚乙烯,保护膜厚度:0.05

0.13毫米;剥离强度:0.08

0.11kn/m;拉伸强度:600

1000mpa;断裂伸长率:180

200%;耐温性:小于或等于60℃。
34.实施例2人造大理石用高强度抗菌的保护膜的制备方法,按照所述重量份称取各原料,均匀混合搅拌后,加入共挤吹膜机中吹塑成型,冷却后收卷,得到所述透明超高强度pe膜。所述吹塑成型的温度为170℃。
35.实施例3
36.一种人造大理石用高强度抗菌的保护膜,其特征在于:原料的重量份组成如下:聚乙烯90份,聚烯烃25份,2,5

呋喃二甲酸3份,抗氧化剂1份,增塑剂1份,润滑剂0.5份,抗菌剂2份,紫外吸收剂1份,所述聚乙烯为低密度聚乙烯,保护膜厚度:0.05

0.13毫米;剥离强度:0.06

0.07kn/m;抗拉强度:600

800mpa;断裂伸长率:150

180%;耐温性:小于或等于60℃。
37.实施例3人造大理石用高强度抗菌的保护膜的制备方法,按照所述重量份称取各原料,均匀混合搅拌后,加入共挤吹膜机中吹塑成型,冷却后收卷,得到所述透明超高强度pe膜。所述吹塑成型的温度为160℃。
38.实施例4
39.一种人造大理石用高强度抗菌的保护膜,其特征在于:原料的重量份组成如下:聚乙烯100份,聚烯烃30份,2,5

呋喃二甲酸5份,抗氧化剂1.2份,增塑剂1.2份,润滑剂0.75份,抗菌剂3份,紫外吸收剂1.5份。所述聚乙烯为中密度聚乙烯,保护膜厚度:0.05

0.13毫米;剥离强度:0.08

0.11kn/m;拉伸强度:600

1000mpa;断裂伸长率:180

200%;耐温性:小
于或等于60℃。
40.实施例4人造大理石用高强度抗菌的保护膜的制备方法,按照所述重量份称取各原料,均匀混合搅拌后,加入共挤吹膜机中吹塑成型,冷却后收卷,得到所述透明超高强度pe膜。所述吹塑成型的温度为170℃。
41.实施例5
42.一种人造大理石用高强度抗菌的保护膜,原料的重量份组成如下:聚乙烯100份,聚烯烃25份,2,5

呋喃二甲酸3份,抗氧化剂1份,增塑剂1份,润滑剂0.5份,抗菌剂3份,紫外吸收剂1份。所述聚乙烯为高密度聚乙烯,保护膜厚度:0.05

0.13毫米;剥离强度:0.22

0.32kn/m;拉伸强度:600

1100mpa;断裂伸长率:180

220%;耐温性:小于或等于60℃。
43.实施例5人造大理石用高强度抗菌的保护膜的制备方法,按照所述重量份称取各原料,均匀混合搅拌后,加入共挤吹膜机中吹塑成型,冷却后收卷,得到所述透明超高强度pe膜。所述吹塑成型的温度为170℃。
44.本发明的有益效果是:
45.环烯烃聚合物(cop)是一种具有环状结构的非晶性透明高分子材料,是降冰片烯单体通过茂金属催化剂开环易位聚合后,再对其中的不饱和双键进行氢化得到的聚合物。
46.cop材质主要特点:高透明性、高光泽;高耐热,水蒸汽气密性好;属高耐热性透明树脂,玻璃化温度达140~170℃;高刚性和高强度;优异的挤出成型性及热成型性;与聚烯烃的亲和性好,优良的生物适应性和化学惰性,耐水解性、耐极性有机溶剂性、耐酸性及耐碱性。本技术的发明人将其用于加工人造大理石用高强度抗菌的保护膜,充分运用了cop材质的主要特点,效果显著。
47.2,5

呋喃二甲酸(2,5

fdca)的分子结构中含有芳香环,用于合成高分子材料可有效提高其耐热性能和机械性能。同时,含有呋喃环的聚酯材料的氧气阻隔性相对用于包装材料的pe可以提高2~10倍,但2,5

fdca的使用也存在缺点,共剂过程中温度的升高导致颜色较深,另外其分子量偏低而导致的拉伸模量低、拉伸强度低等。本技术的发明人通过实践发现,聚乙烯、聚烯烃和2,5

呋喃二甲酸三者组合使用,互相协同,克服了前述缺陷。且制备的保护膜强度、韧性性能优良,实施例1

5的保护膜具有较好的耐候性及持粘力稳定性,经数日或久贴剥离力增长不显著,易于揭去,在揭去时人造大理石桌面上没有残胶留存,无留影。
48.1.粘度测试:实施例1

5的保护膜容易附着在表面的材料,不会留下残余物胶。可以弯曲90度,不出现裂纹。
49.2.负载测试:在环境温度为25℃

50℃,粘结360小时负荷。保护膜剥离,表面上也没有残胶。
50.3.紫外老化测试:在环境温度为50℃,60小时暴露于300w uv灯,保护膜无裂纹,剥离后,无残留物。
51.4.潮湿和热老化试验:环境温度为60℃,湿度80%,240小时,保护膜被剥离后不会留下残胶,不腐蚀人造大理石的表面。
52.5.抗菌性能:实施例1

5的保护膜容易附着在表面的材料,环境温度为60℃,湿度80%,240小时,保护膜无微生物滋生。
53.6.紫外吸收性能:实施例1

5的保护膜具有良好的紫外吸收性能,并且可以捕获光
辐射产生的自由基,抑制聚氨酯材料的老化降解,避免人造大理石泛黄。
54.以上所述的实施例只是本发明的一种较佳的方案,并非对本发明作任何形式上的限制,在不超出权利要求所记载的技术方案的前提下还有其它的变体及改型。
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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